本文由 上海昨非實(shí)驗(yàn)室設(shè)備有限公司 整理匯編

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• 光柵基本原理【上】

  目前，大部分的衍射光柵產(chǎn)品均由母版復(fù)制而成，母版制備工藝主要有精密機(jī)械刻劃、可離子束增強(qiáng)的全息制版，另外也有一些諸如半導(dǎo)體光刻等新的科技手段。 光柵方程 一個(gè)典型的衍射光柵包括基底（通常為光學(xué)材料），其表面通過(guò)加工形成的大量平行凹槽，以及表面鍍有的鋁膜等反射膜構(gòu)成。凹槽的質(zhì)量和間距是光柵參數(shù)的關(guān)鍵指標(biāo)。若假定光柵表面與其刻劃方向正交的部分是鋸齒型，可以導(dǎo)出光柵基本方程。[詳細(xì)]

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• 光柵基本原理【下】

  閃耀波長(zhǎng)（Blaze Wavelength） 當(dāng)單色光照射到光柵上，各衍射級(jí)次均會(huì)分得其部分能量，每個(gè)級(jí)次的衍射效率取決于分配到該級(jí)次的光強(qiáng)。由于各種因素的影響，光柵對(duì)不同波長(zhǎng)光的衍射“效率”并非平均分配。通過(guò)改變刻槽的角度、形狀和深度可以對(duì)衍射效率進(jìn)行調(diào)整。通過(guò)改變刻槽形狀來(lái)實(shí)現(xiàn)衍射效率的優(yōu)化稱為閃耀。“閃耀波長(zhǎng)”即是光柵衍射效率ZG的對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)。[詳細(xì)]

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