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問(wèn)答社區(qū)

真空鍍膜機(jī)工作原理

QQ1582272619 2007-02-07 13:58:10 333  瀏覽
  •  

參與評(píng)論

全部評(píng)論(3條)

  • doujihong7 2007-02-08 00:00:00
    c v

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    評(píng)論

  • vv9689 2014-09-09 00:00:00
    學(xué)習(xí)啦,原來(lái)知道了解直空鍍膜機(jī)降溫問(wèn)題解決方案,重新有更新認(rèn)識(shí)!

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    評(píng)論

  • 艷艷說(shuō)~ 2017-05-24 10:31:29
    真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。 蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái),并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并且Z終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,Z終形成薄膜。 典型的真空鍍膜,包括了錄像帶,數(shù)據(jù)磁帶DAT,以及很多電極的制作過(guò)程。

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