西努光學創(chuàng)建于2003年，主營工業(yè)顯微鏡及制樣設備、鏡片測定設備，高速攝像系統(tǒng)、工業(yè)內窺鏡、機器視覺等工業(yè)及科研應用的檢測設備及系統(tǒng)集成。西努光學秉承“以光學為核心，為客戶提供解決方案”的經驗思路，經過17年的努力，成為眾多企業(yè)、高校科研單位提供各種專業(yè)化的光學系統(tǒng)解決方案。

2016年，我們積極引進檢測設備的同時導入制樣等配套設備以豐富我們實驗室平臺，以更好的為客戶提供現場體驗，從微米到納米滿足客戶從制樣到結果分析的一站式體驗服務。

誠摯邀請您參加西努光學2019金相制樣研討會

會議時間：2019年8月22日（周四）

會議主題：金相制樣研討會

會議地點：西努光學蘇州會議室

具體地址：蘇州工業(yè)園區(qū)通園路208號蘇化科技園7棟102室

日程安排：

演講人：

 ·  Leo-柳文鵬，標樂ZS應用工程師

2008年畢業(yè)于西北工業(yè)大學材料學院，獲得碩士學位。曾多年就職于英業(yè)達集團，負責電子材料的可靠性及失效分析；之后就職于德國雙立人公司，擔任主管金相工程師，主要負責金屬材料金相分析及硬度測試；加入標樂公司后，每年前往美國總部接受金相制備高級課程培訓，現擔任標樂ZS應用工程師，在汽車、航空航天及電子等行業(yè)積累了豐富的經驗。

參展設備：

2019第二屆振動能源采集技術國際學術會議（簡稱VEH2019）于2019年7月13-15在上海科技大學舉行。

西努光學也參加些次會議，并攜iX Cameras高速攝像機亮相。英國iX Cameras高速攝像機應用非常廣泛，主要有：科研分析領域、工業(yè)制造領域、科學研究領域、汽車測試領域、航空航天領域。

（來源：上海西努光學科技有限公司）

VDA-QMC、西努光學舉辦第四屆VDA19技術清潔度檢驗培訓會圓滿成功

2018年12月6日-7日，VDA-QMC聯(lián)合西努光學舉辦了為期兩天的第四屆VDA19技術清潔度檢驗培訓會，共有20位合作伙伴參加了此次培訓。

本次培訓獲得圓滿成功，感謝VDA-QMC的張世忠講師，感謝參加此次培訓的合作伙伴！

       西努光學與VDA-QMC（德國汽車工業(yè)聯(lián)合會質量管理ZX）自2017年開始合作舉辦VDA 19.1技術清潔度培訓會，至今已經成功舉辦五屆。2019年12月5日-6日，VDA-QMC聯(lián)合西努光學舉辦了為期兩天的第六屆VDA19.1技術清潔度檢驗培訓會，感謝VDA-QMC的張世忠講師，感謝參加此次培訓的合作伙伴！

（來源：上海西努光學科技有限公司）

西努光學2019山東高校數碼顯微鏡演示巡展活動歷經10天圓滿結束！

此次巡展設備是奧林巴斯Z 新發(fā)布的DSX1000數碼顯微鏡。

DSX1000數碼顯微鏡在成像清晰度、測量準確性、易用性上都具優(yōu)勢，可在新材料的開發(fā)和研究分析、產品的質量檢查和保障等方面發(fā)揮獨特作用，因此吸引了眾多師生的目光。

（來源：上海西努光學科技有限公司）

西努光學即將參加2019第十六屆南京國際教育裝備暨科教技術展覽會，展位號：368。

時   間：2019年4月11日-13日

地  址：南京市玄武區(qū)龍蟠路88號

參展產品：

• 奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡

奧林巴斯OLS5000 3D測量激光共聚焦顯微鏡采用了高級光學系統(tǒng)，可通過非破壞觀察生成高畫質的圖像進行精確的3D測量、符合ISO標準的表面粗糙度測量等，其準備工作也非常簡單且無需對樣品進行預先處理。

• 奧林巴斯金相顯微鏡

奧林巴斯BX53金相顯微鏡采用了模塊化設計，為廣泛的材料學和工業(yè)應用提供了多樣化的解決方案，BX53根據工業(yè)和材料學的不同應用，客戶組合成反射顯微鏡、透反射顯微鏡、紅外顯微鏡、偏光顯微鏡等，并可搭載溫控臺滿足不同試驗要求。

• iX Cameras高速攝像機

iX Cameras i-SPEED 508高速攝像機可通過獨特的觸摸屏控制器來完成所有操作，也可通過強大的i-SPEED Suite2.0軟件進行控制，分秒之間、高速控制、捕捉和分析就在您的掌握之中。

       為了顯示材料的真實顯微組織，準確的觀察、辨別、記錄和測量，正確的試樣制備過程是必不可少的。試樣的制備質量是決定檢測結果的關鍵因素，猶如那句經典的計算機諺語所說：“如果輸入的是垃圾，那么輸出的也是垃圾?！?/p>

      標樂是材料制備和分析領域的ling導者。作為標樂金相制樣的dai理商，我們不僅提供齊全的設備和耗材，更有團隊為您提供需要的應用知識、技術支持和服務。今天我們?yōu)榇蠹規(guī)淼氖翘沾山鹣嘀苽涞慕涷灧窒恚?/p>

【陶瓷】

       陶瓷材料特別硬和脆，可能含有孔洞，必須用金剛石切割片切割。如果試樣需要熱腐蝕，那么試樣鑲嵌時就必須考慮樣品還要從樹脂中取出，此時環(huán)氧樹脂真空填充孔洞可以不考慮。由于陶瓷自身的特點，不需要考慮變形和塑性流變的問題，但制備過程中可能會產生裂紋晶粒破裂的問題。

熱壓氮化硅組織 (不知名的黏結劑)

(未腐蝕，500X )

       脫落是陶瓷制備的主要問題，因為通常會把脫落當成孔洞。研磨方法采用金屬黏結金剛石盤，硬研磨盤或硬拋光布的機械制備方法。SiC砂紙對陶瓷材料幾乎無效，因為兩者幾乎一樣硬。因此在所有的制備步驟中，幾乎全部使用金剛石。陶瓷材料制備時的載荷比較高，經常超過手工制備的載荷。本篇文章中列出了兩種常用的陶瓷制備程序。

MasterPolish 2 懸浮液用于陶瓷Z后的制備步驟，獲得的表面光潔度要高于1μm的金剛石拋光。

【陶瓷材料】

方案一：

方案二：

【實用小貼士】

      使用切割片，在盡可能靠近需要制備、需要檢查的平面處進行切割，這樣除了把可能的損傷量降到Z少外，還能為隨后制備提供Z佳的表面。粗磨相當慢，應盡量想辦法避免組織結構的損傷。

      制備時候可能需要粗的研磨劑。然而，粗的研磨劑可能導致嚴重的晶粒脫落，因此在研磨過程中，盡量使用細的研磨劑以減少晶粒脫落現象。

難熔材料組織：鋁(基體)，氧化鋯(灰色)，硅(白色) (未腐蝕，200x)

Si-SiC 陶瓷 10%草酸電解腐蝕(500X)

（來源：上海西努光學科技有限公司）

西努光學榮獲“奧林巴斯152P工業(yè)顯微鏡優(yōu)秀代理商”殊榮

金相制樣的目的是顯示樣品的真實組織。樣品可以是金屬、陶瓷、燒結碳化物或者其他固態(tài)材料。金相制樣是指在試樣尺寸較小或者形狀不規(guī)則導致研磨拋光苦難而進行的鑲嵌或夾持來使試樣拋磨方便，提高工作效率及實驗的準確性的工藝方法。金相制樣一般分為冷鑲和熱鑲。

　　金相制樣的制備方法：

　　金相制樣要經過以下幾個步驟：取樣、鑲嵌、磨光(粗磨和細磨)和拋光。每項操作都必須細心精確，任何階段的失誤都可能影響后面的操作步驟，在甚至不正確的制作可能造成假組織，從而得出錯誤的結論，因而金相制樣設備的好與壞，尤其金相制樣質量是決定拋光工序成敗的關鍵。拋光是將制樣上磨制產生的磨痕及變形層去掉，使其成為光滑鏡面的工序。

　　1）取樣

　　金相制樣式樣的選取應根據研究的目的，取其具有代表性的部位。待確定好部位，就可以把式樣截下，式樣的尺寸通常采用直徑12～15mm，高12～15mm的圓柱體或邊長12～15mm的方形式樣。取樣方法可用手鋸、鋸床切割或錘擊等方法。

　　2）鑲嵌

　　如式樣尺寸太小，直接用手來磨制困難時，可把式樣鑲嵌在低熔點合金或塑料中，以便于式樣的磨制和拋光。

　　3）磨制

　　切好或鑲好的式樣在砂輪機上磨平，尖角要倒圓。然后用2﹟、1?﹟和1﹟等粗砂布磨光，再換400.600.800.1000.1200.1500.2000.2500.3000等金相砂紙逐級細磨，一直磨到W10砂紙方可進行粗拋光和細拋光。磨制式樣時，每換一次磨制步驟（即每換一號砂紙）時，式樣磨制方向應轉90°。這樣才能看出上次磨痕是否磨去。式樣在每一號砂布（紙）上磨制時，要沿一個方向磨，金相制樣切忌來回磨削，而且給式樣施加的壓力要適當。

　　4）拋光

　　細磨的式樣還需進行拋光。拋光的目的是去除細磨時遺留下來的細微磨痕而獲得光亮的鏡面。式樣的拋光是在專用的拋光機上進行的，轉速一般100～150r/min。拋光時在拋光盤盤面上鋪有絲絨等織物，并不斷滴注拋光液。拋光液是由àl2O3、Cr2O3或MgO等極細粒度的磨料加水而形成的懸浮液，依靠拋光液中極細的拋光粉末與式樣磨面間產生的相對磨削和滾壓作用來消除磨痕。拋光時應使式樣磨面均勻地壓在旋轉的拋光盤上，并沿盤的邊緣到ZX不斷作徑向往復運動。除機械拋光方法外，還有電解拋光、化學拋光等其他拋光方法。

　　5）浸蝕

　　經拋光后的式樣還必須經過浸蝕后才能在顯微鏡下進行觀察。浸蝕主要是依靠浸蝕劑對金屬的溶解或電化學腐蝕過程，使金屬式樣表面的晶粒與晶界及各組成相之間呈現輕微的凹凸不平，在顯微鏡下就可以清楚地觀察到式樣表面，浸蝕時間要適當，一般式樣磨面發(fā)暗時就可停止。如果浸蝕不足重復浸蝕。浸蝕完畢后立即用清水沖洗，然后用酒精沖洗，用吹風機吹干，金相制樣完成即可置于金相顯微鏡上進行觀察。

（來源：上海西努光學科技有限公司）