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【設(shè)備更新儀器推薦】橢圓偏振光譜儀——UVISEL PLUS

來(lái)源：HORIBA（中國(guó)） 更新時(shí)間：2024-04-20 11:15:03 閱讀量：638
導(dǎo)讀：產(chǎn)品名稱(chēng)：橢圓偏振光譜儀 產(chǎn)地：法國(guó) 型號(hào)：UVISEL PLUS典型用戶(hù)：NASA 戈


    產(chǎn)品名稱(chēng)：橢圓偏振光譜儀

    產(chǎn)地：法國(guó)

    型號(hào)：UVISEL PLUS


典型用戶(hù)：NASA 戈達(dá)德太空飛行中心



01
儀器用途及應(yīng)用范圍：


UVISEL 是 20 多年技術(shù)積累和發(fā)展的結(jié)晶，即使在透明的基底上也能對(duì)超薄膜進(jìn)行Z精確的測(cè)量。作為一款高準(zhǔn)確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機(jī)型，它采用了 PEM 相位調(diào)制技術(shù)，與機(jī)械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比， 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。

先進(jìn)功能材料
  • 薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征
  • 材料/ 表面改性研究
  • 粗糙度、孔隙率表征
  • 漸變層、界面層等分析
  • 穿過(guò)率、反射率曲線(xiàn)測(cè)量



汽車(chē)

  • 薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征
  • 表面粗糙度、孔隙率表征
  • 漸變層、界面層分析
  • 透射率、反射率測(cè)量
  • 涂層及鍍層分析



半導(dǎo)體材料
  • 硅片上SiO? 薄膜厚度監(jiān)控
  • 光刻膠n，k（190-2100nm）
  • SiN，SiO? 等膜厚測(cè)試
  • 第三代半導(dǎo)體外延薄膜厚度



能源/光伏

  • 薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征

  • 工藝對(duì)鍍膜的影響分析

  • 漸變層、界面層等分析

  • 膜層不均勻性成像分析

  • 在線(xiàn)監(jiān)測(cè)



02
產(chǎn)品特點(diǎn)：



50 KHz 高頻 PEM 相調(diào)制技術(shù)，測(cè)量光路中無(wú)運(yùn)動(dòng)部件

具備超薄膜所需的測(cè)量精度、超厚膜所需的高光譜分辨率


多個(gè)實(shí)用微光斑尺寸選項(xiàng)


可用于在線(xiàn)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)


自動(dòng)平臺(tái)樣品掃描成像、變溫臺(tái)、電化學(xué)反應(yīng)池、液體池、密封池等


配置靈活，測(cè)量范圍可擴(kuò)展至 190 nm~2100 nm




03
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04
索取樣本、聯(lián)系報(bào)價(jià)


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