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如何判斷等離子清洗機(jī)的效果

陽光下的幸福86 2015-01-27 10:32:48 639  瀏覽
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參與評(píng)論

全部評(píng)論(3條)

  • yahu666 2017-04-06 00:00:00
    通過達(dá)因特等離子清洗達(dá)到的目的,無非就是提高表面附著力,可以用接觸角測(cè)量?jī)x測(cè)試角度,從而判斷清洗效果。.接觸角測(cè)量?jī)x是目前等離子清洗效果評(píng)估Z為常見、業(yè)界Z為認(rèn)可的檢測(cè)方法。測(cè)試數(shù)據(jù)準(zhǔn)確、操作簡(jiǎn)捷、重復(fù)性和穩(wěn)定性高。其原理就是通過光學(xué)外觀輪廓的方法,在固體樣品表面進(jìn)行滴定一定量的液滴,量化檢測(cè)液滴在固體表面的接觸角大小,接觸角小,說明清洗效果越好。早期時(shí),很多實(shí)際評(píng)估等離子清洗時(shí),會(huì)采用簡(jiǎn)易注射器滴水簡(jiǎn)單評(píng)估的辦法,但是該方法只有在效果明顯時(shí)才能觀察到。

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    評(píng)論

  • 葡萄a(bǔ)nd魚 2015-01-28 00:00:00
    你可以具體說說嗎?比如你的等離子是真空的?微波還是射頻?清洗的工藝氣體是什么?清洗什么基材呢?

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    評(píng)論

  • 優(yōu)職劉 2017-08-03 13:25:55
    等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)組成,主要都是由兩個(gè)部分組成: 一是,等離子發(fā)生器,該部分由集成電路、運(yùn)行控制、等離子發(fā)生電源、氣源處理、安全防護(hù)等組成。 二是,等離子處理裝置,該部分由激發(fā)電極、激發(fā)氣路等組成。 常見的等離子清洗效果,采用接觸角測(cè)量?jī)x、達(dá)因筆、表面能測(cè)試墨水居多。 1.接觸角測(cè)量?jī)x是目前等離子清洗效果評(píng)估Z為常見、業(yè)界Z為認(rèn)可的檢測(cè)方法。測(cè)試數(shù)據(jù)準(zhǔn)確、操作簡(jiǎn)捷、重復(fù)性和穩(wěn)定性高。其原理就是通過光學(xué)外觀輪廓的方法,在固體樣品表面進(jìn)行滴定一定量的液滴,量化檢測(cè)液滴在固體表面的接觸角大小,接觸角小,說明清洗效果越好。早期時(shí),很多實(shí)際評(píng)估等離子清洗時(shí),會(huì)采用簡(jiǎn)易注射器滴水簡(jiǎn)單評(píng)估的辦法,但是該方法只有在效果明顯時(shí)才能觀察到。 2.達(dá)因筆是企業(yè)采用較多的,操作非常簡(jiǎn)便的檢測(cè)方法。 其原理是通過不同數(shù)值的達(dá)因筆,就是不同表面張力的液體,不同表面張力的液體在不同表面自由能的潤(rùn)濕和收縮來判斷固體樣品表面的表面自由能高低。 但是該方法受不同廠家制作的達(dá)因筆、人為操作這些影響,重復(fù)性和穩(wěn)定性較差。 3.表面能測(cè)試液則是和達(dá)因筆的原理是一樣的。

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    評(píng)論

熱門問答

如何判斷等離子清洗機(jī)的效果
 
2015-01-27 10:32:48 639 3
判斷等離子清洗機(jī)的清洗效果的方法

如何判斷等離子清洗機(jī)處理的產(chǎn)品或材料的效果?除了水滴角(接觸角)測(cè)試儀和達(dá)因筆外,還有其他方法嗎?答案是肯定的。

在判斷等離子清洗效果的常用方法中,主要使用水滴角(接觸角)測(cè)量?jī)x,達(dá)因筆等。其他判斷方法可能需要特殊的工具或特殊的過程效果才能體現(xiàn)出來。限制。

1.水滴角(接觸角)測(cè)量?jī)x是當(dāng)前等離子體清潔效果評(píng)估方法中的一種常見檢測(cè)方法。測(cè)試數(shù)據(jù)準(zhǔn)確,操作簡(jiǎn)單,重復(fù)性高,穩(wěn)定性好。原理是通過光學(xué)外觀輪廓法滴定固體樣品表面上一定數(shù)量的液滴,并量化液滴在固體表面上的接觸角。接觸角越小,清潔效果越好。雨滴角測(cè)試可以顯示等離子體是否對(duì)產(chǎn)品處理產(chǎn)生影響,但是無法確定此結(jié)果是否滿足加工要求。特別是在顆粒去除過程中,水滴的角度無法測(cè)試顆粒是否被去除。不同材料的水滴角測(cè)量?jī)x(接觸角測(cè)量?jī)x)的產(chǎn)品在等離子處理前后具有不同的水滴角,具體取決于所用材料的分子或組織結(jié)構(gòu)正在處理的材料。不同的材料具有不同的初始表面能。經(jīng)過等離子處理后,表面上的反應(yīng)也不同,因此處理后的角度也不均勻,特別是對(duì)于有機(jī)材料。

注意:水滴角度測(cè)試應(yīng)與每個(gè)測(cè)試的水滴大小相匹配,并確保測(cè)試水的變化不大。

2.達(dá)因筆是企業(yè)廣泛使用的一種檢測(cè)方法,非常易于操作。達(dá)因是表面張力的單位。原理是通過潤(rùn)濕和收縮具有不同值的達(dá)因筆的不同表面張力來判斷固體樣品表面的表面自由能水平。但是,該方法受到不同制造商制造的達(dá)因筆和手動(dòng)操作的影響,并且重復(fù)性和穩(wěn)定性差。物體的表面能的單位,達(dá)因值小,物體的表面能低,達(dá)因值大,物體的表面能大,表面能越高越好吸附,結(jié)合和涂層效果更好。達(dá)因筆可以直接測(cè)試物體的表面能,使用方便可靠。

注意:表面能測(cè)試液的原理與達(dá)因鉛筆的原理相同。

3. SEM掃描是掃描電子顯微鏡的縮寫,它可以將物體的表面放大數(shù)千倍并拍攝分子結(jié)構(gòu)的顯微圖像。

4.紅外掃描是在等離子處理之前和之后使用紅外測(cè)試設(shè)備測(cè)試工件表面上的極組和元素成分的組合。

5.拉伸力測(cè)試(推力)對(duì)于用于連接的產(chǎn)品,此方法實(shí)用且可靠。

6.大功率顯微鏡觀察方法適用于需要去除顆粒的相關(guān)產(chǎn)品。

7.切割方法適用于繼續(xù)進(jìn)行切割觀察的行業(yè),例如PCB和FPC加工行業(yè)。進(jìn)行切割時(shí),請(qǐng)使用玻璃相顯微鏡觀察并測(cè)量對(duì)電路板上孔的蝕刻效果。

8.稱量法適用于測(cè)試蝕刻和焚燒后等離子體對(duì)材料表面的影響。主要目的是驗(yàn)證等離子體處理設(shè)備的均一性,它是一個(gè)相對(duì)較高的指標(biāo)。

9.等離子清洗機(jī)使用氣體作為清洗介質(zhì)。工作時(shí),清潔室中的等離子體會(huì)輕輕地清洗要清潔物體的表面,并且可以在短時(shí)間內(nèi)有效地清潔有機(jī)污染物,并且真空泵可以抽出污染物。其清潔度達(dá)到分子水平。為了驗(yàn)證等離子體清潔器的效果,可以通過SITA  CI表面清潔系統(tǒng)測(cè)量RFU值,并使用RFU(相對(duì)熒光單位)值指示清潔程度。 RFU是熒光強(qiáng)度的相對(duì)值。 RFU值越高,零件表面上殘留污染物的含量越高。

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等離子清洗機(jī)多少錢
進(jìn)口的等離子清洗機(jī)一般多少錢
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schwarze等離子清洗機(jī)
 
2011-11-17 04:25:59 492 2
實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)

-儀器介紹-

小型等離子表面處理設(shè)備是專門針對(duì)于大學(xué),研究機(jī)構(gòu)和工廠研發(fā)機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)的小批量樣品處理裝置,作為有針對(duì)的設(shè)計(jì),突出移動(dòng)方便,多種配置功能和高性能以及穩(wěn)定性,操作方便的使用特性。

-設(shè)置參數(shù)-

  a. 頻率偏移量: 小于0.2KHz

  b. 特性阻抗: 50歐姆,自動(dòng)匹配

  c. 真空度: 10Pa—1000Pa

  d. 氣體流量: 60—600ml/min(可調(diào))

  e. 過程控制: MCU自動(dòng)與手動(dòng)方式

  f. 清洗時(shí)間: 1-100分鐘可調(diào)

  g. 功率大小 10%-100%可調(diào)

  h. 真空泵: 2XZ-4

  i. 真空室溫度: 小于65°C

  j. 冷卻方式: 強(qiáng)制風(fēng)冷

-儀器特點(diǎn)-

 ?。?)體積小,,可放置在任何實(shí)驗(yàn)臺(tái)上。

 ?。?)性能可靠,“肚量”寬大。真空腔體采用T6061航空鋁合金材料無縫焊接,電極面積達(dá)到89mm*170mm,腔體與電極之間的間隙可到53mm,樣品放置空間大。

  (3)配置靈活,可配置不同的頻率及功率:50KHz,13.56MHz;控制系統(tǒng)可選擇了PLC微電腦控制和更精j準(zhǔn)的全數(shù)字電腦控制,以滿足不同用戶的要求。

 ?。?)操作簡(jiǎn)便,一般操作人員在極短的時(shí)間內(nèi)就可以熟練操作,甚至只需要幾分鐘就可掌握。

  (5) 安全保障:在小型設(shè)備中,引入一鍵急停保護(hù)按鈕,可以快速終止實(shí)驗(yàn),以最小程度降低因操作失誤而造成對(duì)樣品的損害。

-儀器應(yīng)用-

  光學(xué)鏡片清洗:清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

  去除氧化物:移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。

  芯片清洗:清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。

  表面修飾:高分子材料表面的修飾。

  封裝領(lǐng)域:封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,增強(qiáng)其粘附性,適用于直接封裝及粘和。

  改善粘合力:改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

  涂覆鍍膜:對(duì)玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。

  牙科領(lǐng)域:對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性。

  醫(yī)用領(lǐng)域:修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性


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