鹽酸

在前面幾篇文章中，跟大家一起分享了離子色譜在電子級硝酸、氫氟酸、磷酸和硫酸雜質檢測中的應用。今天我們就再一起看看半導體常用強酸中的ZH一員——鹽酸。

在集成電路制作過程中，基片表面的金屬雜質可能會擴散進入基片，導致器件的性能下降和成品率的降低。因此在沉積金屬前，確?；砻鏇]有金屬雜質是極為重要的。因為鹽酸能和大多數(shù)金屬反應形成水溶性的鹽，然后被水清洗去除，所以使用高純鹽酸進行清洗可有效降低金屬雜質。除此之外，在太陽能電池生產過程中，單晶硅和多晶硅也都會采用鹽酸和氫氟酸的混合液進行清洗。

國內目前對于電子級鹽酸尚無相應標準規(guī)范。SEMI在《SEMI C27-0301 SPECIFICATIONS AND GUIDELINES FOR HYDROCHLORIC ACID》中對半導體用鹽酸中陰離子和金屬雜質都做了規(guī)定。

*SEMI C27-0301中對鹽酸雜質要求的部分截圖

若直接進樣分析鹽酸中的陰離子含量，鹽酸中所含的大量氯離子將嚴重超過陰離子分離柱的飽和柱容量，直接損壞分離柱。因此針對該基體的分析，一般采用稀釋或基體中和的前處理方法，下面我們一起看幾個實際案例。

溴離子的測定

方法一：電導法

先向100mL容量瓶加入50mL左右超純水，然后準確稱取一定量的濃鹽酸于100mL的容量瓶，再加入一定量的超純氫氧化鈉溶液進樣酸堿中和，ZH用超純水定容至刻度，過濾后直接進樣。

色譜柱：Metrosep A Supp 7-250

淋洗液：3.6mM Na₂CO₃溶液

流速：0.7mL/min

進樣體積：20μL

柱溫：45℃

檢測器：電導檢測器

方法二：安培法

濃鹽酸稀釋1000倍后過濾進樣。

色譜柱：Metrosep Anion Dual 2

淋洗液：3.7mmol/L NaHCO₃+ 1.7mmol/L Na₂CO₃+9%丙酮

流速：0.8mL/min

進樣體積：20μL

檢測器：安培檢測器（銀電極）

氟離子和硫酸根含量的測定

將濃鹽酸稀釋20倍后過濾進樣，使用英藍基體中和技術對樣品進行全自動預處理。

色譜柱：Metrosep A Supp 5-250

淋洗液：1.0mmol/L NaHCO₃+ 3.2mmol/L Na₂CO₃

流速：0.7mL/min

進樣體積：10μL

檢測器：電導檢測器

碘離子含量的測定

濃鹽酸稀釋1000倍后過濾進樣。

色譜柱：Metrosep Anion Dual 2

淋洗液：3.6mmol/L NaHCO₃+2.7mmol/L Na₂CO₃+15%丙酮

流速：0.8mL/min

進樣體積：50μL

檢測器：安培檢測器（銀電極）

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