X射線光電子能譜技術(shù)（XPS）為一種在電子材料與元器件顯微分析中先進的分析技術(shù)，并且經(jīng)常與俄歇電子能譜技術(shù)（AES）配合進行使用的分析技術(shù)。因為和俄歇電子能譜技術(shù)相比較，它能夠?qū)⒃拥膬?nèi)層電子束縛能及其化學位移測量的更為準確，因此其除了可以將分子結(jié)構(gòu)和原子價態(tài)方面的信息提供用于化學研究，而且還可以將各種化合物的元素組成和含量、 化學狀態(tài)、分子結(jié)構(gòu)、化學鍵方面的信息提供用于電子材料研究。其在對電子材料進行分析時，不僅總體方面的化學信息能夠被提供，而且表面、微小區(qū)域和深度分布方面的信息也可以被給出。除此以外，由于入射到樣品表面的X射線束是一種光子束，因此，僅僅對樣品產(chǎn)生非常微小的破壞，改點十分有利于對有機材料和高分子材料的分析。

特點

XPS作為一種現(xiàn)代分析方法，具有如下特點 ：

1、能夠做定量分析。不僅能夠?qū)υ氐南鄬舛燃右詼y定，而且能夠?qū)ο嗤氐牟煌趸瘧B(tài)的相對濃度進行測定。

2、為一種高靈敏超微量表面分析技術(shù)。2納米為樣品分析的深度。信號從表面幾個原子層來，樣品量能夠少到1e-8克，jue對靈敏度能夠達到1e-18克。

3、能夠?qū)Τ薍和He以外的所有元素進行分析，對所有元素的靈敏度的數(shù)量級一致。

4、相鄰元素的同種能級的譜線有著較遠的間隔，所以相互較少干擾，元素定性有著較強的標識性。

5、可以對化學位移進行觀察。原子氧化態(tài)、原子電荷和官能團和化學位移相關(guān)聯(lián)。XPS用作結(jié)構(gòu)分析和化學鍵研究是基于化學位移信息。