X射線光電子能譜儀，為一種表面分析技術，對材料表面元素及其化學狀態(tài)進行表征為其主要的用途。使用X射線和樣品表面相互作用，通過光電效應，對樣品表面進行激發(fā)，使光電子發(fā)射，光電子動能通過能量分析器加以測量。按照B.E=hv-K.E-W.F，從而使激發(fā)電子的結(jié)合能（B.E)獲得。

技術指標

1、A1/Mg雙陽極靶 

能量分辨率：0.5eV 

靈敏度：255KCPS, 

使用多通道檢測器（MCD）

2、AES: 

分辨率：0.4%, 

電子槍束斑：75nm , 

靈敏度：1Mcps

信噪比：大于70:1 

角分辨：5°～90°. 

3、主真空室：1×10-10 Torr 

4、XPS：0.5eV

研究領域

1、納米分析化學及納米發(fā)光材料研究

2、有機電致發(fā)光材料的表面化學研究

3、在香煙減毒凈化上納米材料的應用研究

4、無機納米殺菌與kang菌材料和其在飲用水凈化上的作用

5、電解水制氧電極材料的研究

6、二氧化鈦納米光催化和在空氣和水凈化方面的應用

7、汽車尾氣凈化催化劑新型金屬載體的研究

8、納米藥物載體及靶向藥物的研究

9、納米導電陶瓷薄膜材料的研究

10、納米雜化超硬薄膜材料及摩擦化學的研究

主要用途

XPS：分析固體樣品的化學狀態(tài)以及表面組成，10納米之內(nèi)為其取樣訊息深度，如下為其功能：

1、線或面上的元素或化學態(tài)分布能夠通過線掃瞄或面掃瞄得以獲得。

2、成像功能

3、能夠進行樣品的原位處理 AES：

（1）能夠進行深度分析，研究高分子材料、摩擦化學、催化劑、微電子材料以及納米薄膜材料的表面和界面研究均比較合適。

（2）能夠進行包含點分析，線分析和面分析樣品表面的微區(qū)選點分析。

4、表面定性與定量分析。比10微米還要小的空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊能夠被獲得。

 5、維持小于10空間的的空間分辨率元素成分包括化學態(tài)的深度分析（團簇離子或氬離子刻蝕方式,角分辨方式）