表面技術(shù)隨著工業(yè)技術(shù)的發(fā)展已經(jīng)在工業(yè)生產(chǎn)的各個(gè)領(lǐng)域得到了非常廣泛的應(yīng)用。從客觀上而言，相應(yīng)的表面檢測(cè)手段也需越來越高的要求，尤其是多層工藝為表面加工過程所采用或者在深度方向成分有濃度梯度存在時(shí)，就好對(duì)檢測(cè)工作有比較大的麻煩。在生產(chǎn)實(shí)踐中，許多企業(yè)僅可以按照經(jīng)驗(yàn)估計(jì)或者理論計(jì)算來控制生產(chǎn)。如果要對(duì)生產(chǎn)或科研有較好的理論指導(dǎo),就必須逐層分析表面。輝光放電光譜儀就可以將這一問題比較wan美地進(jìn)行解決。

特點(diǎn)

狹窄的譜線寬度

在輝光放電光源內(nèi)的等離子體中，氬氣具有較低的溫度，并且光源內(nèi)保持一定的低壓,使得洛侖茲效應(yīng)與多普勒效應(yīng)減小了。使得和其他光譜儀相比，其擁有更加狹窄的譜線寬度，也就擁有更少的狹窄譜線間疊加干擾現(xiàn)象。

較小的自吸收效應(yīng)

在輝光放電光譜中，樣品激發(fā)時(shí)的等離子體厚度由于光源的設(shè)計(jì)變薄，也就產(chǎn)生較小的自吸收效，所以可以獲得的校準(zhǔn)曲線的線性范圍較寬。

較小的基體效應(yīng)

在輝光放電光源中，樣品表面原子首先被濺射出來進(jìn)而被激發(fā)的。對(duì)于組成和結(jié)構(gòu)均有所差異的樣品，盡管濺射率不一樣，然而對(duì)元素的激發(fā)過程所產(chǎn)生的效應(yīng)不是太明顯。所以能夠通過對(duì)各標(biāo)準(zhǔn)樣品或純物質(zhì)的濺射率進(jìn)行計(jì)算，校正 測(cè)得的強(qiáng)度，能夠在同一條校準(zhǔn)曲線上制作組成和結(jié)構(gòu)有所差異的樣品中的同一元素。定量深度剖面分析的理論依據(jù)也是如此。

低能級(jí)激發(fā)

樣品表面的原子遭受高能氬離子的轟擊以后被濺射出來往等離子體進(jìn)入，主要受到電子碰撞而被激發(fā)。因?yàn)殡娮与娮铀鶐У哪芰枯^小，使原子處于低能級(jí)的激發(fā)所產(chǎn)生的譜線通常為簡(jiǎn)單的原子譜線,，所以譜線間具有比較小的干擾。