氣相沉積技術(shù)是對(duì)氣相中發(fā)生的物理、化學(xué)過(guò)程加以利用，對(duì)工件表面成分進(jìn)行改變，使得具有特殊性能(例如超硬耐磨層或具有特殊的光學(xué)、電學(xué)性能)的金屬或化合物涂層在表面形成的新技術(shù)。氣相沉積一般是將厚度大概為0.5-10微米的一層過(guò)渡族元素(鈦、釩、鉻、鋯、鉬、鉭、鈮及鉿)與碳、氮、氧和硼的化合物覆蓋于工件表面。氣相沉積根據(jù)過(guò)程的本質(zhì)包括物理氣相沉積以及化學(xué)氣相沉積兩大類。氣相沉積為強(qiáng)化模具表面的新技術(shù)之一，已經(jīng)在各類模具的表面硬化處理方面得到了非常廣泛地應(yīng)用。TiC，TiN為主要應(yīng)用的沉積層。

氣相沉積技術(shù)發(fā)展前景

1、方法的符合

比較先進(jìn)的氣相沉積工藝大部分為各種單一PVD，CVD方法的復(fù)合。除了各種新型的加熱源為其所采用，并且脈沖、射頻、微波等各種化學(xué)反應(yīng)高頻電磁以及等離子體等效應(yīng)也被充分地應(yīng)用來(lái)對(duì)沉積粒子進(jìn)行激活。例如多種等離子體激發(fā)的CVD、離子束濺射、反應(yīng)濺射以及反應(yīng)蒸鍍等。

2、工藝的進(jìn)展

膜層性能的提高以及膜層種類的增多為工藝進(jìn)展的主要表現(xiàn)。例如各種高性能的多種陶瓷、梯度和多層復(fù)合膜層、類金剛石和立方氮化硼膜層、熱障膜層、耐高溫腐蝕膜層、以及耐磨、抗蝕膜層已經(jīng)被制備了出來(lái)。

3、設(shè)備的發(fā)展

各種IBAD設(shè)備及PIII設(shè)備、HCD和多弧復(fù)合離子鍍?cè)O(shè)備、、新型弧源離子鍍?cè)O(shè)備、多種型式磁控濺射設(shè)備以及電子束大型連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備被制備了出來(lái)。