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如何使金屬合金的晶粒度分析符合您的需求(上)

來源:徠卡顯微系統(tǒng)(上海)貿(mào)易有限公司 更新時(shí)間:2024-03-07 17:15:18 閱讀量:659
導(dǎo)讀:如何使金屬合金的晶粒度分析符合您的需求(上)

金屬合金(如鋼和鋁)在汽車、運(yùn)輸?shù)刃袠I(yè)中都有重要作用。本報(bào)告回顧了晶粒度分析對合金表征的重要性,以及便于用戶操作和分析圖像的顯微鏡解決方案,這種方案會(huì)用到高性能軟件,整體實(shí)用性高、靈活性強(qiáng)。此外,報(bào)告還概述了用于觀察合金晶粒和微觀結(jié)構(gòu)的顯微鏡對比方法,以及晶粒度分析技術(shù)的國際標(biāo)準(zhǔn),并舉例說明了晶粒度分析解決方案通過快速獲取和分析圖像數(shù)據(jù),即可提供準(zhǔn)確、可重復(fù)的結(jié)果。













引 言


金屬合金對許多行業(yè)的多種產(chǎn)品都很重要,尤其是以汽車、卡車、火車、飛機(jī)等為載體的運(yùn)輸行業(yè)。本報(bào)告介紹了合金表征(特別是晶粒度)對汽車和運(yùn)輸行業(yè)的重要性,以及利用光學(xué)顯微鏡軟件進(jìn)行分析的實(shí)用、高效的解決方案。


目前各行各業(yè)在用的標(biāo)準(zhǔn)合金有數(shù)千種,并且市場也一直在開發(fā)性能更加出色的新合金,以滿足新需求。例如,用于制造汽車、卡車、飛機(jī)和火車的鋼和鋁合金就有很多種。


選擇合金時(shí),應(yīng)當(dāng)了解與其成分和微觀結(jié)構(gòu)有關(guān)的特性。微觀結(jié)構(gòu),如相、晶?;驃A雜物,都會(huì)對抗拉強(qiáng)度、伸長率以及導(dǎo)熱性和導(dǎo)電性產(chǎn)生顯著影響。充分了解成分、微觀結(jié)構(gòu)和宏觀性能之間的關(guān)系對設(shè)計(jì)和制造合金非常重要。晶粒是在生產(chǎn)的冷卻階段中,形成于合金中的結(jié)晶(微觀晶體)。


晶粒度與合金性能


人們很早就知道,晶粒的尺寸增加后,合金的(參考圖1)[1]


抗拉強(qiáng)度(Rm)和抗屈強(qiáng)度(Re)會(huì)下降;


斷裂延伸率(A%)會(huì)增加;


韌脆轉(zhuǎn)化溫度也會(huì)增加。

圖1:典型鋼合金的應(yīng)力-應(yīng)變曲線示例。從曲線1到曲線3,鋼材的平均晶粒度逐漸增加(如箭頭所示)??骨≧e)和抗拉(Rm)強(qiáng)度下降,斷裂延伸率(A%)隨晶粒度的增大而增加。由羅馬“La Sapienza”大學(xué)的M.Cavallini和卡西諾和南拉齊奧大學(xué)的V.Di Cocco和F.Iacoviello提供[1]。


微結(jié)構(gòu)分析:合金樣品制備工作流程


為表征合金的微觀結(jié)構(gòu),我們必須從合金材料中制備樣品,然后進(jìn)行研磨和拋光,用顯微鏡進(jìn)行成像,Z后對圖像進(jìn)行分析。圖2顯示了樣品制備和微觀結(jié)構(gòu)分析的典型工作流程圖。

圖2:合金樣品制備和微觀結(jié)構(gòu)分析的工作流程,包括晶粒度。從合金上切下一塊,在本例中是從一個(gè)螺絲釘上切下的。然后將合金樣品固定在環(huán)氧樹脂中,對固定好的樣品進(jìn)行研磨和拋光,然后進(jìn)行蝕刻,用顯微鏡采集樣品的圖像,Z后對圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行分析。


微結(jié)構(gòu)分析的技術(shù)


用于研究合金微觀結(jié)構(gòu)的實(shí)驗(yàn)技術(shù)種類很多。100多年來,人們Z常用的技術(shù)包括:入射式明場、暗場、微分干涉對比(DIC)、偏振光照明以及彩色蝕刻的光學(xué)顯微鏡?,F(xiàn)在,計(jì)算機(jī)自動(dòng)顯微鏡和圖像分析系統(tǒng)能夠快速、準(zhǔn)確地評(píng)估這些合金的結(jié)構(gòu)。


成像軟件的設(shè)置和分析能力會(huì)顯著影響下列環(huán)節(jié)的效率、準(zhǔn)確性、可靠性和可重復(fù)性:


圖像采集和分析;


晶粒度和微觀結(jié)構(gòu)評(píng)估;


根據(jù)結(jié)果生成的報(bào)告。


LAS/LAS X晶粒專家軟件


徠卡顯微鏡搭載LAS X晶粒專家軟件,為準(zhǔn)確、可重復(fù)的晶粒度和微觀結(jié)構(gòu)分析提供了實(shí)用的解決方案。晶粒度可通過自動(dòng)應(yīng)用傳統(tǒng)方法,或更強(qiáng)大的數(shù)字方法進(jìn)行分析。該分析方法符合多種國際標(biāo)準(zhǔn)的要求。表1總結(jié)了這款軟件的種種優(yōu)勢。

表1:的LAS X晶粒專家軟件在晶粒度分析方面的優(yōu)勢。


使用光學(xué)顯微鏡的晶粒分析方法


入射光照對比法

光學(xué)顯微鏡可利用入射光照法,為不透明且不透光的合金樣品成像。為了更好地對比特定的合金微觀結(jié)構(gòu)成分,成像時(shí)會(huì)使用某些對比技術(shù)[2,3]


明場;暗場;微分干涉對比(DIC);偏振光


下面將進(jìn)一步介紹這些入射照明對比方法,參考文獻(xiàn)2和3則作了更詳細(xì)的說明。

明場

優(yōu)勢:

照亮被觀察的合金樣品的整個(gè)部分。

劣勢:

對于反光的合金樣品,部分特征(如晶界)可能會(huì)亮光所“淹沒”,不易在圖像中看到。

下方圖3顯示了使用明場照明的復(fù)合顯微鏡拍攝的鋼合金圖像。

圖3:顯微鏡明場照明示意圖(左)。用明場拍攝的鋼合金圖像(右),清楚地顯示了晶粒結(jié)構(gòu)。


暗場

優(yōu)勢:

照亮合金樣品平坦區(qū)域的細(xì)微特征,這些特征在明場下不易看到,如裂紋、孔隙、蝕刻的晶界、細(xì)小的突起。

劣勢:

只適用于觀察偏離合金樣品平坦區(qū)域的特征,因?yàn)楹辖鸨尘霸趫D像中會(huì)顯得很暗。

圖4顯示了使用暗場照明的復(fù)合顯微鏡拍攝的鋼合金圖像。

圖4:顯微鏡暗場照明的示意圖(左)。使用暗場記錄的鋼合金圖像(右)。晶粒邊界和孔洞或突起明顯,而大部分晶粒區(qū)域呈現(xiàn)暗色。


微分干涉對比法(DIC)

優(yōu)勢:

照亮合金樣品上的小突起,增強(qiáng)紋理和特征對比。

劣勢:

使用難度和實(shí)施成本更高。

下方圖5顯示了使用復(fù)合顯微鏡和微分干涉對比法拍攝的鋼合金圖像。

圖5:顯微鏡微分干涉對比法照明的示意圖(左)。用微分干涉對比法拍攝的鋼合金圖像(右),其中晶粒間的合金紋理更加明顯。


偏振光

優(yōu)勢:

能更好地觀察某些合金中的晶粒(結(jié)晶區(qū)域)。晶粒通常會(huì)反射偏振光的特定顏色(波長),具體取決于其結(jié)晶方向,從而產(chǎn)生顏色對比。

劣勢:

只適用于不以立方晶格結(jié)構(gòu)結(jié)晶的合金,如面心立方(fcc)或體心立方(bcc)。雖然許多主流商業(yè)合金(鋼、銅和鋁)都不適合直接采用這種方法,不過,彩色蝕刻可用于補(bǔ)救這個(gè)問題[2,3]。

圖6顯示了使用偏振光照明的復(fù)合顯微鏡拍攝的著色蝕刻的鋁合金圖像。

圖6:偏振光照明的示意圖(左)。使用偏振光拍攝的著色蝕刻的鋁合金圖像(中和右)。晶粒的不同結(jié)晶方向反射了特定顏色的光線,因而形成了色彩對比。中間的圖像是使用λ或靈敏著色板記錄的,進(jìn)一步增強(qiáng)了色彩對比效果。


蝕刻合金以對比晶粒


為了更好地看清合金的晶粒和微觀結(jié)構(gòu),在樣品制備過程中,我們常用酸、堿或電解溶液進(jìn)行蝕刻。在蝕刻過程中,合金微觀結(jié)構(gòu)的特定成分會(huì)受到攻擊,如晶界或晶區(qū)內(nèi)的相。然后使用明場或暗場照明,即可對被蝕刻的合金進(jìn)行正常成像[2,3]。下文將詳細(xì)介紹蝕刻合金的明場和暗場成像內(nèi)容。顏色或色調(diào)的蝕刻也可用于對比合金的晶粒和微觀結(jié)構(gòu)[2,3]。關(guān)于合金蝕刻的更多細(xì)節(jié),請參閱參考文獻(xiàn)2和3。

明場照明

下方圖7顯示了用復(fù)合顯微鏡和明場照明拍攝的蝕刻鋼合金的圖像。

圖7:明場照明示意圖(左),蝕刻合金樣品即采用了這種方法。光強(qiáng)度曲線(中)顯示:來自受攻擊晶界的反射光減少。明場拍攝的蝕刻鋼圖像(右)顯示:與晶粒區(qū)域相比,蝕刻的晶粒邊界顯得更暗。黃色的圓圈表示不可見的細(xì)小晶粒邊界(與下方暗場對比)。


暗場照明

圖8顯示了使用暗場照明的復(fù)合顯微鏡拍攝的蝕刻鋼合金圖像。

圖8:暗場照明示意圖(左),蝕刻鋼合金樣品即采用了這種方法。光強(qiáng)度曲線(中)顯示:來自受攻擊晶界的散射光增加。暗場拍攝的蝕刻鋼合金圖像(右)顯示:與晶粒區(qū)域相比,蝕刻的晶粒邊界顯得更亮。紅色圓圈表示細(xì)小的晶界,在暗場下可見,但在明場下不可見。


標(biāo)準(zhǔn)晶粒度分析方法


下方表2中總結(jié)了國際標(biāo)準(zhǔn)的晶粒度分析方法。

表2:確定合金中晶粒度的國際標(biāo)準(zhǔn)方法。


確定平均晶粒度:晶粒度數(shù)


合金的平均晶粒度通常以晶粒度數(shù)G來表示,如ASTM E112 - 13[4]標(biāo)準(zhǔn)所示。G的取值范圍為00到14,其中00對應(yīng)的平均晶粒直徑為0.508 mm,面積為0.2581 mm2,14對應(yīng)的直徑為2.8 μm,面積為7.9 μm2。評(píng)估合金的晶粒度數(shù)時(shí),常用的方法包括ISO 643:2012和ASTM E112 - 13[4,5]標(biāo)準(zhǔn)中描述的截距法、平面測量法和比較法。


截距法


在合金的顯微圖像上畫出帶有截距線的幾何圖案[4,5]。由(參考圖9)下列數(shù)據(jù),可計(jì)算出平均截距線長度l。


被測試線(PL)攔截的晶粒數(shù)量或每單位長度的測試線所截取的晶粒邊界(NL)


計(jì)算出PL和NL后,則可得出截獲的長度: 

l = 1/PL = 1/NL,

并利用下列公式確定晶粒度數(shù)G:

G = -6.6457*log[l] - 3.298。

截距數(shù)或交叉數(shù)越多,G的精度就越高。一般來說,截距法的速度快,精度好。

圖9:利用截距法測量鋼合金晶粒度的示例。原始圖像(左)由徠卡顯微鏡拍攝。圖像中可見晶粒上畫出了一個(gè)直線幾何圖案[中],圖像數(shù)據(jù)經(jīng)過LAS X晶粒專家軟件的攔截方法處理(右)。被攔截的晶粒用黃色表示。由此可確定l、PL、NL和G的值。


平面測量法


這種方法可用于對定義的圓形區(qū)域內(nèi)的晶粒數(shù)量進(jìn)行計(jì)數(shù)[4,5]。每單位面積的晶粒數(shù)量NA可用于確定G值(晶粒度數(shù))。NA的值可通過以下方法計(jì)算:

NA =(M2/A)*(n內(nèi)+[n攔截/2])

其中M是放大率,A是圓形面積,n內(nèi)是完全落在圓內(nèi)的晶粒數(shù)量,n攔截是被圓的邊緣截住的晶粒數(shù)量(參考圖10)。然后G值可利用以下公式計(jì)算:

G = -3.322*log[NA] - 2.954。

計(jì)數(shù)的晶粒數(shù)量越多,G的精度就越高。一般來說,平面測量法的結(jié)果的可重復(fù)性和精確度都非常高。

圖10:利用平面測量法測量鋼合金晶粒度的示例。徠卡顯微鏡利用LAS X晶粒專家軟件拍攝的原始影像(左上)。圖像數(shù)據(jù)經(jīng)過處理[右上],以確定A、n內(nèi)、n攔截、NA和G的值。藍(lán)色表示完全在定義的圓形區(qū)域內(nèi)的晶粒,黃色表示被邊緣截住的晶粒。直方圖示例(下)顯示了用平面分析法得到的晶粒度數(shù)分布情況,其中平均G值約為11。


比較法


這種方法無需計(jì)數(shù),而是將晶粒結(jié)構(gòu)與一系列在100倍放大率下記錄的參考圖像進(jìn)行比較,可以是掛圖、清晰的覆蓋圖,也可以是顯微鏡目鏡標(biāo)線上的圖像(參考圖11)[4,5]。這種方法速度快,但晶粒度值的準(zhǔn)確性遠(yuǎn)低于上述截距法或平面測量法計(jì)算出的晶粒度值。

圖11:利用對比法測量鋼合金晶粒度的示例。A) 鋼的原始圖像。B) 數(shù)字標(biāo)線與圖像疊加,用于比較確定晶粒度數(shù)。C) 用于比較晶粒度的數(shù)字標(biāo)線(G=1、2、3和4),沒有底層圖像。D) 顯微鏡目鏡標(biāo)線的示例,上面有G從1到10的覆蓋圖像,可用于直接對比合金的實(shí)時(shí)顯微鏡圖像。


解決方案???

點(diǎn)擊鏈接:下載關(guān)于 LAS-X 相關(guān)資料


Further Reading:(上下滑動(dòng)查看更多)

1.M. Cavallini, V. Di Cocco, F. Iacoviello, Materiali Metallici, Terza Edizione, ISBN 978-88-909748-0-9, Luglio 2014.

2.Dionis Diez, Metallography – an Introduction: How to Reveal Microstructural Features of Metals and Alloys, Science Lab, Leica Microsystems.

3.Ursula Christian, Norbert Jost, Metallography with Color and Contrast: The Possibilities of Microstructural Contrasting, Science Lab, Leica Microsystems.

4.ASTM E112 – 13: Standard Test Methods for Determining Average, Grain Size, ASTM International.

5.ISO 643:2012: Steels -- Micrographic determination of the apparent grain size, International Organization for Standardization.

6.ASTM E1382-97(2015): Standard Test Methods for Determining Average Grain Size Using Semiautomatic and Automatic Image Analysis, ASTM International.

7.ISO 14250:2000: Steel -- Metallographic characterization of duplex grain size and distributions, International Organization for Standardization.

8.ASTM E1181-02(2015): Standard Test Methods for Characterizing Duplex Grain Sizes, ASTM International.

9.ASTM E930 - 99(2015): Standard Test Methods for Estimating the Largest Grain Observed in a Metallographic Section (ALA Grain Size), ASTM International.


徠卡顯微咨詢電話:400-630-7761

關(guān)于


的歷史Z早可追溯到19世紀(jì),作為德國著名的光學(xué)制造企業(yè),徠卡顯微成像系統(tǒng)擁有170余年顯微鏡生產(chǎn)歷史,逐步發(fā)展成為顯微成像系統(tǒng)行業(yè)的領(lǐng)先的廠商之一。徠卡顯微成像系統(tǒng)一貫注重產(chǎn)品研發(fā)和Z新技術(shù)應(yīng)用,并保證產(chǎn)品質(zhì)量一直走在顯微鏡制造行業(yè)的前列。


始終與科學(xué)界保持密切聯(lián)系,不斷推出為客戶度身定制的顯微解決方案。徠卡顯微成像系統(tǒng)主要分為三個(gè)業(yè)務(wù)部門:生命科學(xué)與研究顯微、工業(yè)顯微與手術(shù)顯微部門。徠卡在歐洲、亞洲與北美有7大產(chǎn)品研發(fā)中心與6大生產(chǎn)基地,在二十多個(gè)國家設(shè)有銷售及服務(wù)分支機(jī)構(gòu),總部位于德國維茲拉(Wetzlar)。

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