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銀牌會(huì)員 第 5 年
深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
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儀企號(hào)
深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
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英國(guó)EM Resist PMMA 及共聚物光刻膠價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào):PMMA
- 產(chǎn)地:廣東 深圳
PMMA 光刻膠是學(xué)術(shù)界和工業(yè)界廣泛使用的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)正性電子束光刻膠,適用于高分辨率特征和剝離工藝。它也可用于納米壓印應(yīng)用,以及石墨烯薄片轉(zhuǎn)移等其他晶圓廠和研發(fā)工藝。P(MMA-MAA) 共聚物光刻膠可...
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等離子去膠機(jī)IoN 100WB-40Q價(jià)格:面議- 品牌:德國(guó)PVA TePla
- 型號(hào):IoN 100WB-40Q
- 產(chǎn)地:歐洲 德國(guó)
IoN 100WB-40Q是我們Z新推出的具有高性價(jià)比的真空等離子去膠設(shè)備。它來源于IoN 100-40Q,IoN 100WB-40Q延續(xù)了同樣的品質(zhì)保障,包括可選壓力控制器、光譜終點(diǎn)檢測(cè)器等豐富配置...
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MicroChem 電子束光刻膠 PMMA價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào):PMMA
- 產(chǎn)地:歐洲 德國(guó)
PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)是一種通用的聚合材料,適用于許多成像和非成像微電子系統(tǒng)。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類的安全溶劑中,曝光會(huì)導(dǎo)致聚合物鏈斷裂。PMMAZ常用作直寫式電子...
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ZEON 電子束光刻膠ZEP530A價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào):ZEP530A
- 產(chǎn)地:歐洲 德國(guó)
ZEP530A是一種非化學(xué)放大型正型電子束光刻膠,具有優(yōu)異的分辨率和耐干蝕刻性以及寬的工藝參數(shù)。
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MicroChem PMGI & LOR Lift-off光刻膠價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào): PMGI & LOR Lift-off
- 產(chǎn)地:歐洲 德國(guó)
PMGI&LOR光刻膠可在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、無線IC和MEMS等各種應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量,金屬剝離工藝。 在雙層光刻膠層使用時(shí),PMGI和LOR將工藝范圍擴(kuò)展到單層光刻膠層所能達(dá)到的范圍之外,包括高分辨率...
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MicroChem 光刻膠負(fù)性光刻膠 SU-8系列價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào): SU-8系列
- 產(chǎn)地:歐洲 德國(guó)
MicroChem SU-8光刻膠是一種基于環(huán)氧SU-8樹脂的環(huán)氧型的、近紫外負(fù)性光刻膠,該系列光刻膠性能優(yōu)良,主要用于厚襯底上需要高深寬比時(shí)的應(yīng)用。可對(duì)近紫外線(365nm)照射進(jìn)行光成像,形成的固...
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Futurrex 刻蝕工藝負(fù)性光刻膠NR7-250P NR9-1000P.價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào):NR7-250P NR9-1000P.
- 產(chǎn)地:亞洲 日本
Futurrex 刻蝕工藝負(fù)性光刻膠NR7-250P NR9-1000P.
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Futurrex 厚膠負(fù)性光刻膠NR5-8000 NR26-12000P價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào):NR5-8000 NR26-12000P
- 產(chǎn)地:亞洲 日本
Futurrex 厚膠負(fù)性光刻膠NR5-8000 NR26-12000P
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安智AZ 正性光刻膠薄膠111 XFS價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào):111 XFS
- 產(chǎn)地:亞洲 日本
AZ ?111 XFS光刻膠對(duì)所有的表面均有著優(yōu)異的粘附性能。該光刻膠的起源可追溯到1964年的AZ ?111,它是Z早用于通用接觸式印刷用途的商業(yè)正性光刻膠之一。同時(shí)AZ?111XFS(AZ? 11...
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安智AZ 正性光刻膠薄膠 ECI 3000系列價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào):ECI 3000
- 產(chǎn)地:亞洲 日本
AZ ? ECI 3000系列是現(xiàn)代Z先進(jìn)的一種正性光刻膠系列。
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安智AZ 正性光刻膠厚膠4500系列價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào):4500
- 產(chǎn)地:亞洲 日本
AZ ? 4500系列(AZ ? 4533和AZ ? 4562)是正性厚光刻膠,在普通濕法蝕刻和電鍍工藝中具有優(yōu)良的粘附性能.
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安智AZ 正性光刻膠厚膠 40XT價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào):40XT
- 產(chǎn)地:亞洲 日本
AZ?40 XT的應(yīng)用始于15-30 μm,在這個(gè)厚度范圍時(shí),由于N2脫氣和再水化延遲時(shí)間,使用常規(guī)正性光刻膠的光刻工藝變得非常耗時(shí),而AZ?40 XT可以避免這個(gè)問題 。即使對(duì)于非常大的光刻膠膜厚度...
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安智AZ 正性光刻膠薄膠 TFP 650價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào): TFP 650
- 產(chǎn)地:亞洲 日本
TFP 650 F5 光刻膠適用于對(duì)附著力要求及蝕刻條件要求苛刻的旋涂和擠壓涂層條件的應(yīng)用。
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安智AZ 熱穩(wěn)定高分辨率負(fù)性光刻膠薄膠 nLOF 5510價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào):nLOF 5510
- 產(chǎn)地:亞洲 日本
AZ?nLOF 5110是一種薄的高分辨率負(fù)型光刻膠,具有很高的熱穩(wěn)定性。該光刻膠用于單層剝離工藝以及RIE蝕刻或離子注入,并且與基于TMAH的顯影劑兼容。使用標(biāo)準(zhǔn)的曝光、烘烤、顯影等工藝流程可得到理...
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安智AZ 超厚負(fù)性光刻膠 125 nXT價(jià)格:面議- 品牌:深圳科時(shí)達(dá)
- 型號(hào): 125 nXT
- 產(chǎn)地:亞洲 日本
AZ?125 nXT是一種交聯(lián)的負(fù)性光刻膠,膜厚度可達(dá)100 μm,甚至更高(可實(shí)現(xiàn)1 mm的光刻膠膜厚度),具有標(biāo)準(zhǔn)的參數(shù)和非常陡峭的側(cè)壁。 AZ?125 nXT具有高穩(wěn)定性和優(yōu)異的附著力,使其非常...
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德國(guó)Allresist 電子束光刻膠(電子束抗蝕劑)E-beam resist價(jià)格:面議- 品牌:德國(guó)Allresist
- 型號(hào):Allresist()E-beamresist
- 產(chǎn)地:歐洲 德國(guó)
德國(guó)Allresist 電子束光刻膠(電子束抗蝕劑)E-beam resist 電子束正膠:PMMA 膠,PMMA/MA 聚合物, LIGA 用膠等。 電子束負(fù)膠:高分辨率電子束負(fù)膠,化學(xué)放大膠(高...
















































































































































































