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- 愛你的堂哈哈 2016-11-15 00:00:00
- 晟鼎等離子清洗機的結(jié)構(gòu)組成,主要都是由兩個部分組成: 一是,等離子發(fā)生器,該部分由集成電路、運行控制、等離子發(fā)生電源、氣源處理、安全防護等組成。 二是,等離子處理裝置,該部分由激發(fā)電極、激發(fā)氣路等組成。 晟鼎等離子清洗作為重要的材料表面改性方法,已經(jīng)在眾多領域廣泛使用。與傳統(tǒng)的一些清洗方法,如超聲波清洗、UV清洗等,具有以下特點:處理溫度低,處理全程無污染,處理效率高,可實現(xiàn)全自動在線生產(chǎn);處理效果穩(wěn)定;處理過程無需額外輔助的物品和條件,運行成本低,可以處理各種形狀的樣品。
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如何判斷等離子清洗機處理的產(chǎn)品或材料的效果?除了水滴角(接觸角)測試儀和達因筆外,還有其他方法嗎?答案是肯定的。
在判斷等離子清洗效果的常用方法中,主要使用水滴角(接觸角)測量儀,達因筆等。其他判斷方法可能需要特殊的工具或特殊的過程效果才能體現(xiàn)出來。限制。
1.水滴角(接觸角)測量儀是當前等離子體清潔效果評估方法中的一種常見檢測方法。測試數(shù)據(jù)準確,操作簡單,重復性高,穩(wěn)定性好。原理是通過光學外觀輪廓法滴定固體樣品表面上一定數(shù)量的液滴,并量化液滴在固體表面上的接觸角。接觸角越小,清潔效果越好。雨滴角測試可以顯示等離子體是否對產(chǎn)品處理產(chǎn)生影響,但是無法確定此結(jié)果是否滿足加工要求。特別是在顆粒去除過程中,水滴的角度無法測試顆粒是否被去除。不同材料的水滴角測量儀(接觸角測量儀)的產(chǎn)品在等離子處理前后具有不同的水滴角,具體取決于所用材料的分子或組織結(jié)構(gòu)正在處理的材料。不同的材料具有不同的初始表面能。經(jīng)過等離子處理后,表面上的反應也不同,因此處理后的角度也不均勻,特別是對于有機材料。
注意:水滴角度測試應與每個測試的水滴大小相匹配,并確保測試水的變化不大。
2.達因筆是企業(yè)廣泛使用的一種檢測方法,非常易于操作。達因是表面張力的單位。原理是通過潤濕和收縮具有不同值的達因筆的不同表面張力來判斷固體樣品表面的表面自由能水平。但是,該方法受到不同制造商制造的達因筆和手動操作的影響,并且重復性和穩(wěn)定性差。物體的表面能的單位,達因值小,物體的表面能低,達因值大,物體的表面能大,表面能越高越好吸附,結(jié)合和涂層效果更好。達因筆可以直接測試物體的表面能,使用方便可靠。
注意:表面能測試液的原理與達因鉛筆的原理相同。
3. SEM掃描是掃描電子顯微鏡的縮寫,它可以將物體的表面放大數(shù)千倍并拍攝分子結(jié)構(gòu)的顯微圖像。
4.紅外掃描是在等離子處理之前和之后使用紅外測試設備測試工件表面上的極組和元素成分的組合。
5.拉伸力測試(推力)對于用于連接的產(chǎn)品,此方法實用且可靠。
6.大功率顯微鏡觀察方法適用于需要去除顆粒的相關產(chǎn)品。
7.切割方法適用于繼續(xù)進行切割觀察的行業(yè),例如PCB和FPC加工行業(yè)。進行切割時,請使用玻璃相顯微鏡觀察并測量對電路板上孔的蝕刻效果。
8.稱量法適用于測試蝕刻和焚燒后等離子體對材料表面的影響。主要目的是驗證等離子體處理設備的均一性,它是一個相對較高的指標。
9.等離子清洗機使用氣體作為清洗介質(zhì)。工作時,清潔室中的等離子體會輕輕地清洗要清潔物體的表面,并且可以在短時間內(nèi)有效地清潔有機污染物,并且真空泵可以抽出污染物。其清潔度達到分子水平。為了驗證等離子體清潔器的效果,可以通過SITA CI表面清潔系統(tǒng)測量RFU值,并使用RFU(相對熒光單位)值指示清潔程度。 RFU是熒光強度的相對值。 RFU值越高,零件表面上殘留污染物的含量越高。
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- 微波等離子清洗機技術(shù)的Z大特點介紹
微波等離子清洗機的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
微波等離子清洗機技術(shù)的Z大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結(jié)構(gòu)的清洗。
微波等離子清洗機還具有以下幾個特點:容易采用數(shù)控技術(shù),自動化程度高;具有高精度的控制裝置,時間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;由于是在真空中進行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。
微波等離子清洗機優(yōu)點:1.環(huán)保技術(shù):等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環(huán)境無污染。2.廣適性:不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結(jié)構(gòu)的清洗改性。3.溫度低:接近常溫,特別適于高分子材料,比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。4.功能強:僅涉及高分子材料淺表面(10 -1000A ),可在保持材料自身特性的同時,賦予其一種或多種新的功能;5.低成本:裝置簡單,易操作維修,可連續(xù)運行,往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。6.全過程可控工藝:所有參數(shù)可由電腦設置和數(shù)據(jù)記錄,進行質(zhì)量控制。7.處理物幾何形狀無限制:大或小,簡單或復雜,部件或紡織品,均可處理。
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-儀器介紹-
小型等離子表面處理設備是專門針對于大學,研究機構(gòu)和工廠研發(fā)機構(gòu)設計的小批量樣品處理裝置,作為有針對的設計,突出移動方便,多種配置功能和高性能以及穩(wěn)定性,操作方便的使用特性。
-設置參數(shù)-
a. 頻率偏移量: 小于0.2KHz
b. 特性阻抗: 50歐姆,自動匹配
c. 真空度: 10Pa—1000Pa
d. 氣體流量: 60—600ml/min(可調(diào))
e. 過程控制: MCU自動與手動方式
f. 清洗時間: 1-100分鐘可調(diào)
g. 功率大小 10%-100%可調(diào)
h. 真空泵: 2XZ-4
i. 真空室溫度: 小于65°C
j. 冷卻方式: 強制風冷
-儀器特點-
?。?)體積小,,可放置在任何實驗臺上。
?。?)性能可靠,“肚量”寬大。真空腔體采用T6061航空鋁合金材料無縫焊接,電極面積達到89mm*170mm,腔體與電極之間的間隙可到53mm,樣品放置空間大。
(3)配置靈活,可配置不同的頻率及功率:50KHz,13.56MHz;控制系統(tǒng)可選擇了PLC微電腦控制和更精j準的全數(shù)字電腦控制,以滿足不同用戶的要求。
(4)操作簡便,一般操作人員在極短的時間內(nèi)就可以熟練操作,甚至只需要幾分鐘就可掌握。
?。?) 安全保障:在小型設備中,引入一鍵急停保護按鈕,可以快速終止實驗,以最小程度降低因操作失誤而造成對樣品的損害。
-儀器應用-
光學鏡片清洗:清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
去除氧化物:移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。
芯片清洗:清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
表面修飾:高分子材料表面的修飾。
封裝領域:封裝領域中的清洗和改性,增強其粘附性,適用于直接封裝及粘和。
改善粘合力:改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
涂覆鍍膜:對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增強表面粘附性、浸潤性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。
牙科領域:對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預處理,增強其浸潤性和相容性。
醫(yī)用領域:修復學上移植物和生物材料表面的預處理,增強其浸潤性、粘附性和相容性
- 等離子清洗機有什么用?
- 能不能說的詳細點!謝謝
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