氣相沉積技術(shù)是對氣相中發(fā)生的物理、化學(xué)過程加以利用，對工件表面成分進(jìn)行改變，使得具有特殊性能(例如超硬耐磨層或具有特殊的光學(xué)、電學(xué)性能)的金屬或化合物涂層在表面形成的新技術(shù)。氣相沉積一般是將厚度大概為0.5-10微米的一層過渡族元素(鈦、釩、鉻、鋯、鉬、鉭、鈮及鉿)與碳、氮、氧和硼的化合物覆蓋于工件表面。氣相沉積根據(jù)過程的本質(zhì)包括物理氣相沉積以及化學(xué)氣相沉積兩大類。氣相沉積為強(qiáng)化模具表面的新技術(shù)之一，已經(jīng)在各類模具的表面硬化處理方面得到了非常廣泛地應(yīng)用。TiC，TiN為主要應(yīng)用的沉積層。

氣相沉積技術(shù)分類

物理氣相沉積

往真空室中放置金屬、合金或化合物蒸發(fā)(也叫做濺射)，稱為物理氣相沉積、為一定條件下在工件表面上沉積這些氣相原子或分子的工藝。物理氣相沉積包括離子鍍、真空濺射以及真空蒸鍍?nèi)?。相較于CVD，有較快的沉積速度、較低的處理溫度以及沒有公害等為PVD法的主要優(yōu)點(diǎn)。所以實(shí)用價值相當(dāng)高。沉積層與工件有著非常小的結(jié)合力為它的不足之處，鍍層有著較小的均勻性。除此以外，其設(shè)備有著較高的造價，操作維護(hù)的技術(shù)也有了比較高的要求。

化學(xué)氣相沉積

在一定溫度下利用氣態(tài)物質(zhì)在固體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，稱為化學(xué)氣相沉積，并且使得固態(tài)沉積膜在其表面上生成的過程。下述為過程：

（1）反應(yīng)氣體往工件表面擴(kuò)散并且被吸附。

（2）在表面吸附于工件表面的各種物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。

（3）生成物質(zhì)點(diǎn)聚集變成晶體并且增大。

（4）表面化學(xué)反應(yīng)中產(chǎn)生的氣體產(chǎn)物從工件脫離往氣相返回。

（5）元素的互擴(kuò)散在沉積層與基體的界面發(fā)生，使鍍層形成。