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請(qǐng)問多晶硅鑄錠用熔融石英坩堝氮化硅涂層如何制作。

zhizhi1138 2018-11-16 23:16:40 269  瀏覽
  • 我是一位材料研究生,Z近導(dǎo)師接了一個(gè)課題研究多晶硅鑄錠用熔融石英坩堝氮化硅涂層,將主要任務(wù)分給我做,由于小弟才疏學(xué)淺,diyi步如何制作涂層也不會(huì),請(qǐng)教各位大大,還望高人指點(diǎn)... 我是一位材料研究生,Z近導(dǎo)師接了一個(gè)課題研究多晶硅鑄錠用熔融石英坩堝氮化硅涂層,將主要任務(wù)分給我做,由于小弟才疏學(xué)淺,diyi步如何制作涂層也不會(huì),請(qǐng)教各位大大,還望高人指點(diǎn)。謝謝。 展開

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請(qǐng)問多晶硅鑄錠用熔融石英坩堝氮化硅涂層如何制作。
我是一位材料研究生,Z近導(dǎo)師接了一個(gè)課題研究多晶硅鑄錠用熔融石英坩堝氮化硅涂層,將主要任務(wù)分給我做,由于小弟才疏學(xué)淺,diyi步如何制作涂層也不會(huì),請(qǐng)教各位大大,還望高人指點(diǎn)... 我是一位材料研究生,Z近導(dǎo)師接了一個(gè)課題研究多晶硅鑄錠用熔融石英坩堝氮化硅涂層,將主要任務(wù)分給我做,由于小弟才疏學(xué)淺,diyi步如何制作涂層也不會(huì),請(qǐng)教各位大大,還望高人指點(diǎn)。謝謝。 展開
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我公司生產(chǎn)的石英坩堝是采用國(guó)際Z先進(jìn)的生產(chǎn)工藝電弧法生產(chǎn),半透明狀,是拉制大直徑單晶硅,發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。坩堝外側(cè)是一層具有高氣泡密度的區(qū)域,稱為氣泡... 我公司生產(chǎn)的石英坩堝是采用國(guó)際Z先進(jìn)的生產(chǎn)工藝電弧法生產(chǎn),半透明狀,是拉制大直徑單晶硅,發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。坩堝外側(cè)是一層具有高氣泡密度的區(qū)域,稱為氣泡復(fù)合層,內(nèi)側(cè)則是一層3~5mm的透明層,稱之為氣泡空乏層。氣泡復(fù)合層的目的是在與均勻的輻射有加熱器所提供的輻射熱源。氣泡空乏層的目的在于降低與溶液接觸區(qū)域的氣泡密度,而改善單晶生長(zhǎng)的成功率及晶棒品質(zhì)。 噴涂工藝的的增加可以大幅度的改善石英坩堝的使用壽命及長(zhǎng)晶良率。同時(shí)可以增加石英坩堝的強(qiáng)度,減少高溫軟化現(xiàn)象,延長(zhǎng)使用壽命。 我公司生產(chǎn)的石英坩堝常年供應(yīng)給塞維等使用,是塞維公司常年合作伙伴。我公司生產(chǎn)的石英坩堝成晶率在80%—85%左右。規(guī)格有10、12、14、16、18、20、22吋。 歡迎廣大客戶聯(lián)系: jjwking@163.com 展開
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