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KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片

來源:伯東企業(yè)(上海)有限公司 更新時間:2023-10-25 11:54:57 閱讀量:169

 

帶通濾光片也叫干涉濾光片, 主要起到過濾不想要的雜光, 只讓想要的光通過的作用. 385nm 紫外帶通濾光片是帶通濾光片中一款 UV 紫外波段的濾光片, 廣泛應用于熒光檢測, 多波段濾光片. 它具有高透過率, 其深截止可保證探測器接收不到其它波長的光, 因此可保證圖像的高亮度和更大的信噪比. 385nm 紫外帶通濾光片采用多層硬膜經(jīng)離子輔助沉積納米材料高真空蒸發(fā)而成, 膜層致密性好, 成像清晰度高, 厚度薄. 為了得到更優(yōu)質(zhì)效果, 經(jīng)過推薦上海伯東某客戶采用光學鍍膜機加裝美國原裝進口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380 鍍制 385nm 紫外帶通濾光片. 驗證過程及結(jié)果如下:

 

應用方向:美國 KRi 射頻離子源輔助沉積鍍制 385nm 紫外帶通濾光片

 

離子源類型:美國 KRi 射頻離子源 RFICP 380

 

鍍膜設備:1米7 的大型蒸鍍設備

 

應用領(lǐng)域:UV 臭氧燈、UV 洗凈燈、UV 光分解燈、UV 消毒燈、UV 固化燈、UV-LED 滅菌、UV 紫外光合成燈、熒光分析儀、熒光顯微鏡、生物芯片、酶標儀、工業(yè)相機、分光光度計、醫(yī)用理化分析設備、刑偵檢測、光學儀器、科學攝影、生命科學檢測儀器等

 

光學鍍膜機加裝美國原裝進口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380 鍍制 385nm 紫外帶通濾光片, 可以獲得很小的 Ta2O5 與 SiO2 材料在紫外的吸收率, 沉積過程穩(wěn)定, 加以合理的膜系設計, 能達到行業(yè)水準.

 

 

上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

 

 

射頻離子源 RFICP 系列技術(shù)參數(shù):

 

型號

RFICP 40

RFICP 100

RFICP 140

RFICP 220

RFICP 380

Discharge 陽極

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

離子束流

>100 mA

>350 mA

>600 mA

>800 mA

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

柵極直徑

4 cm Φ

10 cm Φ

14 cm Φ

22 cm Φ

38 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射


流量

3-10 sccm

5-30 sccm

5-30 sccm

10-40 sccm

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

長度

12.7 cm

23.5 cm

24.6 cm

30 cm

39 cm

直徑

13.5 cm

19.1 cm

24.6 cm

41 cm

59 cm

中和器

LFN 2000

 

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上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.
 

上海伯東是美國Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機, 德國 Pfeiffer  真空設備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 比利時原裝進口 Europlasma 等離子表面處理機 和美國 Ambrell 感應加熱設備等進口知名品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!

 

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