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光柵基本原理【上】

本文由 青島森泉光電有限公司 整理匯編

2024-09-13 06:14 1031閱讀次數(shù)

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目前,大部分的衍射光柵產(chǎn)品均由母版復制而成,母版制備工藝主要有精密機械刻劃、可離子束增強的全息制版,另外也有一些諸如半導體光刻等新的科技手段。

光柵方程
一個典型的衍射光柵包括基底(通常為光學材料),其表面通過加工形成的大量平行凹槽,以及表面鍍有的鋁膜等反射膜構(gòu)成。凹槽的質(zhì)量和間距是光柵參數(shù)的關(guān)鍵指標。若假定光柵表面與其刻劃方向正交的部分是鋸齒型,可以導出光柵基本方程。

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