大口徑高溫高壓芯片退火管式爐設備用于較大尺寸（Z大尺寸為8英寸）襯底退火處理，設備采用電阻絲為加熱元件，保溫材料為氧化鋁纖維爐膛真空吸附成型，保溫性能好，電阻絲為內(nèi)嵌式一體成型，美觀、節(jié)能；該設備還集...

石英管與內(nèi)置石英柱高溫熔接，標準化處理，重復性好。 石英管配合動密封系統(tǒng)自動旋轉，操作簡單，受熱均勻。 真空系統(tǒng)配備旁抽裝置，避免粉末材料進入真空泵，延長真空泵使用壽命。 該設備為標準化操作，即...

1、大口徑真空管式爐，可實現(xiàn)一次性處理多樣品實驗。 2、采用雙層殼體機構，爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料，廣泛應用于材料金屬在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理，也可用于特殊材料的熱處理。

主要特點：該真空箱式爐系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱，PID程序控溫儀控制，溫控儀可設定30段升溫曲線、PID控制參數(shù)...

應用：采用雙層殼體機構，爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料，廣泛應用于材料金屬在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理，也可用于特殊材料的熱處理，如碳制品的碳化工藝。 特點：爐門口安裝有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過...

此設備是集控制系統(tǒng)與爐膛為一體,爐膛是使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，ZG發(fā)熱溫度可達1200℃。采用雙層殼體結構，配有風冷系統(tǒng)，使得殼體表面的溫度小于60度。爐膛材料采...

LFT1500C 440D80 OP是一款開啟式立式淬火管式爐。該設備設計為立式結構，樣品由金屬絲固定，上端配有傳動機構，可在真空條件下上升下降完成提升和淬火的工作。其爐管為外徑Φ80mm的莫來石管，...

該設備爐管可360度旋轉，管內(nèi)壁有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結更均勻；

該設備為立式結構，可廣泛用于碳納米線，碳納米管等材料的制備等工藝要求。

該真空箱式爐系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。

LFT1700C 300D60高溫真空管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。

該設備設計為雙層風冷結構，使用時表面溫度＜60℃，爐膛采用氧化鋁纖維，加熱元件內(nèi)嵌于保溫層內(nèi)，使用壽命長，爐管工件橫穿于上下共8組進口電阻絲的爐膛，溫場均勻。

此設備是集控制系統(tǒng)與爐膛為一體,爐膛是使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，ZG發(fā)熱溫度可達1200℃。

采用雙層殼體機構，爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料，廣泛應用于材料金屬在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理，也可用于特殊材料的熱處理，如碳制品的碳化工藝。