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未認(rèn)證會(huì)員 第 11 年
日立高新技術(shù)（上海）國(guó)際貿(mào)易有限公司
認(rèn)證：工商信息未核實(shí)
- 產(chǎn)品分類
- 品牌分類
- 液相色譜(LC)
- 氨基酸分析儀( AAA )
- 電鏡制樣設(shè)備
- 紫外分光光度計(jì)( UVNis/NIR)
- 熒光分光光度計(jì)(FL )
- 原子吸收分光光度計(jì)(AAS)
- 掃描電鏡(SEM )
- 透射電鏡( TEM )
- 原子力顯微鏡( AFM )
- 輪廓儀
- 基因測(cè)序儀
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儀企號(hào)
日立高新技術(shù)（上海）國(guó)際貿(mào)易有限公司
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日立高新磁控濺射器MC1000價(jià)格：面議- 品牌：日本日立
- 型號(hào)：MC1000
- 產(chǎn)地：亞洲 日本
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠Z大限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
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日立高新離子研磨裝置IM4000價(jià)格：面議- 品牌：日本日立
- 型號(hào)：IM4000
- 產(chǎn)地：亞洲 日本
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置： 斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
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離子研磨系統(tǒng)ArBlade5000價(jià)格：面議- 品牌：日本日立
- 型號(hào)：ArBlade5000
- 產(chǎn)地：亞洲 日本
離子研磨系統(tǒng)使用通過(guò)在表面上照射氬離子束引起的濺射效應(yīng)來(lái)拋光樣品的表面。樣品預(yù)處理系統(tǒng)可以用于電子和先進(jìn)材料等各個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)和質(zhì)量控制等。
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日立高新離子研磨裝置IM4000價(jià)格：面議- 品牌：日本日立
- 型號(hào)：IM4000
- 產(chǎn)地：亞洲 日本
滬公網(wǎng)安備 31011502008050號(hào)