
帶通濾光片也叫干涉濾光片, 主要起到過濾不想要的雜光, 只讓想要的光通過的作用. 385nm 紫外帶通濾光片是帶通濾光片中一款 UV 紫外波段的濾光片, 廣泛應用于熒光檢測, 多波段濾光片. 它具有高透過率, 其深截止可保證探測器接收不到其它波長的光, 因此可保證圖像的高亮度和更大的信噪比. 385nm 紫外帶通濾光片采用多層硬膜經(jīng)離子輔助沉積納米材料高真空蒸發(fā)而成, 膜層致密性好, 成像清晰度高, 厚度薄. 為了得到更優(yōu)質(zhì)效果, 經(jīng)過推薦上海伯東某客戶采用光學鍍膜機加裝美國原裝進口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380 鍍制 385nm 紫外帶通濾光片. 驗證過程及結(jié)果如下:
應用方向:美國 KRi 射頻離子源輔助沉積鍍制 385nm 紫外帶通濾光片
離子源類型:美國 KRi 射頻離子源 RFICP 380
鍍膜設備:1米7 的大型蒸鍍設備
應用領(lǐng)域:UV 臭氧燈、UV 洗凈燈、UV 光分解燈、UV 消毒燈、UV 固化燈、UV-LED 滅菌、UV 紫外光合成燈、熒光分析儀、熒光顯微鏡、生物芯片、酶標儀、工業(yè)相機、分光光度計、醫(yī)用理化分析設備、刑偵檢測、光學儀器、科學攝影、生命科學檢測儀器等
光學鍍膜機加裝美國原裝進口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380 鍍制 385nm 紫外帶通濾光片, 可以獲得很小的 Ta2O5 與 SiO2 材料在紫外的吸收率, 沉積過程穩(wěn)定, 加以合理的膜系設計, 能達到行業(yè)水準.


上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

射頻離子源 RFICP 系列技術(shù)參數(shù):
型號 | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 陽極 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 |
離子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
離子動能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
柵極直徑 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 22 cm Φ | 38 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
長度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直徑 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 | ||||
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1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.
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