——多模態(tài)臨界尺寸測(cè)量和薄膜計(jì)量學(xué)

FilmTekTM CD光學(xué)臨界尺寸系統(tǒng)是我們解決方案，可用于1x nm設(shè)計(jì)節(jié)點(diǎn)及更高級(jí)別的全自動(dòng)化、高通量CD測(cè)量和高級(jí)薄膜分析。該系統(tǒng)同時(shí)提供已知和完全未知結(jié)構(gòu)的實(shí)時(shí)多層堆疊特性和CD測(cè)量。

FilmTek CD利用多模測(cè)量技術(shù)來(lái)滿足與開發(fā)和生產(chǎn)中復(fù)雜的半導(dǎo)體設(shè)計(jì)特征相關(guān)的挑戰(zhàn)性需求。這項(xiàng)技術(shù)能夠測(cè)量極小的線寬，在低于10納米的范圍內(nèi)進(jìn)行高精度測(cè)量。

依賴傳統(tǒng)橢圓偏振儀或反射儀技術(shù)的現(xiàn)有計(jì)量工具在實(shí)時(shí)準(zhǔn)確解析CD測(cè)量的能力方面受到限制，需要在設(shè)備研究和開發(fā)期間生成繁瑣的庫(kù)。FilmTek CD通過獲得多模態(tài)測(cè)量技術(shù)克服了這一限制，該技術(shù)甚至為完全未知的結(jié)構(gòu)提供了單一解決方案。

FilmTek CD包括具有快速、實(shí)時(shí)優(yōu)化功能的專有衍射軟件。實(shí)時(shí)優(yōu)化允許用戶以小的設(shè)置時(shí)間和配方開發(fā)輕松測(cè)量未知結(jié)構(gòu)，同時(shí)避免與庫(kù)生成相關(guān)的延遲和復(fù)雜度。

測(cè)量能力：

·厚度、折射率和光盤計(jì)量
·未知薄膜的光學(xué)常數(shù)表征
·超薄膜疊層厚度
·廣泛的關(guān)鍵尺寸測(cè)量應(yīng)用，包括金屬柵極凹槽、高k凹槽、側(cè)壁角、抗蝕劑高度、硬掩模高度、溝槽和接觸輪廓以及間距行走

Bruker FilmTek CD橢偏儀在爾迪儀器有售，如有需要可聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司！撥打電話021-61552797！021-61552797！

——多模態(tài)臨界尺寸測(cè)量和薄膜計(jì)量學(xué)

Bruker FilmTekTM CD光學(xué)臨界尺寸系統(tǒng)是我們解決方案，可用于1x nm設(shè)計(jì)節(jié)點(diǎn)及更高級(jí)別的全自動(dòng)化、高通量CD測(cè)量和高級(jí)薄膜分析。該系統(tǒng)同時(shí)提供已知和完全未知結(jié)構(gòu)的實(shí)時(shí)多層堆疊特性和CD測(cè)量。

FilmTek CD利用多模測(cè)量技術(shù)來(lái)滿足與開發(fā)和生產(chǎn)中復(fù)雜的半導(dǎo)體設(shè)計(jì)特征相關(guān)的挑戰(zhàn)性需求。這項(xiàng)技術(shù)能夠測(cè)量極小的線寬，在低于10納米的范圍內(nèi)進(jìn)行高精度測(cè)量。

依賴傳統(tǒng)橢圓偏振儀或反射儀技術(shù)的現(xiàn)有計(jì)量工具在實(shí)時(shí)準(zhǔn)確解析CD測(cè)量的能力方面受到限制，需要在設(shè)備研究和開發(fā)期間生成繁瑣的庫(kù)。FilmTek CD通過獲得多模態(tài)測(cè)量技術(shù)克服了這一限制，該技術(shù)甚至為完全未知的結(jié)構(gòu)提供了單一解決方案。

FilmTek CD包括具有快速、實(shí)時(shí)優(yōu)化功能的專有衍射軟件。實(shí)時(shí)優(yōu)化允許用戶以小的設(shè)置時(shí)間和配方開發(fā)輕松測(cè)量未知結(jié)構(gòu)，同時(shí)避免與庫(kù)生成相關(guān)的延遲和復(fù)雜度。

測(cè)量能力：

·厚度、折射率和光盤計(jì)量
·未知薄膜的光學(xué)常數(shù)表征
·超薄膜疊層厚度
·廣泛的關(guān)鍵尺寸測(cè)量應(yīng)用，包括金屬柵極凹槽、高k凹槽、側(cè)壁角、抗蝕劑高度、硬掩模高度、溝槽和接觸輪廓以及間距行走

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——用于幾乎所有先進(jìn)薄膜或產(chǎn)品晶片測(cè)量的先進(jìn)多模計(jì)量

FilmTek? 2000標(biāo)準(zhǔn)桿數(shù)-SE光譜橢圓偏振儀/多角度反射儀系統(tǒng)結(jié)合了FilmTek技術(shù)，為從研發(fā)到生產(chǎn)的幾乎所有薄膜測(cè)量應(yīng)用提供了業(yè)界的精度、精度和多功能性。其標(biāo)準(zhǔn)的小點(diǎn)測(cè)量尺寸和模式識(shí)別能力使該系統(tǒng)成為表征圖案化薄膜和產(chǎn)品晶片的理想選擇。

作為我們組合計(jì)量產(chǎn)品線（“標(biāo)準(zhǔn)桿數(shù)-SE”）的一部分，F(xiàn)ilmTek 2000標(biāo)準(zhǔn)桿數(shù)-SE能夠滿足主流應(yīng)用所需的平均厚度、分辨率和光譜范圍之外的測(cè)量要求，并由標(biāo)準(zhǔn)儀器提供。

它在超薄到薄膜（特別是多層堆疊中的薄膜）上提供了可重復(fù)的厚度和折射率測(cè)量。此外，與傳統(tǒng)的橢偏儀和反射儀相比，該系統(tǒng)對(duì)這些樣品中的不均勻性更加敏感。這是FilmTek 2000標(biāo)準(zhǔn)桿數(shù)-SE多模設(shè)計(jì)的結(jié)果，該多模設(shè)計(jì)將基于高性能旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器的光譜橢圓偏振儀與我們的多角度差分偏振測(cè)量（MADP）和差分功率譜密度（DPSD）技術(shù)、擴(kuò)展/寬光譜范圍DUV多角度偏振反射儀、我們拋物面鏡光學(xué)設(shè)計(jì)相結(jié)合，以及先進(jìn)的Filmtek軟件。

允許同時(shí)確定：
·多層厚度
·折射率[n（λ）]
·消光（吸收）系數(shù)[k（λ）]
·能帶隙
·成分（例如，SiGex中的Ge百分比、GaxIn1-xAs中的Ga百分比、AlxGa1-xAs中的Al百分比等）
·表面粗糙度
·組分，空隙率
·結(jié)晶度/非晶化（例如多晶硅或GeSbTe薄膜）
·薄膜梯度

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