2026高端研磨拋光材料大會暨半導(dǎo)體與光學材料超精密加工論壇將于2026年4月15-16日在河南·鄭州舉辦。
大會信息
大會時間:4月15-16日
大會地點:鄭州天地麗笙酒店(河南省鄭州市惠濟區(qū)英才街1號)
DKSH展臺號:C1
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演講嘉賓
嚴秀英
大昌華嘉 · 產(chǎn)品經(jīng)理
報告主題:
CMP拋光漿料的配方研究和穩(wěn)定性評價
演講時間:
4月15日 14:45-15:10
大昌華嘉深耕材料分析領(lǐng)域,針對半導(dǎo)體CMP制程與光學材料超精密加工的嚴苛需求,提供從原料到成品的全流程檢測方案。核心產(chǎn)品包括用于拋光漿料精確表征的激光粒度粒形分析儀及高濃漿料Zeta電位分析儀,用于穩(wěn)定性與分散性評估的漿料穩(wěn)定性分析儀,為企業(yè)在原料管控、制程優(yōu)化、品質(zhì)升級及成品檢測環(huán)節(jié)提供精準的數(shù)據(jù)支持,助力半導(dǎo)體與光學制造實現(xiàn)高效生產(chǎn)與精益制造。
熱門儀器一覽
高濃漿料Zeta電位分析儀
ZetaProbe是一款采用專利多頻電聲技術(shù)的Zeta電位分析儀。對于高達60% v/v濃度的樣品。也無需稀釋或樣品前處理即可直接測量,非常適用于CMP拋光漿料,陶瓷以及電池漿料等。
漿料穩(wěn)定性分析儀
Turbiscan穩(wěn)定性分析表征工具納入CMP拋光液的研發(fā)、質(zhì)量控制和來料檢驗流程,能夠?qū)崿F(xiàn)從經(jīng)驗性判斷向數(shù)據(jù)化決策的轉(zhuǎn)變。通過持續(xù)監(jiān)測與配方迭代,有望不斷提升漿料產(chǎn)品的穩(wěn)定性,從而為更高精度的半導(dǎo)體制造工藝提供可靠保障。
·CMP拋光液的穩(wěn)定性程度分析
·分散均勻性及不穩(wěn)定性原因分析
·分析運輸與儲存環(huán)境對穩(wěn)定性的影響
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大昌華嘉科學儀器部
大昌華嘉專注于為各行業(yè)提供先進的分析儀器與設(shè)備,代理眾多歐美領(lǐng)先品牌,產(chǎn)品覆蓋材料科學、物性測試及化學分析等多個領(lǐng)域。公司在石油化工、制藥、食品飲料、農(nóng)業(yè)、半導(dǎo)體與電子、工業(yè)材料、新能源等行業(yè),為客戶提供全面的解決方案。
根據(jù)不同的研究應(yīng)用方向,我們設(shè)立四個專業(yè)團隊:
① 材料科學:微納米粒度粒形分析、高濃漿料Zeta電位、接觸角/表面張力測定、物理/化學吸附、比表面及孔隙分析、通孔分析、納米顆粒跟蹤分析(NTA);
② 物理測試及化學分析:旋光/折光/密度測量、水分活度分析、氨基酸檢測、薄層色譜、反應(yīng)量熱;
③ 元素分析:有機元素分析、X射線熒光光譜(XRF)、X射線顯微鏡(XRM)、總有機碳(TOC)、氯離子色譜(CIC)、硫氮氯分析、有機鹵素(AOX);
④ 穩(wěn)定性分析:光散射穩(wěn)定性評估、微流變分析。
我們將持續(xù)以專業(yè)的技術(shù)支持與綜合服務(wù),助力科研與工業(yè)客戶實現(xiàn)更精準、高效的檢測與分析目標。
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