當(dāng)正確無誤對安全至關(guān)重要時您需要一臺分析儀器，它可在任何您需要的地方快速準(zhǔn)確地工作。即使在Z苛刻的環(huán)境中，也能為您提供精確可靠的分析。無論您需要合規(guī)性解決方案，還是希望提高流程效率，都能滿足您的需求：

?符合相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)和法規(guī)

?在安裝前和安裝后評估關(guān)鍵流程組件

?保持場地安全和合規(guī)

?存儲、分析和共享檢驗(yàn)數(shù)據(jù)  

講座主題：

為材料可靠性鑒定做準(zhǔn)備

講座概要：

簡述PMI（材料可靠性鑒定）的重要性以及ExTOPE Connect數(shù)據(jù)管理，ZD介紹了手持式XRF光譜儀、激光光譜儀和直讀光譜儀在材料可靠性鑒定和質(zhì)量控制方面的性能比較及典型應(yīng)用，新增加了合金分析儀的技術(shù)概述。

講座時間：

2020年4月21日

周二下午14:00-15:00

報(bào)名地址：

https://register.gotowebinar.com/register/1193709394029971726

轉(zhuǎn)發(fā)此邀請函至朋友圈并集滿30個贊，獲愛奇藝季度卡一份，僅限前50名。

       自疫情爆發(fā)以來，瑞寧（RAININ）與您一樣心系武漢，我們密切關(guān)注并diyi時間進(jìn)行了愛心捐贈，與大家一起抗擊疫情。在大家的共同努力下，一切即將回歸原位。

       工廠開始運(yùn)轉(zhuǎn)了，上班路上的櫻花開了，熟悉的道路又開始堵車了……隨著疫情下“復(fù)工潮”的興起，瑞寧（RAININ）特別推出在線直播的移液器校準(zhǔn)規(guī)程講堂，在線上平臺分享交流移液器校準(zhǔn)知識，還會和大家一 起線上參觀校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室（通過CNAS認(rèn)證），希望能為您的復(fù)工出一份力。

       為了回饋新老客戶，瑞寧（RAININ）還精心準(zhǔn)備了移液產(chǎn)品的促銷活動，鉅惠給您，欲購從速，“厚惠”有期！

期待 4月17日與您在云端相遇，不見不散！

直播時間

4月17日  13:00-13:35

參與對象

企業(yè)客戶

直播日程

13:00 - 13:15  移液器校準(zhǔn)規(guī)程講解

13:15 - 13:20  校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室云參觀

13:20 - 13:30  移液產(chǎn)品促銷及訂購

13:30 - 13:35  抽獎環(huán)節(jié)

校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室實(shí)景

參與方式

只需識別下方二維碼，即可預(yù)報(bào)名，開播前我們將會給您發(fā)送直播觀看鏈接。

1. OLED各元素在不同層的分布的那張圖是直接可以得到還是要通過定量處理？

回復(fù)：請參考以下這張圖：首先說明一下是選用不同組分的特征離子（右圖）表征不同膜層組分的深度分布，橫坐標(biāo)是通過濺射時間和濺射速率換算的厚度坐標(biāo)，如果直接得到的是時間軸；縱坐標(biāo)是譜峰的強(qiáng)度（直接測試采譜，從譜峰強(qiáng)度面積積分得到），假定整個有機(jī)膜層基體效應(yīng)相當(dāng)?shù)那闆r下，可以用譜峰強(qiáng)度的變化表征成分的含量變化，從而區(qū)分不同膜層的主要成分組成。

2. 不會撞到其他離子嗎？

回復(fù)：當(dāng)然不會了，進(jìn)入CID之前，二次離子已經(jīng)分開了，只有質(zhì)量選擇器選擇的離子才可以進(jìn)入CID產(chǎn)生碰撞。

3.為什么MS2的質(zhì)量分辨率不受MS1影響？

回復(fù)：MS1中的前驅(qū)體，在MS2中相當(dāng)于一個樣品，需要再次裂解，而裂解過程在MS2中進(jìn)行，且MS2是獨(dú)立的質(zhì)譜儀，其分辨率由本身性能決定。

4. 只有MS1可以匹配出化學(xué)結(jié)構(gòu)嗎？

回復(fù)：MS1采集的質(zhì)譜是表面所有組分產(chǎn)生的二次離子質(zhì)譜圖，如果表面成分復(fù)雜得到的MS1質(zhì)譜圖就會比較復(fù)雜，除了一些比較小的原子離子和分子離子比較容易進(jìn)行定性判定，質(zhì)量數(shù)大于m/z 200的很難匹配出準(zhǔn)確的化學(xué)結(jié)構(gòu)；因此需要配置串聯(lián)質(zhì)譜MS/MS，即可以單獨(dú)挑出某個特征大分子離子進(jìn)行解離，得到MS2質(zhì)譜圖，MS2圖譜中的譜峰都屬于這個特征大分子離子的子離子碎片，等于純化了分析數(shù)據(jù)，因此很容易通過一些標(biāo)準(zhǔn)的質(zhì)譜數(shù)據(jù)庫匹配出MS2圖譜對應(yīng)的化學(xué)物質(zhì)或分子結(jié)構(gòu)。

5. 測試前如何判斷有機(jī)大分子可能的分裂情況？

回復(fù)：如果是測試未知組分，測試前是不能判斷分子的分裂情況的；如果是已知有機(jī)組分，可以根據(jù)分子結(jié)構(gòu)特征和一些已有經(jīng)驗(yàn)（來自對一些已知有機(jī)材料的圖譜分析得來）判斷可能產(chǎn)生的離子碎片。

6. 怎么保證MS2是從MS1中選定的特離子？

回復(fù)：可以保證，因?yàn)?span style=" font-family:'Microsoft YaHei';font-size:16px;line-height: 2em;position: relative;">MS2用于分析的離子就是從MS1圖譜中挑選出來的：分析時，首先采集表面所有的二次離子，得到MS1圖譜，根據(jù)MS1圖譜里的圖譜信息，挑出特征的precursor ion (前體離子）用于MS2解離和分析。（具體實(shí)現(xiàn)過程請關(guān)注我們的第二堂課）

7. 橫坐標(biāo)為什么是m/z，而不是m?

回復(fù)：因?yàn)?span style=" font-family:'Microsoft YaHei';font-size:16px;line-height: 2em;position: relative;">TOF-SIMS主要采集的是二次離子（有質(zhì)量和電荷），所以用荷質(zhì)比m/z表示；通常電荷數(shù)是1，所以呈現(xiàn)的數(shù)值與m（質(zhì)量數(shù)）相等，但意義不同。

8.  300—500nm的晶?？唇M分分布，分辨率如何？大面積收集的信號量多吧？

回復(fù)：TOF-SIMS的空間分辨率是70納米（高空間分辨模式下），如果是在HR2模式下，即Z好的質(zhì)量分辨率下（m/?m@10000左右），空間分辨率是百納米左右（與樣品相關(guān)）。所以如果測試300-500nm的晶粒組分，晶粒分散在導(dǎo)電基底上，是可以用TOF-SIMS微區(qū)定點(diǎn)到單顆粒上進(jìn)行采譜分析。

無論是微區(qū)分析還是大面積分析都是采用聚焦離子源在表面掃描，激發(fā)信號強(qiáng)度相當(dāng)。

9.與其他儀器聯(lián)用如何保證同個區(qū)域

回復(fù)：目前PHI TOF-SIMS 沒有與其它儀器聯(lián)用的案例。如果客戶自己安排不同的表面分析測試（SEM/ XPS/ TOF-SIMS等），Z好以對特征區(qū)域的成像（光學(xué)成像、二次電子成像、離子成像等）判斷和定位分析區(qū)域，以保證分析發(fā)生在同一區(qū)域。

10. 藥片截面如何制備？

回復(fù)：因?yàn)橹苽浣孛婊蚱拭娴臅r候Z怕引入新的污染或造成交叉污染，Z好采用離子束剖面切割（CP: Cross section polisher）來制備樣品。

11. 我做的小面積mapping沒有大面積清晰，為什么？

回復(fù)：如果分析條件（參數(shù)）設(shè)置相同，無論是大面積和小面積MAPPING空間分辨率是相同的。只是小面積下（更高的放大倍率下）更容易看出空間分辨的實(shí)際能力，其對更微區(qū)特征區(qū)域的分辨能力，如果高放大倍率下，分析特征已經(jīng)接近設(shè)備的空間分辨尺度，那圖像呈現(xiàn)就會看起來不清晰。

12. 對于有機(jī)無機(jī)摻雜的材料，串聯(lián)質(zhì)譜是要做預(yù)實(shí)驗(yàn)確定要分析的大分子嗎

回復(fù)：對于有機(jī)無機(jī)摻雜材料，表面成分的確比較復(fù)雜，所謂預(yù)實(shí)驗(yàn)，也就是用常規(guī)的MS1先進(jìn)行表面所有離子的采集，然后根據(jù)MS1質(zhì)譜圖確定和挑出要用MS2分析的大分子離子。

13. 特定深度2D圖如何選，一般不是都選成區(qū)域？

回復(fù)：在深度剖析的時候，因每分析一層都會保存這一層的分析區(qū)域的mapping, 每個像素點(diǎn)的離子質(zhì)譜圖;

通過軟件可以回溯特定深度的2D MAPPING圖 （就是根據(jù)特定濺射時間范圍選擇：對應(yīng)深度），所呈現(xiàn)的就是特定深度所分析區(qū)域的Mapping, 詳細(xì)操作步驟請關(guān)注第三課數(shù)據(jù)處理的課程。

14. 單顆粒深度剖析如何比如直徑2um能實(shí)現(xiàn)嗎？

回復(fù)：根據(jù)TOF-SIMS的現(xiàn)有能力，對于直徑2um的單顆粒是可以嘗試進(jìn)行深度剖析的，當(dāng)然也要看基體效應(yīng)影響。

15. 有機(jī)無機(jī)摻雜，能分析嗎？

回復(fù)：TOF-SIMS對有機(jī)無機(jī)材料都有很好的表征能力，當(dāng)有機(jī)無機(jī)摻雜濃度在TOF-SIMS 檢出限能力所及的條件下是可以進(jìn)行分析的。如果摻雜濃度太低（ppb-ppt）, 那需要用D-SIMS進(jìn)行分析。

16. 二次離子在飛行管道中只用跑一圈就能分開嗎？

回復(fù)：當(dāng)然可以分開。

17. 可分析有hole樣品，樣品臺可各方向旋轉(zhuǎn)？

回復(fù)：五軸樣品臺可旋轉(zhuǎn)和傾斜，也有特殊傾斜樣品托適合用于Hole樣品分析，見下圖：

18. 結(jié)構(gòu)解離情況與激發(fā)離子源有關(guān)嗎？

回復(fù)：解離產(chǎn)生特征的原子離子和分子離子與結(jié)構(gòu)本身有很大關(guān)系，但產(chǎn)生的二次離子產(chǎn)額除了與基體效應(yīng)相關(guān)，的確與激發(fā)離子源有關(guān)。比如現(xiàn)在分析源用Bi源，可以采用Bi單原子離子和團(tuán)簇離子源，如果采用單原子離子激發(fā)出的二次離子中原子離子和小分子離子產(chǎn)額高，而大分子離子產(chǎn)額低，而采用Bi團(tuán)簇離子源入射則會提高大分子離子產(chǎn)額。

19. 怎樣解決depth profile過程中采譜位置漂移的問題？

回復(fù)：跟樣品導(dǎo)電性相關(guān)，如果樣品導(dǎo)電性不好的，請使用PHI提供的mask及Grid等輔助導(dǎo)電增強(qiáng)的樣品托配件。

20. pulse寬為何空間分辨率高？

回復(fù)：見下圖，脈沖長度寬，時間差長（質(zhì)量分辨率差），但束斑直徑可以聚焦到Z好，束斑越小，空間分辨率越高。

21. profile波動，什么叫選擇性濺射？

回復(fù)：濺射離子源與樣品表面材料相互作用，對不同的原子或分子有不同的作用機(jī)理以及剝離速率，有些原子比較容易被濺射移除，有些原子又很難被剝離，同一離子源對表面同一表面但不同成分作用程度有差異，造成擇優(yōu)濺射。

22. depth profile采譜過程中，采譜位置容易發(fā)生漂移，有什么比較好的方法可以解決這個問題？Depth面積是400*400um，采譜面積是30*30um

回復(fù)：跟樣品導(dǎo)電性相關(guān)，如果樣品導(dǎo)電性不好的，請使用PHI提供的mask及Grid等輔助導(dǎo)電增強(qiáng)的樣品托配件。

23. 同問：同一個區(qū)域在正負(fù)離子切換時，采譜位置也容易發(fā)生偏移。樣品導(dǎo)電性一般，表面是SiO，下面是Cu

回復(fù)：跟樣品導(dǎo)電性相關(guān)，如果樣品導(dǎo)電性不好的，請使用PHI提供的mask及Grid等輔助導(dǎo)電增強(qiáng)的樣品托配件。

24. ESA 1 2 3 然后收到訊號，跑了一圈， 可以跑兩圈么？如果可以有什么效果么？

回復(fù)： 首先沒有跑一圈，只跑了3/4圈。不可以跑兩圈，如果可以的話，可以改善質(zhì)量分辨率。

25. ppm什么意思？

回復(fù)：parts per million. 百萬分之一

26.掃描面積多大？ 

回復(fù)：離子束掃描面積一般可以到600X600um，如果配合樣品臺一起掃描的話，可以掃描整個樣品臺的范圍。

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       新型冠狀病毒感染肺炎疫情防控工作正處于關(guān)鍵時期，疫情防控關(guān)乎每個人的生命健康，為減少公眾交叉感染和降低傳播風(fēng)險，PHI CHINA積極配合國家的防控工作。PHI CHINA始終秉持初心，在疫情防控期間已經(jīng)著手通過多種渠道繼續(xù)為我們的用戶提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)，并于近期通過互聯(lián)網(wǎng)平臺連接我們的客戶啟動光電子能譜ZT網(wǎng)絡(luò)講堂，與大家攜手發(fā)揮好PHI XPS儀器功效，進(jìn)一步推動表面分析技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展。

       X射線光電子能譜儀作為表面分析領(lǐng)域重要的大型科學(xué)儀器，廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究和高科技產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域。ULVAC-PHI獨(dú)具特色的掃描聚焦型XPS可以提供高表面靈敏（<10 nm）和高空間分辨(<10 um)的化學(xué)態(tài)解析能力；通過與UPS和IPES相結(jié)合，可以實(shí)現(xiàn)對芯能級、價帶和導(dǎo)帶電子結(jié)構(gòu)信息的全面探測；通過結(jié)合氬離子和團(tuán)簇離子源（GCIB），可以實(shí)現(xiàn)對無機(jī)/有機(jī)多層膜結(jié)構(gòu)材料進(jìn)行深度剖析。為了幫助客戶深入了解掃描聚焦型X射線光電子能譜儀的技術(shù)特點(diǎn)，提升大型科學(xué)儀器在表面分析中的功用，本期光電子能譜ZT之網(wǎng)絡(luò)講堂將聚焦于光電子能譜原理、儀器結(jié)構(gòu)、數(shù)據(jù)處理、實(shí)驗(yàn)技術(shù)以及日常維護(hù)等基本操作，網(wǎng)絡(luò)講堂具體安排如下：

請?zhí)顚懸韵聢?bào)名表格，提供有效Email地址以接收網(wǎng)絡(luò)講堂參會邀請,并于2月7日前回復(fù)

如有任何問題，可聯(lián)系:

潘劍南 1861230 0780, nice.pan@coretechint.com

張偉 185 0008 4171, William.zhang@coretechint.com

       新型冠狀病毒感染肺炎疫情防控工作正處于關(guān)鍵時期，疫情防控關(guān)乎每個人的生命健康，為減少公眾交叉感染和降低傳播風(fēng)險，PHI CHINA積極配合國家的防控工作。PHI CHINA始終秉持初心，在疫情防控期間已經(jīng)著手通過多種渠道繼續(xù)為我們的用戶提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)，并于近期通過互聯(lián)網(wǎng)平臺連接我們的客戶啟動光電子能譜ZT網(wǎng)絡(luò)講堂，與大家攜手發(fā)揮好PHI XPS儀器功效，進(jìn)一步推動表面分析技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展。
        X射線光電子能譜儀作為表面分析領(lǐng)域重要的大型科學(xué)儀器，廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究和高科技產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域。ULVAC-PHI獨(dú)具特色的掃描聚焦型XPS可以提供高表面靈敏（<10nm）和高空間分辨(<10um)的化學(xué)態(tài)解析能力；通過與UPS和IPES相結(jié)合，可以實(shí)現(xiàn)對芯能級、價帶和導(dǎo)帶電子結(jié)構(gòu)信息的全面探測；通過結(jié)合氬離子和團(tuán)簇離子源（GCIB），可以實(shí)現(xiàn)對無機(jī)/有機(jī)多層膜結(jié)構(gòu)材料進(jìn)行深度剖析。為了幫助客戶深入了解掃描聚焦型X射線光電子能譜儀的技術(shù)特點(diǎn)，提升大型科學(xué)儀器在表面分析中的功用，本期光電子能譜ZT之網(wǎng)絡(luò)講堂將聚焦于光電子能譜原理、儀器結(jié)構(gòu)、數(shù)據(jù)處理、實(shí)驗(yàn)技術(shù)以及日常維護(hù)等基本操作，網(wǎng)絡(luò)講堂具體安排如下：

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       請于2月7日前報(bào)名，并提供有效E-mail地址以接收網(wǎng)絡(luò)講堂參會邀請，謝謝！

       如有任何問題，可聯(lián)系：潘劍南 186 1230 0780  Nice.pan@coretchint.com張   偉  185 0008 4171 William.zhang@coretechint.com

       繼上期面向PHI用戶的表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂的成功舉辦，本期面向高校師生的網(wǎng)絡(luò)講堂也如約而至，在昨天（2月20日）為小伙伴們開講了diyi課，共有來自90多所高校和科研院所的千余名師生參加。在接下來的三周，將有更精彩的內(nèi)容呈現(xiàn)給大家，讓我們一起來探索表面分析的世界！

       當(dāng)前新型冠狀病毒疫情防控工作正處于關(guān)鍵時期，疫情防控關(guān)乎每個人的生命健康，為減少公眾交叉感染和降低傳播風(fēng)險，高校都已經(jīng)宣布推遲春季學(xué)期開學(xué)。雖然現(xiàn)在只能宅在家里，但是疫情是暫時的，學(xué)習(xí)是長遠(yuǎn)的，待到春暖花開時，小伙伴們就可以奔赴科研戰(zhàn)線，攀登科學(xué)的高峰！X射線光電子能譜儀作為表面分析領(lǐng)域重要的大型科學(xué)儀器，廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究和高科技產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域。ULVAC-PHI獨(dú)具特色的掃描聚焦型XPS可以提供高表面靈敏（<10 nm）和高空間分辨(<10 um)的化學(xué)態(tài)解析能力；通過與UPS和IPES相結(jié)合，可以實(shí)現(xiàn)對芯能級、價帶和導(dǎo)帶電子結(jié)構(gòu)信息的全面探測；通過結(jié)合氬離子和團(tuán)簇離子源（GCIB），可以實(shí)現(xiàn)對無機(jī)/有機(jī)多層膜結(jié)構(gòu)材料進(jìn)行深度剖析；通過專業(yè)的XPS數(shù)據(jù)處理軟件MultiPak可實(shí)現(xiàn)對數(shù)據(jù)的定性和定量分析。

       X射線光電子能譜（XPS）已經(jīng)是材料分析中離不開的利器，但是小伙伴們對測試和數(shù)據(jù)分析還是有些疑問，樣品怎么準(zhǔn)備，如何進(jìn)行微區(qū)分析，深度分析中膜厚怎么計(jì)算，數(shù)據(jù)如何擬合，UPS功函數(shù)如何計(jì)算，如果測試導(dǎo)帶和帶隙，測試得不到滿意結(jié)果...您是不是也有類似的困惑嗎？為了幫助小伙伴們深入了解XPS的功能特點(diǎn)和數(shù)據(jù)解析，讓XPS助力提升科研工作，本期光電子能譜ZT之網(wǎng)絡(luò)講堂面向科研一線的師生，將詳細(xì)講解光電子能譜的基本原理、儀器結(jié)構(gòu)、實(shí)驗(yàn)技術(shù)以及數(shù)據(jù)處理，網(wǎng)絡(luò)講堂具體安排如下：

       如果您對光電子能譜或者其他表面分析技術(shù)感興趣，歡迎您關(guān)注我們公眾號，我們會持續(xù)為您呈現(xiàn)精彩內(nèi)容，讓我們一起來探索表面分析的世界！

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       昨天的上課視頻，想要下載，可以點(diǎn)擊微信公眾號“閱讀原文”，通關(guān)密碼是“erlk”

PHI CHINA自2月11日開始通過網(wǎng)絡(luò)直播的方式，展開為期四周的光電子能譜ZT講座，獲得了廣泛關(guān)注和一致好評。為了滿足大家熱切的學(xué)習(xí)需求，PHI CHINA將推出“俄歇電子能譜ZT”講座，為期三天：3月11日至3月13日，每天下午三點(diǎn)準(zhǔn)時開講。

01 3月11日

魯?shù)馒P

AES技術(shù)基本原理、主要功能和應(yīng)用 

主要內(nèi)容： 

①、AES 的基本原理：俄歇電子的產(chǎn)生、主要技術(shù)能力；空間分辨、檢出限以及定性定量等；俄歇系統(tǒng)的基本構(gòu)成和能量分析器的特點(diǎn)；

②、AES 的主要功能：采譜、線掃描、成像、深度剖析等；冷脆斷斷面分析、原位 FIB+EDS+BSE+EBSD 全方位成分表征； 

③、AES 的主要應(yīng)用：納米材料、金屬、半導(dǎo)體、催化材料、能源電池、太陽能光伏、膜層結(jié)構(gòu)剖析等。 

02 3月12日

辛國強(qiáng)

AES硬件簡介、儀器功能及特點(diǎn)  

主要內(nèi)容：

①、系統(tǒng)結(jié)構(gòu)；

②、真空系統(tǒng)； 

③、能量分析器基本原理；

④、電子槍及電子探測器； 

⑤、離子槍基本原理； 

⑥、俄歇儀器功能及特點(diǎn)。 

03 3月13日

葉上遠(yuǎn)

AES樣品制備、數(shù)據(jù)采集及處理 

主要內(nèi)容：

①、對于不同的分析目的，如何做相對應(yīng)的樣品制備；

②、簡單的俄歇圖譜解釋，原圖和微分譜與定性/定量分析；

③、如何使用軟件和俄歇手冊處理重疊峰；

④、俄歇峰背景扣除；

⑤、線掃和面掃數(shù)據(jù)分析；

⑥、如何使用 LLS 進(jìn)行深度分析數(shù)據(jù)處理；

⑦、從導(dǎo)體到半導(dǎo)體俄歇分析，以及分析中電荷中和的方法。 

此次講堂繼續(xù)延用網(wǎng)絡(luò)直播的形式，現(xiàn)場答疑。

PHI CHINA在表面分析領(lǐng)域多年深耕，專注表面分析的發(fā)展與科研，希望本系列講堂能幫您豐富知識，提升技能，與大家攜手進(jìn)一步推動表面分析技術(shù)的蓬勃發(fā)展。若您對課程安排或技術(shù)方面有任何疑問，歡迎在微信公眾號給我們留言。

更多資訊，請關(guān)注微信公眾號：PHI與高德，我們將不定期共享更多資料，為您在科研道路上助力。 

       當(dāng)前全國正處于抗擊新冠肺炎疫情的關(guān)鍵時期，PHI CHINA積極響應(yīng)政府政策并做好防控工作。與此同時，PHI CHINA充分利用互聯(lián)網(wǎng)資源，于2020年2月11日15時通過互聯(lián)網(wǎng)平臺為廣大用戶開設(shè)了線上培訓(xùn)課程，進(jìn)行了專業(yè)理論知識培訓(xùn)，做到“戰(zhàn)勝疫情”和“提升能力”兩不誤。

       本期網(wǎng)絡(luò)講堂“PHI CHINA 表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂之光電子能譜ZT”，包含光電子能譜相關(guān)的基本原理、譜儀結(jié)構(gòu)、數(shù)據(jù)處理和實(shí)驗(yàn)技術(shù)四個課程，將通過互聯(lián)網(wǎng)平臺開展為期四天（2月11日-14日）的ZT網(wǎng)絡(luò)課程。

       昨天是網(wǎng)絡(luò)講堂的diyi課，由PHI CHINA應(yīng)用專家鞠煥鑫博士進(jìn)行光電子能譜基本原理講解，在講座中對ULVAC-PHI及PHI CHINA公司進(jìn)行了簡單介紹后，鞠煥鑫博士針對光電子能譜領(lǐng)域中的XPS/UPS/LEIPS的基本原理、技術(shù)特點(diǎn)及應(yīng)用開展詳細(xì)講解。網(wǎng)絡(luò)講堂結(jié)束后，鞠煥鑫博士對參會聽眾的疑問進(jìn)行了詳細(xì)的解答。

       本次網(wǎng)絡(luò)講堂共有來自高校和產(chǎn)業(yè)界的500多名用戶參與，網(wǎng)絡(luò)講堂的學(xué)習(xí)形式也受到了廣大用戶的一致好評。我們將秉持為用戶提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)的初心，在疫情防控期間通過多種渠道繼續(xù)為我們的用戶提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)，與大家攜手發(fā)揮好PHI XPS儀器功效，進(jìn)一步推動表面分析技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展。

看得見的是光芒 看不見的是力量

       在這疫情防控關(guān)鍵時期，PHI CHINA所有員工聽從號令，樹立必勝信心，立足本職、加強(qiáng)業(yè)務(wù)學(xué)習(xí)，以更高標(biāo)準(zhǔn)做好各項(xiàng)工作，更好的為廣大客戶提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)。

注意！注意！注意！

       ★答疑的部分，整理好后將會分享給大家，讓我們一同學(xué)習(xí)與討論！ 

       ★2月12日15時將學(xué)習(xí)光電子能譜的譜儀結(jié)構(gòu)，千萬不要錯過哦！

       ★為避免錯過直播，請各位老師、同學(xué)進(jìn)入公眾號，點(diǎn)擊菜單欄下方的“資料ZX--網(wǎng)絡(luò)講堂”進(jìn)入直播間。關(guān)注“PHI-CHINA”主播，一起學(xué)習(xí)吧！

       繼2月11日PHI CHINA通過網(wǎng)絡(luò)平臺成功開講了“PHI CHINA 表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂之光電子能譜ZT”的diyi課后，網(wǎng)絡(luò)講堂第二課于2月12日15時準(zhǔn)時開講。本次課程的主題為“譜儀結(jié)構(gòu)”，主講人為PHI CHINA總經(jīng)理葉上遠(yuǎn)先生。在近一個半小時的課程中，葉上遠(yuǎn)先生針對光電子能譜儀器結(jié)構(gòu)、樣品制備及傳輸操作等內(nèi)容展開詳細(xì)的講解，講解部分結(jié)束后他還針對參與講堂的聽眾疑問進(jìn)行了在線答疑。

       本期網(wǎng)絡(luò)講堂的主題分為光電子能譜相關(guān)的基本原理、譜儀結(jié)構(gòu)、數(shù)據(jù)處理和實(shí)驗(yàn)技術(shù)四個課程，將通過互聯(lián)網(wǎng)平臺開展為期四天（2月11日-14日）的ZT網(wǎng)絡(luò)課程。以下是課程安排：

下期精彩 不要錯過

       2月13日15時將學(xué)習(xí)光電子能譜的數(shù)據(jù)處理，記得準(zhǔn)時收看哦！

       為避免錯過直播，請各位老師、同學(xué)進(jìn)入“PHI與高德公眾號”，點(diǎn)擊菜單欄下方的“資料ZX--網(wǎng)絡(luò)講堂”進(jìn)入直播間，關(guān)注“PHI-CHINA”主播，一起學(xué)習(xí)吧！

       昨日（2月13日）15時開講的“PHI CHINA表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂之光電子能譜ZT”第三課，主題為“光電子能譜的數(shù)據(jù)處理”，由PHI CHINAZS應(yīng)用專家魯?shù)馒P女士主講，憑借著自己從業(yè)多年的經(jīng)驗(yàn)，她和與會者分享了XPS圖譜特點(diǎn)及如何利用MultiPak軟件來進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。對于部分聽眾的在線提問，她也給予了耐心和細(xì)致的解答，使得聽眾們對于光電子能譜的數(shù)據(jù)處理的實(shí)際應(yīng)用有了更具體而深刻的理解。

       時至今日，PHI CHINA表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂之光電子能譜ZT已成功開講了三課，分別是：光電子能譜相關(guān)的基本原理、譜儀結(jié)構(gòu)、數(shù)據(jù)處理。Z后一課“光電子能譜儀的實(shí)驗(yàn)技術(shù)”將于今日15時準(zhǔn)時開講。各位老師、同學(xué)可通過關(guān)注“PHI與高德”公眾號，點(diǎn)擊菜單欄下方的“資料ZX—網(wǎng)絡(luò)講堂”進(jìn)入直播間，關(guān)注“PHI-CHINA”主播，一同學(xué)習(xí)。

第2課答疑整理

1.單光源和雙光源的區(qū)別？mu金屬腔體作用？

       單光源(X射線源)和雙X射線源在XPS設(shè)備上，重要的差別是雙X射線源可以在分析中提供到兩種X射線源去進(jìn)行XPS分析。在擁有兩種不同的X射線能量時，可以在分析時快速切換以達(dá)到:

1、得到不同分析深度的XPS結(jié)果(例如在使用硬X射線Cr源時可以得到比Al源獲得多3倍的深度訊息)

2、在圖譜中避免俄歇峰的重疊問題。

Mu金屬的使用是可以屏蔽環(huán)境中的變動磁場，避免對于在電子能譜實(shí)驗(yàn)時對電子動能的影響，當(dāng)中特別是低動能的電子會受影響。

樣品粗糙度有要求嗎？

       會有的?；旧洗植诙人鸬牟黄骄裕瑫悠吩趯?shí)驗(yàn)結(jié)果上的訊號強(qiáng)度造成影響(如下圖)。如粗糙度越大，在訊號強(qiáng)度影響越大的情況下，將會對基于峰積分強(qiáng)度計(jì)算的結(jié)果也會影響。不過，對于所測出的元素或其化學(xué)態(tài)倒是不預(yù)期會有影響。

3.XPS需要超高真空的原因那張表可以再講下？

       如下圖中：

       不同的真空等級中包括:760Torr=大氣,0.01Torr=低真空,E-5Torr=高真空,E-9=超高真空,E-12=極限真空。

       比較項(xiàng)為：

       How vacuum was attained:使用哪種真空泵或方法獲得

       Molecules/m3:每立方米中有多少分子(當(dāng)然真空差的時候,數(shù)字越大)

       Distance between molecules：在空間中分子間的距離(當(dāng)然真空差的時候,距離越短)

       Collisions/second:每秒分子之間或在空間中撞擊次數(shù)(真空越差，撞擊越多)

       Mean free path between collision:平均自由路徑在撞擊后在真空中Z大的移動距離(真空越好，移動距離越遠(yuǎn))

       Path(English unit): 英制距離單位(吋)

       Molecules/second/cm2 striking surface:每秒每平方厘米在樣品上的分子撞擊次數(shù)(真空越差，撞擊次數(shù)越多)

       Time for one monolayer to form:在上一項(xiàng)因分子撞擊下，在樣品上形成額外一層單原子層所需的時間

       Monolayer per second:因此每秒會在樣品上形成的單原子層數(shù)量

       在表面分析實(shí)驗(yàn)中，分析時間可以一分鐘、十分鐘……到幾十分鐘或以小時算，因此，超高真空在實(shí)驗(yàn)過程的維持是非常重要。不然，在不足的真空之下，分析到的訊號就不會是真正從樣品表面而來的。一般在真正實(shí)驗(yàn)中，E-8Torr很多時候是Z低的真空要求。

INTERESTING FACTS ABOUT VACUUM

4.FRR的成像能量窗口比FAT大很多？

       FRR在一般情況下的能量窗口是比較大的，但是FAT模式的能量窗口是可變的(透過改變通能)，所在也可以在設(shè)定中使能量窗口設(shè)成和FRR時的一樣大。

對于FRR模式，無減速。進(jìn)入的電子有自己的動能，分析儀會選擇動能穿過ZX路徑，到達(dá)Z終檢出器。

5.兩種能量分析模式?jīng)]聽懂，請完后再解釋下

       在報(bào)告中，我以“分析器中正在偵測的電子之速度”來區(qū)分FRR和FAT兩種模式的差別。

       FRR=分析器中正在偵測的電子之速度→在分析過程圖譜中的不同動能時實(shí)際上在持續(xù)改變。

       FAT=分析器中正在偵測的電子之速度→在分析過程圖譜中的不同動能時實(shí)際上不變。

       在電子能譜中,所測試的一直都是電子的動能,換句話說是速度。而在能譜中，訊號強(qiáng)度(靈敏度)和能量分辨率(分辨不同動能的能力)是在圖譜中的兩個Z重要的參數(shù)。在報(bào)告中，提出了FRR模式可以提供高靈敏度但比較差的能量分辨；而FAT則是相反的，有著比較好的能量分辨但靈敏度略低。在應(yīng)用中，F(xiàn)RR更多的會使用在俄歇分析中，而FAT則是會應(yīng)用在XPS，原因完全是因?yàn)閮煞N不同分析技術(shù)的原理，俄歇很多時候應(yīng)用在納米等級的分析(因此需要使用低電流獲得小束斑，而低電流會使訊號偏低),而且本身俄歇在原理中，俄歇峰相對起來峰寬度就很大，因此FRR模式更適合用在俄歇分析的。就XPS來說，在光電效應(yīng)下光電子的產(chǎn)額相對高，且XPS中對化學(xué)分析其中一個重要的差別是在化學(xué)位移(結(jié)合能變化)，所以FAT的模式會更適合其應(yīng)用。而其工作原理，請參考下題的回復(fù)。

6.FAT如何實(shí)現(xiàn)光電子能量固定？電量怎么換算成動能？

       在以下詳細(xì)回答之前，簡單的回答：FAT模式中使用了減速電壓(Retard Voltage)的設(shè)計(jì)，達(dá)到了使進(jìn)入分析時所偵測的電子動能/速度都是一樣的。例子如下：

       1、首先在減速之前，如報(bào)告中提到在X射線激發(fā)樣品表面時，激發(fā)出的各種電子是四散的。這時候輸入透鏡會去吸引這些電子，因此會給予所有電子一個額外能量。舉例來說，假設(shè)這初始電壓為10eV。

       2、在這之后，retard voltage減速電壓開始工作如下：

       （1）例如，我們希望所有電子以10eV的速度飛入分析器。

       （2）分析器開始工作以獲取光譜。它將“掃描”一定范圍的能量。

       （3）首先，它嘗試檢測原始為0eV KE的電子（現(xiàn)在從輸入鏡頭獲得實(shí)為10eV），因此此時減速電壓=0。

       （4）如果步長eV/step是1eV/step，則下一個檢測到的KE將是原始為1eV的電子（現(xiàn)在在輸入透鏡之后為11eV）。所以那時減速電壓=-1。

      （5）如此例推，當(dāng)檢測到KE=1000eV的電子時（在輸入透鏡之后為1010eV），這個概念將繼續(xù),所以那時的減速電壓=-1000。

      （6）通過執(zhí)行此過程，我們可以使進(jìn)入分析器的所有電子都相同。

      （7）另外，由于減速電壓是“由軟件提供的”，因此軟件將分別知道在每個給定的減速電壓下的實(shí)際檢測KE動能，從而Z后給出XPS圖譜。

7.那靜電吸附會影響光電子的能量分析準(zhǔn)確性？

       會的，因?yàn)檫@會影響到樣品上的電荷平衡和逸出電子的動能。

8.圖像選點(diǎn)和實(shí)際分析的點(diǎn)會不會存在漂移？

       基本不會。在PHI設(shè)備上，成像影像和分析時候都是使用完全同一套光路系統(tǒng)，包括X射線分析器到檢出器。

9.UPS的光斑多大，常用的參數(shù)設(shè)置一般有哪些？

       從前設(shè)計(jì)～=1.5x3mm

       Z新PHI設(shè)計(jì)～=1x1mm

10.樣品制備中不建議使用C導(dǎo)電膠帶？兩種3M導(dǎo)電膠的適用范圍是？

       一般樣品可以使用導(dǎo)電碳膠帶，但是對于樣品中同時含有導(dǎo)電成分，又含有不導(dǎo)電成分，可能就會存在荷電不均勻，譜圖會出現(xiàn)漂移，對于這類樣品建議用完全絕緣的3M膠帶。

11.壓不壓片、平整度會影響元素含量嗎？

       如果元素組分是混合均勻的，應(yīng)該不會影響組分的比例。但是樣品不平整，可能會影響信號質(zhì)量。如果含有含量較少的元素，建議壓片制樣。

12.樣品托角度改變了，雙束中和效果會變化很大嗎？

       改變TOA，對中和效果影響不大的。

13.怎么保證離子濺射的區(qū)域和分析點(diǎn)區(qū)域是一個區(qū)域？如果區(qū)域不在一起是不是說明五軸樣品臺位置變了？

       1、工程師對儀器調(diào)試時，會對電子槍和離子槍束斑位置進(jìn)行調(diào)試，與X射線束斑位置是重合的。

       2、跟樣品臺沒有任何關(guān)系，就是離子槍和X-ray的合軸對中。

14.離子槍是用來濺射清理的還是用來中和的?感覺不需要正電荷中和吧？

       1、中和加濺射，并不是全部情況都需要離子荷電中和的。

       2、雙束中和，正離子是中和樣品表面分析區(qū)域以外的負(fù)電荷。

15.對于不導(dǎo)電曲面，是不是可能中和效果差了？中和時，離子束和電子束束斑可調(diào)嗎？還是固定的？

       中和時束斑固定的不可調(diào)。

16.您所說的曲面是指微球樣品嗎，直徑一般是多少？

       直徑只有10mm的環(huán)；

       這個尺寸應(yīng)該足夠大了，對于100um的光斑區(qū)域，可以認(rèn)為是平面，中和也是沒有問題的。

17.對于導(dǎo)電性未知的樣品，在選點(diǎn)和測試時都建議打開雙束中和的吧？

       是的。

為期四天的“PHI CHINA表面分析技術(shù)網(wǎng)絡(luò)講堂之光電子能譜ZT”已于昨日（2月14日）落下帷幕。本期ZTZ后一課由PHI CHINAZS售后工程師辛國強(qiáng)先生主講，主題為“關(guān)于光電子能譜的實(shí)驗(yàn)技術(shù)”。

作為行業(yè)ZS技術(shù)專家，辛國強(qiáng)先生同與會者分享了譜儀器硬件、軟件的基本操作以及日常維護(hù)所需的注意事項(xiàng)。在分享后的在線答疑環(huán)節(jié)，他憑借自己多年客服工作積累的豐富經(jīng)驗(yàn)，針對與會者提出的實(shí)操中的各種問題提供了翔實(shí)的解答，為本輪網(wǎng)絡(luò)課堂ZT活動劃下wan美句點(diǎn)。

停工不停業(yè)，服務(wù)不打烊。PHI CHINA團(tuán)隊(duì)將繼續(xù)秉持初心，一如既往地為廣大用戶和合作伙伴提供優(yōu)質(zhì)、專業(yè)的服務(wù)。我們將為大家開展更加豐富精彩的網(wǎng)路課程，在此我們歡迎關(guān)注PHI CHINA的各位新老朋友積極參與互動，如果對于網(wǎng)絡(luò)講堂ZT活動有相關(guān)意見和建議，也歡迎在文末或公眾號后臺留言告訴我們。