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調(diào)節(jié)閥的結構及特點

發(fā)卡上的風 2018-03-31 23:42:15 432  瀏覽
  • 請問調(diào)節(jié)閥的具體結構及特點有哪些?... 請問調(diào)節(jié)閥的具體結構及特點有哪些? 展開

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  • 854770408羅 2018-04-01 00:00:00
    調(diào)節(jié)閥(英文:control valve)國外稱為:控制閥,國內(nèi)習慣稱為:調(diào)節(jié)閥。 用于調(diào)節(jié)工業(yè)自動化過程控制領域中的介質(zhì)流量、壓力、溫度、液位等工藝參數(shù)。根據(jù)自動化系統(tǒng)中的控制信號,自動調(diào)節(jié)閥門的開度,從而實現(xiàn)介質(zhì)流量、壓力、溫度和液位的調(diào)節(jié)。 調(diào)節(jié)閥結構組成 調(diào)節(jié)閥通常由電動執(zhí)行機構或氣動執(zhí)行機構與閥體兩部分共同組成。直行程主要有直通單座式和直通雙座式兩種,后者具有流通能力大、不平衡辦小和操作穩(wěn)定的特點,所以通常特別適用于大流量、高壓降和泄漏少的場合。角行程主要有:V型電動調(diào)節(jié)球閥、電動蝶閥、通風調(diào)節(jié)閥、偏心蝶閥等。 調(diào)節(jié)閥種類 按用途和作用、主要參數(shù)、壓力、介質(zhì)工作溫度、特殊用途(即特殊、專用閥)、驅動能源、結構等方式進行了分類,其中Z常用的分類法是按結構將調(diào)節(jié)閥分為九個大類,6種為直行程,3種為角行程。

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晶圓清洗機主要結構特點及工藝流程

 一.產(chǎn)品結構

晶圓清洗機主要結構特點:
1、采用三套獨立的電腦控制機械臂自動化作業(yè)
2、采用第三代技術,全面完善的防酸防腐措施,保護到機器每一個角落
3、全自動補液技術
4、*的硅片干燥前處理技術,保證硅片干燥不留任何水痕
5、成熟的硅片干燥工藝,多種先進技術集于一身

6、彩色大屏幕人機界面操作,方便參數(shù)設置多工藝方式轉換


二.產(chǎn)品特點
晶圓清洗機具有以下特點:
1、械手或多機械手組合,實現(xiàn)工位工藝要求。
2、PLC全程序控制與觸摸屏操作界面,操作便利。
3、自動上下料臺,準確上卸工件。
4、凈化烘干槽,*的烘干前處理技術,工作干燥無水漬。
5、全封閉外殼與抽風系統(tǒng),確保良好工作環(huán)境。
6、具備拋動清洗功能,保證清洗均勻。
7、全封閉清洗均勻。

8、全封閉外殼與抽風系統(tǒng),確保良好工作環(huán)境。


三、晶圓清洗機工藝流程

    自動上料→去離子水+超聲波清洗+振動篩拋動→堿液+超聲波清洗+拋動→去離子水+超聲波清洗+拋動→堿液+超聲波清洗+拋動→堿液+超聲波清洗+拋動→去離子水+超聲波清洗+拋動+溢流→去離子水+超聲波清洗+拋動+溢流→自動下料


四、晶圓清洗機應用范圍
1、爐前清洗:擴散前清洗。
2、光刻后清洗:除去光刻膠。
3、氧化前自動清洗:氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。
4、拋光后自動清洗:除去切、磨、拋的沾污。
5、外延前清洗:除去埋層擴散后的SiO2及表面污物。
6、合金前、表面鈍化前清洗:除去鋁布線后,表面雜質(zhì)及光膠殘渣。
7、離子注入后的清洗:除去光刻膠,SiO2層。
8、擴散預淀積后清洗:除去預淀積時的BSG和PSG。
9、CVD后清洗:除去CVD過程中的顆粒。
10、附件及工具的清洗:除去表面所有的沾污物


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§大屏真彩觸摸屏電腦控制型三氣培養(yǎng)箱,能準確直觀地控制培養(yǎng)箱溫度和氣體濃度,以解決現(xiàn)有技術中無法實現(xiàn)人機互動和無法提供清晰的數(shù)據(jù)圖像顯示及參數(shù)配置界面的技術問題,具有安全可靠、簡潔直觀、操作便捷的特點。

采用氣套式結構,工作室采用上等不銹鋼板制作并設有風道,裝有風機形成強制對流,提高了箱內(nèi)溫度均勻性co2,O2濃度的均衡性。

箱門打開時,自動關閉風機(關閉CO2、氮氣進氣閥)并停止加熱,減少空氣的進入而造成的污染。

溫度控制采用微機數(shù)據(jù)分析及智能PID控制,精度高、抗干擾能力強,并采用三探頭分別控制箱溫及門溫,使工作室溫度準確度高波動小。

輕觸式調(diào)節(jié)開關,輕便靈活,顯示及設動的參數(shù)均采用數(shù)字顯示各工作狀態(tài)均有LED指示

具有超溫斷氣等多中保護功能,確保設備安全運行。

采用無菌氣體過濾裝置和紫外線滅jun燈,以減少污染。

自然蒸發(fā)加濕,使工作室保持較好的溫度。

O2檢查采用進口的紅外波導z利及鍍金探頭,確保測量數(shù)據(jù)的準確性,工作室內(nèi)O2濃度可在0~20%范圍內(nèi)任意設定,其控制采用微機數(shù)據(jù)分析智能PID控制,并有超濃度、濃度上升過慢及斷氣報警,02檢測采用進口探頭,確保測量數(shù)據(jù)的準確性,室內(nèi)O2濃度可在1~25%范圍內(nèi)任意設定,其控制采用微機數(shù)據(jù)分析及智能PID控制,并設有超濃度、濃度上升過慢及斷氣報警。


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