在半導體晶圓的劃片槽中，在 MEMS 復雜的懸臂梁上，亦或是 Micro-OLED 極微小的像素點內(nèi)…… 您是否曾因為測量光斑太大，無法精準定位而感到頭疼？ 您是否厭倦了傳統(tǒng)光纖探頭的“盲測”，渴望擁有一雙能看清微觀世界的“慧眼”？

今天，悉識科技（AcuiTik）正式交出答卷—— 全新 NS-Micro 顯微膜厚測量系統(tǒng)，重磅發(fā)布。

01 什么是 NS-Micro？

NS-Micro是悉識科技專為“微小區(qū)域（Micro-spot）”膜厚測量打造的顯微光譜系統(tǒng)。

它不是一臺冷冰冰的獨立設(shè)備，而是一個可以無縫集成到您現(xiàn)有顯微鏡上的“超級大腦”。它繼承了 NS-20 系列強大的算法基因，通過標準 C 接口（C-Mount）與顯微鏡完美融合，將光譜分析能力帶入微米級視界。

簡單來說，它讓您的顯微鏡，不僅能“看”清形貌，更能“測”出厚度。

02 核心亮點：為什么選擇 NS-Micro？

微米級光斑，極致精細告別毫米級光斑的粗放，NS-Micro 的測量光斑大小僅取決于您的物鏡倍率。 配合高倍物鏡，測量光斑可小至 1 μm。無論是帶有精細圖案的 Patterned Wafer，還是微流控芯片的內(nèi)部涂層，都能輕松應(yīng)對。

所見即所得，拒絕盲測NS-Micro 集成了高分辨率 CMOS 相機，通過PolarX 軟件的“視頻視圖”功能，實時呈現(xiàn)樣品表面圖像。十字準星指哪里，光譜就測哪里。可視化定位，讓每一次測量都確信無疑。

無損改裝，廣泛兼容無需淘汰您昂貴的金相顯微鏡！ NS-Micro 采用標準模塊化設(shè)計，完美適配Olympus、Nikon、Leica、Zeiss等主流品牌的金相或立體顯微鏡。即插即用，低成本升級，讓老設(shè)備煥發(fā)新生。

高倍率算法修正 (NA Correction)顯微測量中，高倍物鏡的大數(shù)值孔徑（NA）往往會導致入射角偏差。 NS-Micro 內(nèi)置專用的NA 修正算法，智能補償大角度入射帶來的光程差，確保在 50X、100X 高倍物鏡下，依然能獲得亞納米級的測量精度。

03 它可以應(yīng)用在哪里？

NS-Micro 的誕生，為以下高精尖領(lǐng)域提供了全新的測量方案：

??半導體制造

圖形化晶圓：直接測量劃片槽（Scribe Line）內(nèi)的氧化物/氮化物薄膜。

光刻工藝：監(jiān)控微小圖形上的光刻膠厚度。

??新型顯示

Micro-OLED/LED：精準測量像素點內(nèi)的 ITO 陽極或 TFE 封裝層。

面板結(jié)構(gòu)：分析黑矩陣間隙中的彩色濾光片（CF）厚度。

??微流控與 MEMS

生物芯片：穿透蓋板，測量微通道內(nèi)部的疏水涂層（如 Parylene）。

MEMS 結(jié)構(gòu)：無損測量懸臂梁、深槽底部的絕緣層。

??醫(yī)療器械

血管支架：監(jiān)控藥物洗脫支架表面的超薄藥物涂層。

微細管材：測量導絲等曲面微小樣品的表面鍍層。

04 依然是您熟悉的 PolarX

NS-Micro 沿用了悉識科技廣受好評的PolarX 分析軟件。

一鍵測量：友好的交互界面，新手也能快速上手。

強大算法：FFT 厚膜算法 + 擬合薄膜算法，覆蓋 nm 至 μm 級全量程。

數(shù)據(jù)互通：與 NS-20/OEM 共享材料數(shù)據(jù)庫，研發(fā)到產(chǎn)線無縫銜接。

05 立即體驗微觀測量的魅力

NS-Micro 現(xiàn)已開放咨詢與演示！如果您正在為微小區(qū)域的膜厚測量感到困擾，歡迎聯(lián)系我們，悉識科技應(yīng)用工程師將為您提供免費的樣品測試服務(wù)。