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美國(guó)KRI

1978年Kaufman博士在美國(guó)創(chuàng)立Kaufman & Robinson,Inc公司,研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源Gridded和霍爾離子源Gridless。美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng)幾十年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利。 離子源廣泛用于離子清洗 PC,離子蝕刻IBE,輔助鍍膜 IBAD,離子濺射沉積IBSD領(lǐng)域。
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