隨著科學(xué)技術(shù)的不斷革新，先進(jìn)的表面分析技術(shù)已經(jīng)成為材料、能源、催化、微電子、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)以及鋼鐵工業(yè)等領(lǐng)域研究表面特性所必需的實(shí)驗(yàn)技術(shù)。為積極推動(dòng)表面分析應(yīng)用技術(shù)的發(fā)展，促進(jìn)表面分析技術(shù)與其它學(xué)科的融合，更好地結(jié)合表面分析技術(shù)解決問(wèn)題，同時(shí)加強(qiáng)同行之間交流與合作，PHI CHINA將在3月下旬開(kāi)展用戶(hù)線上交流會(huì)， 此次特別邀請(qǐng)了我們具有豐富測(cè)試經(jīng)驗(yàn)的用戶(hù)老師們，給大家?guī)?lái)XPS\AES\TOF-SIMS等在分析測(cè)試的應(yīng)用及案例分享，絕.對(duì)干貨滿滿！具體日程請(qǐng)看下方海報(bào)：

為積極推動(dòng)表面分析應(yīng)用技術(shù)的發(fā)展，促進(jìn)表面分析技術(shù)與其它學(xué)科的融合，更好地結(jié)合表面分析技術(shù)解決問(wèn)題，同時(shí)加強(qiáng)同行之間交流與合作，展示相關(guān)的新成就、新進(jìn)展，PHI CHINA將在2023年3月30日在西安舉辦“2023年表面分析應(yīng)用與技術(shù)交流會(huì)暨西安分會(huì)”。

PHI CHINA熱忱歡迎廣大專(zhuān)家學(xué)者和科研人員積極參與會(huì)議，分享、交流、學(xué)習(xí)、創(chuàng)新。

主辦單位

高德英特（北京）科技有限公司、西北大學(xué)

會(huì)議時(shí)間地址

2023年3月30日

西安-西北大學(xué)

參會(huì)報(bào)名

請(qǐng)掃描下方二維碼完成報(bào)名

會(huì)務(wù)組聯(lián)系方式

James.song@coretechint.com

2、吳婷 13167361283

noreen.wu@coretechint.com

費(fèi)用

本次會(huì)議不收取會(huì)務(wù)費(fèi)。參會(huì)人員食宿及交通費(fèi)自理。

會(huì)議日程安排

主講嘉賓介紹

       新型冠狀病毒感染肺炎疫情防控工作正處于關(guān)鍵時(shí)期，疫情防控關(guān)乎每個(gè)人的生命健康，為減少公眾交叉感染和降低傳播風(fēng)險(xiǎn)，PHI CHINA積極配合國(guó)家的防控工作。PHI CHINA始終秉持初心，在疫情防控期間已經(jīng)著手通過(guò)多種渠道繼續(xù)為我們的用戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)，并于近期通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)平臺(tái)連接我們的客戶(hù)啟動(dòng)光電子能譜ZT網(wǎng)絡(luò)講堂，與大家攜手發(fā)揮好PHI XPS儀器功效，進(jìn)一步推動(dòng)表面分析技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展。

       X射線光電子能譜儀作為表面分析領(lǐng)域重要的大型科學(xué)儀器，廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究和高科技產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域。ULVAC-PHI獨(dú)具特色的掃描聚焦型XPS可以提供高表面靈敏（<10 nm）和高空間分辨(<10 um)的化學(xué)態(tài)解析能力；通過(guò)與UPS和IPES相結(jié)合，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)芯能級(jí)、價(jià)帶和導(dǎo)帶電子結(jié)構(gòu)信息的全面探測(cè)；通過(guò)結(jié)合氬離子和團(tuán)簇離子源（GCIB），可以實(shí)現(xiàn)對(duì)無(wú)機(jī)/有機(jī)多層膜結(jié)構(gòu)材料進(jìn)行深度剖析。為了幫助客戶(hù)深入了解掃描聚焦型X射線光電子能譜儀的技術(shù)特點(diǎn)，提升大型科學(xué)儀器在表面分析中的功用，本期光電子能譜ZT之網(wǎng)絡(luò)講堂將聚焦于光電子能譜原理、儀器結(jié)構(gòu)、數(shù)據(jù)處理、實(shí)驗(yàn)技術(shù)以及日常維護(hù)等基本操作，網(wǎng)絡(luò)講堂具體安排如下：

請(qǐng)?zhí)顚?xiě)以下報(bào)名表格，提供有效Email地址以接收網(wǎng)絡(luò)講堂參會(huì)邀請(qǐng),并于2月7日前回復(fù)

如有任何問(wèn)題，可聯(lián)系:

潘劍南 1861230 0780, nice.pan@coretechint.com

張偉 185 0008 4171, William.zhang@coretechint.com

       新型冠狀病毒感染肺炎疫情防控工作正處于關(guān)鍵時(shí)期，疫情防控關(guān)乎每個(gè)人的生命健康，為減少公眾交叉感染和降低傳播風(fēng)險(xiǎn)，PHI CHINA積極配合國(guó)家的防控工作。PHI CHINA始終秉持初心，在疫情防控期間已經(jīng)著手通過(guò)多種渠道繼續(xù)為我們的用戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)，并于近期通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)平臺(tái)連接我們的客戶(hù)啟動(dòng)光電子能譜ZT網(wǎng)絡(luò)講堂，與大家攜手發(fā)揮好PHI XPS儀器功效，進(jìn)一步推動(dòng)表面分析技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展。
        X射線光電子能譜儀作為表面分析領(lǐng)域重要的大型科學(xué)儀器，廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究和高科技產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域。ULVAC-PHI獨(dú)具特色的掃描聚焦型XPS可以提供高表面靈敏（<10nm）和高空間分辨(<10um)的化學(xué)態(tài)解析能力；通過(guò)與UPS和IPES相結(jié)合，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)芯能級(jí)、價(jià)帶和導(dǎo)帶電子結(jié)構(gòu)信息的全面探測(cè)；通過(guò)結(jié)合氬離子和團(tuán)簇離子源（GCIB），可以實(shí)現(xiàn)對(duì)無(wú)機(jī)/有機(jī)多層膜結(jié)構(gòu)材料進(jìn)行深度剖析。為了幫助客戶(hù)深入了解掃描聚焦型X射線光電子能譜儀的技術(shù)特點(diǎn)，提升大型科學(xué)儀器在表面分析中的功用，本期光電子能譜ZT之網(wǎng)絡(luò)講堂將聚焦于光電子能譜原理、儀器結(jié)構(gòu)、數(shù)據(jù)處理、實(shí)驗(yàn)技術(shù)以及日常維護(hù)等基本操作，網(wǎng)絡(luò)講堂具體安排如下：

       報(bào)名地址：https://mp.weixin.qq.com/s/xjK9LAuNDSfoyNX2mPVFgw

       請(qǐng)于2月7日前報(bào)名，并提供有效E-mail地址以接收網(wǎng)絡(luò)講堂參會(huì)邀請(qǐng)，謝謝！

       如有任何問(wèn)題，可聯(lián)系：潘劍南 186 1230 0780  Nice.pan@coretchint.com張   偉  185 0008 4171 William.zhang@coretechint.com

       繼上期面向PHI用戶(hù)的表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂的成功舉辦，本期面向高校師生的網(wǎng)絡(luò)講堂也如約而至，在昨天（2月20日）為小伙伴們開(kāi)講了diyi課，共有來(lái)自90多所高校和科研院所的千余名師生參加。在接下來(lái)的三周，將有更精彩的內(nèi)容呈現(xiàn)給大家，讓我們一起來(lái)探索表面分析的世界！

       當(dāng)前新型冠狀病毒疫情防控工作正處于關(guān)鍵時(shí)期，疫情防控關(guān)乎每個(gè)人的生命健康，為減少公眾交叉感染和降低傳播風(fēng)險(xiǎn)，高校都已經(jīng)宣布推遲春季學(xué)期開(kāi)學(xué)。雖然現(xiàn)在只能宅在家里，但是疫情是暫時(shí)的，學(xué)習(xí)是長(zhǎng)遠(yuǎn)的，待到春暖花開(kāi)時(shí)，小伙伴們就可以奔赴科研戰(zhàn)線，攀登科學(xué)的高峰！X射線光電子能譜儀作為表面分析領(lǐng)域重要的大型科學(xué)儀器，廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究和高科技產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域。ULVAC-PHI獨(dú)具特色的掃描聚焦型XPS可以提供高表面靈敏（<10 nm）和高空間分辨(<10 um)的化學(xué)態(tài)解析能力；通過(guò)與UPS和IPES相結(jié)合，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)芯能級(jí)、價(jià)帶和導(dǎo)帶電子結(jié)構(gòu)信息的全面探測(cè)；通過(guò)結(jié)合氬離子和團(tuán)簇離子源（GCIB），可以實(shí)現(xiàn)對(duì)無(wú)機(jī)/有機(jī)多層膜結(jié)構(gòu)材料進(jìn)行深度剖析；通過(guò)專(zhuān)業(yè)的XPS數(shù)據(jù)處理軟件MultiPak可實(shí)現(xiàn)對(duì)數(shù)據(jù)的定性和定量分析。

       X射線光電子能譜（XPS）已經(jīng)是材料分析中離不開(kāi)的利器，但是小伙伴們對(duì)測(cè)試和數(shù)據(jù)分析還是有些疑問(wèn)，樣品怎么準(zhǔn)備，如何進(jìn)行微區(qū)分析，深度分析中膜厚怎么計(jì)算，數(shù)據(jù)如何擬合，UPS功函數(shù)如何計(jì)算，如果測(cè)試導(dǎo)帶和帶隙，測(cè)試得不到滿意結(jié)果...您是不是也有類(lèi)似的困惑嗎？為了幫助小伙伴們深入了解XPS的功能特點(diǎn)和數(shù)據(jù)解析，讓XPS助力提升科研工作，本期光電子能譜ZT之網(wǎng)絡(luò)講堂面向科研一線的師生，將詳細(xì)講解光電子能譜的基本原理、儀器結(jié)構(gòu)、實(shí)驗(yàn)技術(shù)以及數(shù)據(jù)處理，網(wǎng)絡(luò)講堂具體安排如下：

       如果您對(duì)光電子能譜或者其他表面分析技術(shù)感興趣，歡迎您關(guān)注我們公眾號(hào)，我們會(huì)持續(xù)為您呈現(xiàn)精彩內(nèi)容，讓我們一起來(lái)探索表面分析的世界！

如果喜歡我們的課程，記得分享喲~~

       昨天的上課視頻，想要下載，可以點(diǎn)擊微信公眾號(hào)“閱讀原文”，通關(guān)密碼是“erlk”

PHI CHINA自2月11日開(kāi)始通過(guò)網(wǎng)絡(luò)直播的方式，展開(kāi)為期四周的光電子能譜ZT講座，獲得了廣泛關(guān)注和一致好評(píng)。為了滿足大家熱切的學(xué)習(xí)需求，PHI CHINA將推出“俄歇電子能譜ZT”講座，為期三天：3月11日至3月13日，每天下午三點(diǎn)準(zhǔn)時(shí)開(kāi)講。

01 3月11日

魯?shù)馒P

AES技術(shù)基本原理、主要功能和應(yīng)用 

主要內(nèi)容： 

①、AES 的基本原理：俄歇電子的產(chǎn)生、主要技術(shù)能力；空間分辨、檢出限以及定性定量等；俄歇系統(tǒng)的基本構(gòu)成和能量分析器的特點(diǎn)；

②、AES 的主要功能：采譜、線掃描、成像、深度剖析等；冷脆斷斷面分析、原位 FIB+EDS+BSE+EBSD 全方位成分表征； 

③、AES 的主要應(yīng)用：納米材料、金屬、半導(dǎo)體、催化材料、能源電池、太陽(yáng)能光伏、膜層結(jié)構(gòu)剖析等。 

02 3月12日

辛國(guó)強(qiáng)

AES硬件簡(jiǎn)介、儀器功能及特點(diǎn)  

主要內(nèi)容：

①、系統(tǒng)結(jié)構(gòu)；

②、真空系統(tǒng)； 

③、能量分析器基本原理；

④、電子槍及電子探測(cè)器； 

⑤、離子槍基本原理； 

⑥、俄歇儀器功能及特點(diǎn)。 

03 3月13日

葉上遠(yuǎn)

AES樣品制備、數(shù)據(jù)采集及處理 

主要內(nèi)容：

①、對(duì)于不同的分析目的，如何做相對(duì)應(yīng)的樣品制備；

②、簡(jiǎn)單的俄歇圖譜解釋?zhuān)瓐D和微分譜與定性/定量分析；

③、如何使用軟件和俄歇手冊(cè)處理重疊峰；

④、俄歇峰背景扣除；

⑤、線掃和面掃數(shù)據(jù)分析；

⑥、如何使用 LLS 進(jìn)行深度分析數(shù)據(jù)處理；

⑦、從導(dǎo)體到半導(dǎo)體俄歇分析，以及分析中電荷中和的方法。 

此次講堂繼續(xù)延用網(wǎng)絡(luò)直播的形式，現(xiàn)場(chǎng)答疑。

PHI CHINA在表面分析領(lǐng)域多年深耕，專(zhuān)注表面分析的發(fā)展與科研，希望本系列講堂能幫您豐富知識(shí)，提升技能，與大家攜手進(jìn)一步推動(dòng)表面分析技術(shù)的蓬勃發(fā)展。若您對(duì)課程安排或技術(shù)方面有任何疑問(wèn)，歡迎在微信公眾號(hào)給我們留言。

更多資訊，請(qǐng)關(guān)注微信公眾號(hào)：PHI與高德，我們將不定期共享更多資料，為您在科研道路上助力。 

       當(dāng)前全國(guó)正處于抗擊新冠肺炎疫情的關(guān)鍵時(shí)期，PHI CHINA積極響應(yīng)政府政策并做好防控工作。與此同時(shí)，PHI CHINA充分利用互聯(lián)網(wǎng)資源，于2020年2月11日15時(shí)通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)平臺(tái)為廣大用戶(hù)開(kāi)設(shè)了線上培訓(xùn)課程，進(jìn)行了專(zhuān)業(yè)理論知識(shí)培訓(xùn)，做到“戰(zhàn)勝疫情”和“提升能力”兩不誤。

       本期網(wǎng)絡(luò)講堂“PHI CHINA 表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂之光電子能譜ZT”，包含光電子能譜相關(guān)的基本原理、譜儀結(jié)構(gòu)、數(shù)據(jù)處理和實(shí)驗(yàn)技術(shù)四個(gè)課程，將通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)平臺(tái)開(kāi)展為期四天（2月11日-14日）的ZT網(wǎng)絡(luò)課程。

       昨天是網(wǎng)絡(luò)講堂的diyi課，由PHI CHINA應(yīng)用專(zhuān)家鞠煥鑫博士進(jìn)行光電子能譜基本原理講解，在講座中對(duì)ULVAC-PHI及PHI CHINA公司進(jìn)行了簡(jiǎn)單介紹后，鞠煥鑫博士針對(duì)光電子能譜領(lǐng)域中的XPS/UPS/LEIPS的基本原理、技術(shù)特點(diǎn)及應(yīng)用開(kāi)展詳細(xì)講解。網(wǎng)絡(luò)講堂結(jié)束后，鞠煥鑫博士對(duì)參會(huì)聽(tīng)眾的疑問(wèn)進(jìn)行了詳細(xì)的解答。

       本次網(wǎng)絡(luò)講堂共有來(lái)自高校和產(chǎn)業(yè)界的500多名用戶(hù)參與，網(wǎng)絡(luò)講堂的學(xué)習(xí)形式也受到了廣大用戶(hù)的一致好評(píng)。我們將秉持為用戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)的初心，在疫情防控期間通過(guò)多種渠道繼續(xù)為我們的用戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)，與大家攜手發(fā)揮好PHI XPS儀器功效，進(jìn)一步推動(dòng)表面分析技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展。

看得見(jiàn)的是光芒 看不見(jiàn)的是力量

       在這疫情防控關(guān)鍵時(shí)期，PHI CHINA所有員工聽(tīng)從號(hào)令，樹(shù)立必勝信心，立足本職、加強(qiáng)業(yè)務(wù)學(xué)習(xí)，以更高標(biāo)準(zhǔn)做好各項(xiàng)工作，更好的為廣大客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)。

注意！注意！注意！

       ★答疑的部分，整理好后將會(huì)分享給大家，讓我們一同學(xué)習(xí)與討論！ 

       ★2月12日15時(shí)將學(xué)習(xí)光電子能譜的譜儀結(jié)構(gòu)，千萬(wàn)不要錯(cuò)過(guò)哦！

       ★為避免錯(cuò)過(guò)直播，請(qǐng)各位老師、同學(xué)進(jìn)入公眾號(hào)，點(diǎn)擊菜單欄下方的“資料ZX--網(wǎng)絡(luò)講堂”進(jìn)入直播間。關(guān)注“PHI-CHINA”主播，一起學(xué)習(xí)吧！

       繼2月11日PHI CHINA通過(guò)網(wǎng)絡(luò)平臺(tái)成功開(kāi)講了“PHI CHINA 表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂之光電子能譜ZT”的diyi課后，網(wǎng)絡(luò)講堂第二課于2月12日15時(shí)準(zhǔn)時(shí)開(kāi)講。本次課程的主題為“譜儀結(jié)構(gòu)”，主講人為PHI CHINA總經(jīng)理葉上遠(yuǎn)先生。在近一個(gè)半小時(shí)的課程中，葉上遠(yuǎn)先生針對(duì)光電子能譜儀器結(jié)構(gòu)、樣品制備及傳輸操作等內(nèi)容展開(kāi)詳細(xì)的講解，講解部分結(jié)束后他還針對(duì)參與講堂的聽(tīng)眾疑問(wèn)進(jìn)行了在線答疑。

       本期網(wǎng)絡(luò)講堂的主題分為光電子能譜相關(guān)的基本原理、譜儀結(jié)構(gòu)、數(shù)據(jù)處理和實(shí)驗(yàn)技術(shù)四個(gè)課程，將通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)平臺(tái)開(kāi)展為期四天（2月11日-14日）的ZT網(wǎng)絡(luò)課程。以下是課程安排：

下期精彩 不要錯(cuò)過(guò)

       2月13日15時(shí)將學(xué)習(xí)光電子能譜的數(shù)據(jù)處理，記得準(zhǔn)時(shí)收看哦！

       為避免錯(cuò)過(guò)直播，請(qǐng)各位老師、同學(xué)進(jìn)入“PHI與高德公眾號(hào)”，點(diǎn)擊菜單欄下方的“資料ZX--網(wǎng)絡(luò)講堂”進(jìn)入直播間，關(guān)注“PHI-CHINA”主播，一起學(xué)習(xí)吧！

       昨日（2月13日）15時(shí)開(kāi)講的“PHI CHINA表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂之光電子能譜ZT”第三課，主題為“光電子能譜的數(shù)據(jù)處理”，由PHI CHINAZS應(yīng)用專(zhuān)家魯?shù)馒P女士主講，憑借著自己從業(yè)多年的經(jīng)驗(yàn)，她和與會(huì)者分享了XPS圖譜特點(diǎn)及如何利用MultiPak軟件來(lái)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。對(duì)于部分聽(tīng)眾的在線提問(wèn)，她也給予了耐心和細(xì)致的解答，使得聽(tīng)眾們對(duì)于光電子能譜的數(shù)據(jù)處理的實(shí)際應(yīng)用有了更具體而深刻的理解。

       時(shí)至今日，PHI CHINA表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂之光電子能譜ZT已成功開(kāi)講了三課，分別是：光電子能譜相關(guān)的基本原理、譜儀結(jié)構(gòu)、數(shù)據(jù)處理。Z后一課“光電子能譜儀的實(shí)驗(yàn)技術(shù)”將于今日15時(shí)準(zhǔn)時(shí)開(kāi)講。各位老師、同學(xué)可通過(guò)關(guān)注“PHI與高德”公眾號(hào)，點(diǎn)擊菜單欄下方的“資料ZX—網(wǎng)絡(luò)講堂”進(jìn)入直播間，關(guān)注“PHI-CHINA”主播，一同學(xué)習(xí)。

第2課答疑整理

1.單光源和雙光源的區(qū)別？mu金屬腔體作用？

       單光源(X射線源)和雙X射線源在XPS設(shè)備上，重要的差別是雙X射線源可以在分析中提供到兩種X射線源去進(jìn)行XPS分析。在擁有兩種不同的X射線能量時(shí)，可以在分析時(shí)快速切換以達(dá)到:

1、得到不同分析深度的XPS結(jié)果(例如在使用硬X射線Cr源時(shí)可以得到比Al源獲得多3倍的深度訊息)

2、在圖譜中避免俄歇峰的重疊問(wèn)題。

Mu金屬的使用是可以屏蔽環(huán)境中的變動(dòng)磁場(chǎng)，避免對(duì)于在電子能譜實(shí)驗(yàn)時(shí)對(duì)電子動(dòng)能的影響，當(dāng)中特別是低動(dòng)能的電子會(huì)受影響。

樣品粗糙度有要求嗎？

       會(huì)有的。基本上粗糙度所引起的不平均性，會(huì)對(duì)樣品在實(shí)驗(yàn)結(jié)果上的訊號(hào)強(qiáng)度造成影響(如下圖)。如粗糙度越大，在訊號(hào)強(qiáng)度影響越大的情況下，將會(huì)對(duì)基于峰積分強(qiáng)度計(jì)算的結(jié)果也會(huì)影響。不過(guò)，對(duì)于所測(cè)出的元素或其化學(xué)態(tài)倒是不預(yù)期會(huì)有影響。

3.XPS需要超高真空的原因那張表可以再講下？

       如下圖中：

       不同的真空等級(jí)中包括:760Torr=大氣,0.01Torr=低真空,E-5Torr=高真空,E-9=超高真空,E-12=極限真空。

       比較項(xiàng)為：

       How vacuum was attained:使用哪種真空泵或方法獲得

       Molecules/m3:每立方米中有多少分子(當(dāng)然真空差的時(shí)候,數(shù)字越大)

       Distance between molecules：在空間中分子間的距離(當(dāng)然真空差的時(shí)候,距離越短)

       Collisions/second:每秒分子之間或在空間中撞擊次數(shù)(真空越差，撞擊越多)

       Mean free path between collision:平均自由路徑在撞擊后在真空中Z大的移動(dòng)距離(真空越好，移動(dòng)距離越遠(yuǎn))

       Path(English unit): 英制距離單位(吋)

       Molecules/second/cm2 striking surface:每秒每平方厘米在樣品上的分子撞擊次數(shù)(真空越差，撞擊次數(shù)越多)

       Time for one monolayer to form:在上一項(xiàng)因分子撞擊下，在樣品上形成額外一層單原子層所需的時(shí)間

       Monolayer per second:因此每秒會(huì)在樣品上形成的單原子層數(shù)量

       在表面分析實(shí)驗(yàn)中，分析時(shí)間可以一分鐘、十分鐘……到幾十分鐘或以小時(shí)算，因此，超高真空在實(shí)驗(yàn)過(guò)程的維持是非常重要。不然，在不足的真空之下，分析到的訊號(hào)就不會(huì)是真正從樣品表面而來(lái)的。一般在真正實(shí)驗(yàn)中，E-8Torr很多時(shí)候是Z低的真空要求。

INTERESTING FACTS ABOUT VACUUM

4.FRR的成像能量窗口比FAT大很多？

       FRR在一般情況下的能量窗口是比較大的，但是FAT模式的能量窗口是可變的(透過(guò)改變通能)，所在也可以在設(shè)定中使能量窗口設(shè)成和FRR時(shí)的一樣大。

對(duì)于FRR模式，無(wú)減速。進(jìn)入的電子有自己的動(dòng)能，分析儀會(huì)選擇動(dòng)能穿過(guò)ZX路徑，到達(dá)Z終檢出器。

5.兩種能量分析模式?jīng)]聽(tīng)懂，請(qǐng)完后再解釋下

       在報(bào)告中，我以“分析器中正在偵測(cè)的電子之速度”來(lái)區(qū)分FRR和FAT兩種模式的差別。

       FRR=分析器中正在偵測(cè)的電子之速度→在分析過(guò)程圖譜中的不同動(dòng)能時(shí)實(shí)際上在持續(xù)改變。

       FAT=分析器中正在偵測(cè)的電子之速度→在分析過(guò)程圖譜中的不同動(dòng)能時(shí)實(shí)際上不變。

       在電子能譜中,所測(cè)試的一直都是電子的動(dòng)能,換句話說(shuō)是速度。而在能譜中，訊號(hào)強(qiáng)度(靈敏度)和能量分辨率(分辨不同動(dòng)能的能力)是在圖譜中的兩個(gè)Z重要的參數(shù)。在報(bào)告中，提出了FRR模式可以提供高靈敏度但比較差的能量分辨；而FAT則是相反的，有著比較好的能量分辨但靈敏度略低。在應(yīng)用中，F(xiàn)RR更多的會(huì)使用在俄歇分析中，而FAT則是會(huì)應(yīng)用在XPS，原因完全是因?yàn)閮煞N不同分析技術(shù)的原理，俄歇很多時(shí)候應(yīng)用在納米等級(jí)的分析(因此需要使用低電流獲得小束斑，而低電流會(huì)使訊號(hào)偏低),而且本身俄歇在原理中，俄歇峰相對(duì)起來(lái)峰寬度就很大，因此FRR模式更適合用在俄歇分析的。就XPS來(lái)說(shuō)，在光電效應(yīng)下光電子的產(chǎn)額相對(duì)高，且XPS中對(duì)化學(xué)分析其中一個(gè)重要的差別是在化學(xué)位移(結(jié)合能變化)，所以FAT的模式會(huì)更適合其應(yīng)用。而其工作原理，請(qǐng)參考下題的回復(fù)。

6.FAT如何實(shí)現(xiàn)光電子能量固定？電量怎么換算成動(dòng)能？

       在以下詳細(xì)回答之前，簡(jiǎn)單的回答：FAT模式中使用了減速電壓(Retard Voltage)的設(shè)計(jì)，達(dá)到了使進(jìn)入分析時(shí)所偵測(cè)的電子動(dòng)能/速度都是一樣的。例子如下：

       1、首先在減速之前，如報(bào)告中提到在X射線激發(fā)樣品表面時(shí)，激發(fā)出的各種電子是四散的。這時(shí)候輸入透鏡會(huì)去吸引這些電子，因此會(huì)給予所有電子一個(gè)額外能量。舉例來(lái)說(shuō)，假設(shè)這初始電壓為10eV。

       2、在這之后，retard voltage減速電壓開(kāi)始工作如下：

       （1）例如，我們希望所有電子以10eV的速度飛入分析器。

       （2）分析器開(kāi)始工作以獲取光譜。它將“掃描”一定范圍的能量。

       （3）首先，它嘗試檢測(cè)原始為0eV KE的電子（現(xiàn)在從輸入鏡頭獲得實(shí)為10eV），因此此時(shí)減速電壓=0。

       （4）如果步長(zhǎng)eV/step是1eV/step，則下一個(gè)檢測(cè)到的KE將是原始為1eV的電子（現(xiàn)在在輸入透鏡之后為11eV）。所以那時(shí)減速電壓=-1。

      （5）如此例推，當(dāng)檢測(cè)到KE=1000eV的電子時(shí)（在輸入透鏡之后為1010eV），這個(gè)概念將繼續(xù),所以那時(shí)的減速電壓=-1000。

      （6）通過(guò)執(zhí)行此過(guò)程，我們可以使進(jìn)入分析器的所有電子都相同。

      （7）另外，由于減速電壓是“由軟件提供的”，因此軟件將分別知道在每個(gè)給定的減速電壓下的實(shí)際檢測(cè)KE動(dòng)能，從而Z后給出XPS圖譜。

7.那靜電吸附會(huì)影響光電子的能量分析準(zhǔn)確性？

       會(huì)的，因?yàn)檫@會(huì)影響到樣品上的電荷平衡和逸出電子的動(dòng)能。

8.圖像選點(diǎn)和實(shí)際分析的點(diǎn)會(huì)不會(huì)存在漂移？

       基本不會(huì)。在PHI設(shè)備上，成像影像和分析時(shí)候都是使用完全同一套光路系統(tǒng)，包括X射線分析器到檢出器。

9.UPS的光斑多大，常用的參數(shù)設(shè)置一般有哪些？

       從前設(shè)計(jì)～=1.5x3mm

       Z新PHI設(shè)計(jì)～=1x1mm

10.樣品制備中不建議使用C導(dǎo)電膠帶？?jī)煞N3M導(dǎo)電膠的適用范圍是？

       一般樣品可以使用導(dǎo)電碳膠帶，但是對(duì)于樣品中同時(shí)含有導(dǎo)電成分，又含有不導(dǎo)電成分，可能就會(huì)存在荷電不均勻，譜圖會(huì)出現(xiàn)漂移，對(duì)于這類(lèi)樣品建議用完全絕緣的3M膠帶。

11.壓不壓片、平整度會(huì)影響元素含量嗎？

       如果元素組分是混合均勻的，應(yīng)該不會(huì)影響組分的比例。但是樣品不平整，可能會(huì)影響信號(hào)質(zhì)量。如果含有含量較少的元素，建議壓片制樣。

12.樣品托角度改變了，雙束中和效果會(huì)變化很大嗎？

       改變TOA，對(duì)中和效果影響不大的。

13.怎么保證離子濺射的區(qū)域和分析點(diǎn)區(qū)域是一個(gè)區(qū)域？如果區(qū)域不在一起是不是說(shuō)明五軸樣品臺(tái)位置變了？

       1、工程師對(duì)儀器調(diào)試時(shí)，會(huì)對(duì)電子槍和離子槍束斑位置進(jìn)行調(diào)試，與X射線束斑位置是重合的。

       2、跟樣品臺(tái)沒(méi)有任何關(guān)系，就是離子槍和X-ray的合軸對(duì)中。

14.離子槍是用來(lái)濺射清理的還是用來(lái)中和的?感覺(jué)不需要正電荷中和吧？

       1、中和加濺射，并不是全部情況都需要離子荷電中和的。

       2、雙束中和，正離子是中和樣品表面分析區(qū)域以外的負(fù)電荷。

15.對(duì)于不導(dǎo)電曲面，是不是可能中和效果差了？中和時(shí)，離子束和電子束束斑可調(diào)嗎？還是固定的？

       中和時(shí)束斑固定的不可調(diào)。

16.您所說(shuō)的曲面是指微球樣品嗎，直徑一般是多少？

       直徑只有10mm的環(huán)；

       這個(gè)尺寸應(yīng)該足夠大了，對(duì)于100um的光斑區(qū)域，可以認(rèn)為是平面，中和也是沒(méi)有問(wèn)題的。

17.對(duì)于導(dǎo)電性未知的樣品，在選點(diǎn)和測(cè)試時(shí)都建議打開(kāi)雙束中和的吧？

       是的。

為期四天的“PHI CHINA表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂之光電子能譜ZT”已于昨日（2月14日）落下帷幕。本期ZTZ后一課由PHI CHINAZS售后工程師辛國(guó)強(qiáng)先生主講，主題為“關(guān)于光電子能譜的實(shí)驗(yàn)技術(shù)”。

作為行業(yè)ZS技術(shù)專(zhuān)家，辛國(guó)強(qiáng)先生同與會(huì)者分享了譜儀器硬件、軟件的基本操作以及日常維護(hù)所需的注意事項(xiàng)。在分享后的在線答疑環(huán)節(jié)，他憑借自己多年客服工作積累的豐富經(jīng)驗(yàn)，針對(duì)與會(huì)者提出的實(shí)操中的各種問(wèn)題提供了翔實(shí)的解答，為本輪網(wǎng)絡(luò)課堂ZT活動(dòng)劃下wan美句點(diǎn)。

停工不停業(yè)，服務(wù)不打烊。PHI CHINA團(tuán)隊(duì)將繼續(xù)秉持初心，一如既往地為廣大用戶(hù)和合作伙伴提供優(yōu)質(zhì)、專(zhuān)業(yè)的服務(wù)。我們將為大家開(kāi)展更加豐富精彩的網(wǎng)路課程，在此我們歡迎關(guān)注PHI CHINA的各位新老朋友積極參與互動(dòng)，如果對(duì)于網(wǎng)絡(luò)講堂ZT活動(dòng)有相關(guān)意見(jiàn)和建議，也歡迎在文末或公眾號(hào)后臺(tái)留言告訴我們。

問(wèn)題1：膜厚大于6nm，XPS能檢測(cè)到嗎？

解答：XPS是表面分析技術(shù)，通常檢測(cè)深度定義為對(duì)應(yīng)出射光電子動(dòng)能在相應(yīng)材料中的非彈性平均自由程（λ）的3倍。 XPS的探測(cè)深度也取決于所測(cè)試的材料，對(duì)于金箔樣品的探測(cè)深度大約是5 nm，而對(duì)Si樣品的探測(cè)深度大約為9 nm。XPS對(duì)于具體材料的探測(cè)深度可以通過(guò)查詢(xún)IMFP數(shù)據(jù)，根據(jù)3λ估算探測(cè)深度。

問(wèn)題2：俄歇譜圖中LMM是什么意思？

解答：俄歇電子是由于原子中的電子被X射線激發(fā)后，在退激發(fā)過(guò)程而產(chǎn)生的次級(jí)電子。XPS測(cè)試中X射線將在原子殼層中的電子激發(fā)成自由電子，會(huì)產(chǎn)生電子空穴后而處于激發(fā)態(tài)。退激發(fā)過(guò)程中處于高能級(jí)的電子可以躍遷到這一空位同時(shí)釋放能量，當(dāng)釋放的能量傳遞到另一層的一個(gè)電子，這個(gè)電子就可以脫離原子出射成為俄歇電子。對(duì)于LMM俄歇電子如圖所示：原子中一個(gè)L層電子被入射X射線激發(fā)成自由電子后，M層的一個(gè)電子躍遷入L層填補(bǔ)空位，此時(shí)多余的能量被另一個(gè)M層電子吸收產(chǎn)生二次電子，相應(yīng)的俄歇電子標(biāo)記為LMM。

問(wèn)題3：功函數(shù)的應(yīng)用是啥？

解答：功函數(shù)的定義是費(fèi)米能級(jí)處的電子從樣品表面逃逸出來(lái)，進(jìn)入真空成為自由電子所需要克服的勢(shì)壘，通常也稱(chēng)作逸出功。功函數(shù)是半導(dǎo)體光電器件和光催化等領(lǐng)域中非常重要的參數(shù)，與器件/材料的性能密切相關(guān)，

問(wèn)題4：Mapping采譜時(shí)間？

解答：Mapping譜圖是由多個(gè)像素點(diǎn)組成，每個(gè)像素點(diǎn)都包含一張譜圖，例如本次講解的Mapping譜圖是由256x256個(gè)像素點(diǎn)組成，共計(jì)65K個(gè)像素點(diǎn)。在本次測(cè)試中，能量分析器采用128通道非掃描模式進(jìn)行采集Mapping譜圖，對(duì)于含量較高的C/O/F元素譜圖，采集時(shí)間分別為8分鐘，而對(duì)于含量較低的S/Pt元素譜圖，采集時(shí)間分別為16分鐘。一個(gè)質(zhì)量較好的Mapping譜圖的采集時(shí)長(zhǎng)會(huì)有多個(gè)因素影響，包括采集元素的類(lèi)別/含量、X射線光斑尺寸/功率和Frame次數(shù)等參數(shù)，在采譜參數(shù)設(shè)定好后，Smartsoft軟件會(huì)給出預(yù)估時(shí)間。

問(wèn)題5.怎么把擬合結(jié)果應(yīng)用到譜圖里面？用的什么軟件？

解答：Mapping譜圖由多個(gè)像素點(diǎn)組成，每個(gè)像素點(diǎn)都包含一張譜圖，通過(guò)MultiPak軟件可回溯分析特定元素成像中每個(gè)像素點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的化學(xué)態(tài)譜圖，對(duì)于譜圖擬合可以通過(guò)多種分析方法進(jìn)行擬合，包括常用的Curve fitting、LLS方法和TFA方法，在第三節(jié)數(shù)據(jù)處理的課程中會(huì)有相關(guān)內(nèi)容的詳細(xì)講解，請(qǐng)關(guān)注。

問(wèn)題6. 這個(gè)系統(tǒng)學(xué)習(xí)是在分析化學(xué)嗎？

解答：有些學(xué)校的分析化學(xué)課程可能會(huì)涉及部分表面分析技術(shù)。目前很多高校開(kāi)設(shè)的課程，如材料分析、波譜能譜分析和儀器分析等課程可能包含有關(guān)XPS的內(nèi)容。另外，有很多參考書(shū)籍也有XPS內(nèi)容，可以自行學(xué)習(xí)。

問(wèn)題7. 我之前看資料，說(shuō)費(fèi)米能級(jí)在0 eV，這是因?yàn)樾?zhǔn)過(guò)嗎？

解答：在本次課程中所展示的金的UPS譜圖是施加-9V偏壓后測(cè)試所得到的，所以在偏壓的作用下，整個(gè)UPS譜圖會(huì)有相應(yīng)的偏移，如果對(duì)偏壓進(jìn)行校準(zhǔn)，費(fèi)米能級(jí)會(huì)校準(zhǔn)到結(jié)合能為0 eV處。

問(wèn)題8：第20頁(yè)PPT，X-ray作用深度可達(dá)um級(jí)別，但Z終檢測(cè)nm級(jí)別，為什么呢？由于網(wǎng)絡(luò)問(wèn)題，這中間的介紹沒(méi)聽(tīng)到～

解答：XPS是基于光電效應(yīng)的一種表面分析技術(shù)，其中X-ray激發(fā)原子中的芯能級(jí)電子，可以通過(guò)檢測(cè)出射的光電子得到XPS譜圖。對(duì)于軟X射線，其在固體中的穿透深度可以達(dá)到um級(jí)別，但是出射電子受限于較小的非彈性平均自由程，通常只有表面10nm以?xún)?nèi)光電子會(huì)在沒(méi)有能量損失的情況下而被檢測(cè)到，所以XPS是一種表面靈敏的分析技術(shù)。

問(wèn)題9：第56頁(yè)PPT，UPS測(cè)試的功函數(shù)計(jì)算，按公式應(yīng)該是5.31，為什么是4.14？

解答：在本例測(cè)試中，樣品是半導(dǎo)體材料，計(jì)算得到的5.31eV對(duì)應(yīng)于電離勢(shì)，4.14 eV對(duì)應(yīng)于功函數(shù)，具體計(jì)算公式如下：

問(wèn)題10：刻蝕后，計(jì)算膜厚的公式是固定的么？

解答：在通過(guò)刻蝕進(jìn)行的深度分析中，膜厚是一個(gè)比較復(fù)雜的問(wèn)題。通常會(huì)采用標(biāo)準(zhǔn)樣品如SiO2對(duì)儀器刻蝕所用的離子槍標(biāo)定刻蝕速率，有時(shí)會(huì)用刻蝕速率乘以刻蝕時(shí)間進(jìn)行計(jì)算刻蝕深度。但是刻蝕實(shí)驗(yàn)中的材料的組分非常復(fù)雜，即使同樣的刻蝕參數(shù)，實(shí)際的刻蝕速率會(huì)有很大的差別，所以通常的深度分析會(huì)更加關(guān)注隨刻蝕深度增加，元素組分/化學(xué)態(tài)的變化趨勢(shì)?？涛g后的實(shí)際膜厚測(cè)量也可以采用表面輪廓儀或AFM設(shè)備，通過(guò)測(cè)量濺射刻蝕坑得到相對(duì)真實(shí)的濺射速率，然后校準(zhǔn)厚度值。

        3月6日,隨著Z后一堂課程的完成，“PHI CHINA表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂之光電子能譜ZT”圓滿落下帷幕。

        在這個(gè)特殊的時(shí)期，為了讓廣大師生更好地掌握關(guān)于表面分析技術(shù)中常用的光電子能譜技術(shù)并利用MultiPak軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，PHI CHINA打破了往年常規(guī)的現(xiàn)場(chǎng)培訓(xùn)模式，首次開(kāi)啟了網(wǎng)絡(luò)直播課程，使不同地區(qū)的師生及客戶(hù)通過(guò)居家在線學(xué)習(xí)的方式積極參與到PHI CHINA的培訓(xùn)課程中來(lái)。

       從2月20日起,歷時(shí)三周，以“ZT授課+答疑交流”為原則，以“理論+實(shí)踐”為基礎(chǔ)，PHI CHINA專(zhuān)業(yè)講師在線相繼開(kāi)授了XPS基本原理&技術(shù)特點(diǎn)&應(yīng)用、UPS/LEIPS基本原理&技術(shù)特點(diǎn)&應(yīng)用、光電子能譜譜儀功能結(jié)構(gòu)及特點(diǎn)、樣品制備&傳輸操作和數(shù)據(jù)采集注意事項(xiàng)、MultiPak軟件數(shù)據(jù)處理等課程，為聽(tīng)眾們?cè)敿?xì)剖析了光電子能譜知識(shí)。在每一堂網(wǎng)絡(luò)課程中,講師還設(shè)立了專(zhuān)門(mén)的答疑環(huán)節(jié)，讓大家能夠了解得更加透徹,提升學(xué)習(xí)效率。該系列培訓(xùn)課程受到了師生、客戶(hù)的廣泛關(guān)注和一致好評(píng)。

       本次線上講堂不僅創(chuàng)新了學(xué)習(xí)方式，還解決了防疫期間不宜集中學(xué)習(xí)的難題,實(shí)現(xiàn)了居家學(xué)習(xí)兩不誤，同時(shí)也鞏固和提升了大家的專(zhuān)業(yè)知識(shí),取得了良好的效果。在此，PHI CHINA誠(chéng)摯感謝廣大師生、客戶(hù)以及辛勤付出的培訓(xùn)講師對(duì)于此次網(wǎng)絡(luò)課堂的全力支持和參與。今后，PHI CHINA還將不斷創(chuàng)新服務(wù)模式，舉辦更多培訓(xùn)和交流活動(dòng)，為廣大師生、客戶(hù)做好服務(wù)。也希望關(guān)注PHI CHINA的諸位朋友都能在防疫期間保護(hù)好自己及家人的身體健康，讓我們共同期待春天的來(lái)臨！

       如有任何培訓(xùn)及技術(shù)交流方面的需求,歡迎大家在文末和后臺(tái)留言。

PHI CHINA溫馨提示

3月11日-13日將開(kāi)講

“俄歇電子能譜ZT”