ETD-2000C既有濺射功能，同時(shí)也具備熱蒸發(fā)功能，一機(jī)多用，轉(zhuǎn)換方便，經(jīng)濟(jì)實(shí)惠。

可鍍鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

SD-3000型離子濺射儀是一款針對材料、半導(dǎo)體等相關(guān)領(lǐng)域特質(zhì)的一款鍍膜儀，主要可鍍金、銀、鉑等材料，特點(diǎn)：鍍膜牢固，均勻

SD-900M鍍膜儀為一款磁控濺射鍍膜儀，特點(diǎn)為鍍膜環(huán)境為冷濺射。適用對溫度敏感的材料。濺射均勻、快速

SD-900M 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致。 磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，磁控濺射法更...

SD-900 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致，離子濺射儀，噴金儀旋鈕式定時(shí)器檔位清晰，手感舒適；特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩(wěn)大氣，具有歐洲典雅風(fēng)范；前面板上的微泄漏氣閥門可以連接多種氣體；調(diào)節(jié)濺...

SD-800C型熱蒸發(fā)鍍膜儀把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。

ETD-800 型全自動等離子濺射儀外觀亮麗做工精致，機(jī)箱大小僅有310mm x 260mm x 115mm。 ETD-800小型離子濺射儀是專門為掃描電子顯微鏡用戶設(shè)計(jì)的全自動鍍膜設(shè)備；操作簡便，...

主要應(yīng)用于ETD系列離子濺射儀

主要應(yīng)用于ETD系列離子濺射儀

主要應(yīng)用于ETD系列離子濺射儀

主要應(yīng)用于ETD系列離子濺射儀

用于ETD系列熱蒸發(fā)儀

0

0