本文由 北京歐蘭科技發(fā)展有限公司 整理匯編

2024-09-17 10:48 468閱讀次數(shù)

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  油表面流動(dòng)可視化的Zxin進(jìn)展[詳細(xì)]

  2024-09-19 06:21

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  2024-10-04 19:22

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  2016-06-20 00:00

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• 時(shí)間分辨立體PIV用于管道中流體的可視化分析：3D 流動(dòng)結(jié)

  時(shí)間分辨立體PIV用于管道中流體的可視化分析：3D 流動(dòng)結(jié)[詳細(xì)]

  2024-09-11 17:47

  專利

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• 布魯斯特角顯微鏡-薄膜可視化的強(qiáng)大工具

  布魯斯特角顯微鏡于1991年S次問(wèn)世。自問(wèn)世以來(lái)，它已成為液體表面薄膜成像的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)。 當(dāng)與Langmuir槽結(jié)合使用時(shí)，它可用于將BAM圖像與Langmuir等溫線中的特征相轉(zhuǎn)變點(diǎn)相關(guān)聯(lián)。 這為單分子層形成動(dòng)力學(xué)提供了有價(jià)值的信息。本文主要闡述了布魯斯特角顯微鏡的原理和其在脂質(zhì)單層和分子相互作用、聚合物和納米顆粒單層和石油工業(yè)等領(lǐng)域的應(yīng)用。[詳細(xì)]

  2024-09-21 18:09

  應(yīng)用文章

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• 微波干燥技術(shù)的應(yīng)用進(jìn)展

  闡述了微波干燥的原理、特點(diǎn)以及微波技術(shù)在國(guó)內(nèi)外的研究和應(yīng)用現(xiàn)狀,同時(shí)對(duì)該技術(shù)在復(fù)混肥料干燥中的應(yīng)用進(jìn)行了預(yù)測(cè)分析。 [詳細(xì)]

  2018-06-28 11:52

  期刊論文

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• 鏡面拋光技術(shù)的進(jìn)展

  在機(jī)械加工過(guò)程中，拋光加工技術(shù)作為未端加工工藝，可以明顯改善機(jī)件表面的粗糙度及裝飾效果。 機(jī)件的表面質(zhì)量直接影響整機(jī)設(shè)備的綜合使用性能、精度保持性和使用壽命。 不同的拋光加工工藝，獲得的表面質(zhì)量各有不同 。 通過(guò)對(duì)機(jī)械拋光技術(shù)、電化學(xué)拋光技術(shù)和超聲波拋光技術(shù)的研究，闡述了拋光加工技術(shù)在制造業(yè)中的作用和地位，同時(shí)分析了拋光加工技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)和存在的問(wèn)題。[詳細(xì)]

  2018-08-30 13:17

  期刊論文

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• 氣流粉碎機(jī)的現(xiàn)狀及技術(shù)進(jìn)展

  結(jié)合作者的實(shí)際工作經(jīng)驗(yàn)，以及所接觸的本行業(yè)的國(guó)內(nèi)外先進(jìn)技術(shù)，概述了當(dāng)今粉體工業(yè)上使用的一些氣流粉碎設(shè)備，闡述了當(dāng)前國(guó)內(nèi)外氣流粉碎機(jī)的技術(shù)進(jìn)展情況。[詳細(xì)]

  2018-09-11 17:29

  標(biāo)準(zhǔn)

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• 氦質(zhì)譜檢漏儀的進(jìn)展及應(yīng)用

  氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用已從科研院所、大專院校的實(shí)驗(yàn)室走向工礦企業(yè) ,應(yīng)用領(lǐng)域極其寬廣。[詳細(xì)]

  2024-09-13 00:31

  標(biāo)準(zhǔn)

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• pco.pixelfly-垂直的可視化流場(chǎng)應(yīng)用

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  2024-09-14 01:03

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  2024-09-15 22:39

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• 微波輔助萃取技術(shù)的進(jìn)展

  微波輔助萃取技術(shù)的進(jìn)展[詳細(xì)]

  2004-05-28 00:00

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  2007-10-19 00:00

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• 高效液相色譜整體柱技術(shù)的進(jìn)展

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  2024-09-28 00:38

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• 食用油品質(zhì)的檢測(cè)技術(shù)進(jìn)展

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  2024-09-28 00:42

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• 麻醉機(jī)設(shè)計(jì)的原理及進(jìn)展

  麻醉機(jī)設(shè)計(jì)的原理及進(jìn)展[詳細(xì)]

  2024-09-16 04:51

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• 晶圓上的光刻膠殘留和有機(jī)污染物的可視化

  電子行業(yè)如何通過(guò)使用熒光顯微鏡對(duì)晶圓和半導(dǎo)體進(jìn)行檢測(cè)？無(wú)論是質(zhì)量控制、失 效分析和研發(fā)都能從中受益 對(duì)更強(qiáng)大、更快速的電子設(shè)備（智能手機(jī)、計(jì)算機(jī)、平板電腦、顯示器等）的需求不斷增長(zhǎng)，這推動(dòng)了集成電路（IC）芯片 和半導(dǎo)體組件的圖案尺寸縮小到10納米以下[1-3]。為了實(shí)現(xiàn)更小的納米級(jí)尺寸，紫外光刻圖案化步驟的數(shù)量已經(jīng)增加，隨 之而來(lái)的是刻蝕過(guò)程中的缺陷和有機(jī)污染的可能性增加[2]。這種殘留污染可能對(duì)工藝控制、產(chǎn)量以及電子組件的性能和可 靠性產(chǎn)生負(fù)面影響[詳細(xì)]

  2024-08-22 14:50

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• 空氣恒溫?fù)u床的使用說(shuō)明

  空氣恒溫?fù)u床的使用說(shuō)明[詳細(xì)]

  2014-07-07 00:00

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