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如何利用定域干涉測(cè)量單色光波長(zhǎng),求實(shí)驗(yàn)方案

yydwkhx 2017-12-16 06:15:12 768  瀏覽
  • 看清題目,非準(zhǔn)確答案不給分,謝謝,我也知道不好做,網(wǎng)上沒(méi)什么資料

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  • lgwlgy 2017-12-16 08:05:58
    實(shí)驗(yàn)名稱】邁克爾遜干涉儀的調(diào)整與使用 【實(shí)驗(yàn)?zāi)康摹? 1.了解邁克爾遜干涉儀的干涉原理和邁克爾遜干涉儀的結(jié)構(gòu),學(xué)習(xí)其調(diào)節(jié)方法; 2.調(diào)節(jié)非定域干涉、等傾干涉、等厚干涉條紋,了解非定域干涉、等傾干涉、等厚干涉的形成條件及條紋特點(diǎn); 3.利用白光干涉條紋測(cè)定薄膜厚度。 【實(shí)驗(yàn)儀器】 邁克爾遜干涉儀(20040151),He-Ne激光器(20001162),擴(kuò)束物鏡 【實(shí)驗(yàn)原理】 1. 邁克爾遜干涉儀 圖1是邁克爾遜干涉儀的光路示意圖 G1和G2是兩塊平行放置的平行平面玻璃板,它們的折射率和厚度都完全相同。G1的背面鍍有半反射膜,稱作分光板。G2稱作補(bǔ)償板。M1和M2是兩塊平面反射鏡,它們裝在與G1成45??角的彼此互相垂直的兩臂上。M2固定不動(dòng),M1可沿臂軸方向前后平移。 由擴(kuò)展光源S發(fā)出的光束,經(jīng)分光板分成兩部分,它們分別近于垂直地入射在平面反射鏡M1和M2上。經(jīng)M1反射的光回到分光板后一部分透過(guò)分光板沿E的方向傳播,而經(jīng)M2反射的光回到分光板后則是一部分被反射在E方向。由于兩者是相干的,在E處可觀察到相干條紋。 光束自M1和M2上的反射相當(dāng)于自距離為d的M1和M2ˊ上的反射,其中M2ˊ是平面鏡M2為分光板所成的虛像。因此,邁克爾遜干涉儀所產(chǎn)生的干涉與厚度為d、沒(méi)有多次反射的空氣平行平面板所產(chǎn)生的干涉完全一樣。經(jīng)M1反射的光三次穿過(guò)分光板,而經(jīng)M2反射的光只通過(guò)分光板一次,補(bǔ)償板就是為消除這種不對(duì)稱性而設(shè)置的。 雙光束在觀察平面處的光程差由下式給定: Δ=2dcosi 式中:d是M1和M2ˊ之間的距離,i是光源S在M1上的入射角。 邁克爾遜干涉儀所產(chǎn)生的干涉條紋的特性與光源、照明方式以及M1和M2之間的相對(duì)位置有關(guān)。 2.等傾干涉 如下圖所示,當(dāng)M2與M1嚴(yán)格垂直,即M2ˊ與M1嚴(yán)格平行時(shí),所得干涉為等傾干涉。干涉條紋為位于無(wú)限遠(yuǎn)或透鏡焦平面上明暗的同心圓環(huán)。干涉圓環(huán)的特征是:內(nèi)疏外密。由等傾干涉理論可知:當(dāng)M1、M2′之間的距離d減小時(shí),任一指定的K級(jí)條紋將縮小其半徑,并逐漸收縮而至ZX處消失,即條紋“陷入”;當(dāng)d增大,即條紋“外冒”,而且M1與M2′的厚度越大,則相鄰的亮(或暗)條紋之間距離越小,即條紋越密,越不易辨認(rèn)。每“陷入”或“冒出”一個(gè)圓環(huán),d就相應(yīng)增加或減少λ/2的距離。如果“陷入”或“冒出”的環(huán)數(shù)為N,d的改變量為Δd,則:Δd=N*λ/2 則:λ=2Δd/N 若已知Δd和N,就可計(jì)算出λ。 i2 a1 i1 b1 【實(shí)驗(yàn)內(nèi)容及步驟】 (一)調(diào)整邁克爾遜干涉儀,觀察非定域干涉、等傾干涉的條紋 ① 對(duì)照實(shí)物和講義,熟悉儀器的結(jié)構(gòu)和各旋鈕的作用; ② 點(diǎn)燃He—Ne激光器,使激光大致垂直M1。這時(shí)在屏上出現(xiàn)兩排小亮點(diǎn),調(diào)節(jié)M1和M2背面的三個(gè)螺釘,使反射光和入射光基本重合(兩排亮點(diǎn)中Z亮的點(diǎn)重合且與入射光基本重合)。這時(shí),M1 和M2大致互相垂直,即M1/、M2大致互相平行。 ③ 在光路上放入一擴(kuò)束物鏡組,它的作用是將一束激光匯聚成一個(gè)點(diǎn)光源,調(diào)節(jié)擴(kuò)束物鏡組的高低、左右位置使擴(kuò)束后的激光完全照射在分光板G1上。這時(shí)在觀察屏上就可以觀察到干涉條紋(如完全沒(méi)有,請(qǐng)重復(fù)上面步驟)再調(diào)節(jié)M1下面的兩個(gè)微調(diào)螺絲使M1/、M2更加平行,屏上就會(huì)出現(xiàn)非定域的同心圓條紋。 ④ 觀察等傾干涉的條紋。 (二)測(cè)量He—Ne激光的波長(zhǎng) ① 回到非定域的同心圓條紋,轉(zhuǎn)動(dòng)粗動(dòng)和微動(dòng)手輪,觀察條紋的變化:從條紋的“涌出”和“陷入”說(shuō)明M1/、M2之間的距離d是變大?變小?觀察并解釋條紋的粗細(xì)、疏密和d的關(guān)系。 ② 將非定域的圓條紋調(diào)節(jié)到相應(yīng)的大?。ㄗ筮厴?biāo)尺的讀數(shù)為32mm附近),且位于觀察屏的ZX。 ③ 轉(zhuǎn)動(dòng)微動(dòng)手輪使圓條紋穩(wěn)定的“涌出”(或“陷入”),確信已消除“空回誤差”后,找出一個(gè)位置(如剛剛“涌出”或“陷入”)讀出初始位置d1。 ④ 緩慢轉(zhuǎn)動(dòng)微動(dòng)手輪,讀取圓條紋“涌出”或“陷入”ZX的環(huán)數(shù),每50環(huán)記錄相應(yīng)的d2、d3、d4…… ⑤ 反方向轉(zhuǎn)動(dòng)微動(dòng)手輪,重復(fù)②、③記錄下“陷入”(或“涌出”)時(shí)對(duì)應(yīng)的di/。 ⑥ 數(shù)據(jù)記錄參考表(如上),按公式計(jì)算出He—Ne激光的波長(zhǎng)。用與其理論值相比較得出百分差表示出實(shí)驗(yàn)結(jié)果。 【注意事項(xiàng)】 1、 任何光學(xué)面不得用手摸,如需要用鏡頭紙輕輕擦拭。 2、 本實(shí)驗(yàn)的ZD和難點(diǎn)是粗調(diào)即步驟③,需反復(fù)調(diào)節(jié)M1和M2背面的三個(gè)螺釘,但必須均勻調(diào)節(jié),否則會(huì)造成儀器的損壞。 由于邁克爾遜干涉儀的測(cè)量精度較高,反方向轉(zhuǎn)動(dòng)微動(dòng)手輪測(cè)量另一組數(shù)據(jù)時(shí),一般需要轉(zhuǎn)動(dòng)20多圈方可消除“空回誤差”,這時(shí)也可直接反方向轉(zhuǎn)動(dòng)粗動(dòng)手輪達(dá)到消除“空回誤差”的目的 【數(shù)據(jù)記錄】 1.測(cè)量He—Ne激光的波長(zhǎng): Ki 涌 出 陷 入 di(mm) Δdi(mm) di/(mm) Δdi/(mm) K0 54.74382 54.54123 K0+50 54.76163 54.52504 K0+100 54.77705 54.50927 K0+150 54.79326 54.49211 K0+200 54.80939 54.47658 K0+250 54.82480 54.45958 【數(shù)據(jù)處理】 可通過(guò)逐差法求He-Ne激光的波長(zhǎng) 涌出 陷入 百分誤差: 【實(shí)驗(yàn)結(jié)果】 【問(wèn)題討論】 1. 在實(shí)驗(yàn)中需要調(diào)節(jié)M1和M2相互垂直(M1和M2’相互平行)時(shí),是在沒(méi)有干涉條紋出現(xiàn)的情形下,利用觀察視場(chǎng)中兩個(gè)光點(diǎn)的位置來(lái)操作的,但實(shí)際會(huì)發(fā)現(xiàn),這樣的光點(diǎn)一般都有很多。這些光點(diǎn)的出現(xiàn)是源于入射光束在被分光鏡分為兩束以及它們?cè)趥鬏斶^(guò)程中所經(jīng)過(guò)的多個(gè)玻璃折射,反射后。試根據(jù)圖1所示的主光路傳輸路徑,總結(jié)一套快速正確地選定對(duì)應(yīng)觀測(cè)光點(diǎn)的方法。 由圖1可見(jiàn),入射光束在分光鏡的第1表面和分束面都會(huì)有部分光向M1方向反射,經(jīng)M1再次反射后,從觀察屏上看到的右邊光點(diǎn)是由分束面反射,即我們所要的對(duì)應(yīng)光點(diǎn)。透過(guò)分束鏡的光經(jīng)M2鏡反射后,在補(bǔ)償片的兩個(gè)界面會(huì)形成兩個(gè)向觀察方向反射的光點(diǎn),右邊第3個(gè)光點(diǎn)才是由分束面反射,即我們要找的對(duì)應(yīng)光點(diǎn)。 2. 試由公式說(shuō)明M1和M2’的距離d變大變小同環(huán)形干涉條紋ZX“冒出或陷入”的對(duì)應(yīng)關(guān)系。 由公式2dcosik=kλ,對(duì)同一干涉級(jí)次(k不變),當(dāng)d減小時(shí), i k必然減小,干涉園環(huán)ZX向里陷入。

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白光干涉測(cè)厚儀作為一種高精度的表面測(cè)量工具,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子制造、光學(xué)檢測(cè)等領(lǐng)域。其核心原理是利用干涉效應(yīng)來(lái)測(cè)量薄膜或涂層的厚度。通過(guò)白光干涉技術(shù),能夠在不接觸表面的情況下,精確測(cè)量不同厚度的薄膜層,尤其適用于高精度、微小尺寸的測(cè)量任務(wù)。本文將詳細(xì)介紹白光干涉測(cè)厚儀的工作原理、測(cè)量步驟及其應(yīng)用范圍,幫助讀者深入理解這一技術(shù)的優(yōu)勢(shì)與實(shí)際操作方法。

白光干涉測(cè)厚儀的工作原理

白光干涉測(cè)厚儀利用的是光的干涉現(xiàn)象。當(dāng)白光照射到待測(cè)物體的表面時(shí),光線會(huì)發(fā)生反射,部分光線從物體的上表面反射,部分光線從物體的底部反射。當(dāng)這兩束反射光重合時(shí),因波長(zhǎng)差異產(chǎn)生干涉。通過(guò)分析干涉條紋的變化,可以精確計(jì)算出物體表面與底層之間的厚度。其優(yōu)點(diǎn)在于白光干涉測(cè)量可以在不接觸物體的情況下進(jìn)行,并且具有非常高的精度,適合微米級(jí)甚至納米級(jí)的薄膜厚度測(cè)量。

白光干涉測(cè)厚儀的測(cè)量步驟

  1. 準(zhǔn)備工作:確保白光干涉測(cè)厚儀的光源和探測(cè)器正常工作,并進(jìn)行設(shè)備的校準(zhǔn),以確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。

  2. 樣品放置:將待測(cè)物體穩(wěn)固地放置在儀器的測(cè)量平臺(tái)上,確保樣品表面平整,避免因表面不規(guī)則導(dǎo)致測(cè)量誤差。

  3. 光源照射:儀器發(fā)出寬譜的白光照射到樣品表面。待測(cè)物體的上表面和底部表面會(huì)分別反射光線。

  4. 干涉條紋分析:通過(guò)儀器內(nèi)的探測(cè)器接收反射回來(lái)的光信號(hào),并進(jìn)行干涉條紋的分析。干涉條紋的變化與待測(cè)物體的厚度成正比。

  5. 厚度計(jì)算:系統(tǒng)會(huì)根據(jù)干涉條紋的變化,通過(guò)計(jì)算分析,輸出樣品的厚度數(shù)據(jù)。此時(shí),儀器已經(jīng)完成了整個(gè)測(cè)量過(guò)程。

白光干涉測(cè)厚儀的應(yīng)用

白光干涉測(cè)厚儀廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域,特別是在半導(dǎo)體、光學(xué)薄膜、涂層和納米技術(shù)領(lǐng)域。其優(yōu)勢(shì)在于能夠提供非接觸、高精度的測(cè)量,避免了傳統(tǒng)接觸式測(cè)量可能帶來(lái)的表面損傷。由于其高分辨率,能夠滿足不同精度需求的測(cè)量任務(wù),特別是在要求薄膜厚度非常精確的場(chǎng)合,如光學(xué)元件的制造、電子器件的測(cè)試等。

專業(yè)總結(jié)

白光干涉測(cè)厚儀憑借其無(wú)接觸、高精度的特點(diǎn),成為了測(cè)量薄膜厚度的理想工具。通過(guò)干涉效應(yīng),儀器能夠提供精確的厚度數(shù)據(jù),廣泛應(yīng)用于科研、工業(yè)制造等多個(gè)領(lǐng)域。其操作流程簡(jiǎn)便、測(cè)量精度高,尤其適合微米至納米級(jí)別的薄膜測(cè)量需求,是現(xiàn)代科技領(lǐng)域中不可或缺的高精度測(cè)量設(shè)備。

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