——多模態(tài)臨界尺寸測量和薄膜計量學(xué)

FilmTekTM CD光學(xué)臨界尺寸系統(tǒng)是我們解決方案，可用于1x nm設(shè)計節(jié)點及更高級別的全自動化、高通量CD測量和高級薄膜分析。該系統(tǒng)同時提供已知和完全未知結(jié)構(gòu)的實時多層堆疊特性和CD測量。

FilmTek CD利用多模測量技術(shù)來滿足與開發(fā)和生產(chǎn)中復(fù)雜的半導(dǎo)體設(shè)計特征相關(guān)的挑戰(zhàn)性需求。這項技術(shù)能夠測量極小的線寬，在低于10納米的范圍內(nèi)進(jìn)行高精度測量。

依賴傳統(tǒng)橢圓偏振儀或反射儀技術(shù)的現(xiàn)有計量工具在實時準(zhǔn)確解析CD測量的能力方面受到限制，需要在設(shè)備研究和開發(fā)期間生成繁瑣的庫。FilmTek CD通過獲得多模態(tài)測量技術(shù)克服了這一限制，該技術(shù)甚至為完全未知的結(jié)構(gòu)提供了單一解決方案。

FilmTek CD包括具有快速、實時優(yōu)化功能的專有衍射軟件。實時優(yōu)化允許用戶以小的設(shè)置時間和配方開發(fā)輕松測量未知結(jié)構(gòu)，同時避免與庫生成相關(guān)的延遲和復(fù)雜度。

測量能力：

·厚度、折射率和光盤計量
·未知薄膜的光學(xué)常數(shù)表征
·超薄膜疊層厚度
·廣泛的關(guān)鍵尺寸測量應(yīng)用，包括金屬柵極凹槽、高k凹槽、側(cè)壁角、抗蝕劑高度、硬掩模高度、溝槽和接觸輪廓以及間距行走

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