隨著人工智能(AI)算力的爆發(fā)式增長,數(shù)據(jù)中心和高性能計算(HPC)硬件正迎來新時代。英偉達創(chuàng)始人兼CEO黃仁勛日前在CES 2026大會上發(fā)表主題演講,正式宣布新一代旗艦AI計算平臺Vera Rubin已進入全面量產(chǎn)階段。根據(jù)公開報道顯示,Rubin與下一代Feynman平臺功耗或高達2000W以上,當前散熱解決方案已無法滿足需求。因此,英偉達向供應商要求,開發(fā)全新的微通道液冷板(MLCP)技術(shù)以應對更高熱流密度。
MLCP制造的技術(shù)挑戰(zhàn)
MLCP的技術(shù)核心在于通過在芯片封裝內(nèi)部嵌入50-150μm的微米級冷卻通道,顯著增加與冷卻劑接觸的內(nèi)表面積,提供更優(yōu)異的熱交換性能。目前主流的技術(shù)路線包括金屬3D打印、精密蝕刻、微銑削等。盡管各路線性能各異,但其共同的挑戰(zhàn)在于如何構(gòu)建高密度、精細的流道結(jié)構(gòu)。
MLCP對比傳統(tǒng)冷卻板
傳統(tǒng)液體冷卻系統(tǒng)因管道尺寸遠大于微通道,可允許一定尺寸微粒通過而不影響整體循環(huán);而MLCP的通道尺度極?。?0–150μm或更低),微粒、油污或殘膠極易造成通道堵塞。
這類堵塞多由冷卻液中尺寸超過50μm的顆粒物引起,顆粒來源包括加工殘留、管路腐蝕產(chǎn)物及密封件老化脫落等。受限于極小的通道尺度,顆粒易在入口、彎折區(qū)等位置滯留,造成局部熱阻上升、熱斑形成,導致芯片性能減退或損壞。
MLCP常采用銅、鋁或高熱導性復合材料作為基板,并在其內(nèi)部形成復雜的微通道結(jié)構(gòu)。這些材料在加工過程中會產(chǎn)生:金屬屑與細微氧化物;冷卻液接觸前的潤滑油殘留;焊接時產(chǎn)生的焊渣、松香殘留;表面張力與微孔內(nèi)形成的氣泡與薄膜。任何此類殘留物都會顯著降低冷卻流體流通均勻性與熱傳導效率,處理不當可能導致微通道表面形成微阻力區(qū)域,使得實際散熱性能與設計值偏離。
因此,在MLCP的制造過程中,潔凈度直接決定了微通道內(nèi)部的流通順暢性與散熱界面穩(wěn)定性,從而影響液冷系統(tǒng)的散熱效率、運行可靠性及芯片適配安全性;而清洗效率則直接關(guān)乎制造成本控制和規(guī)模化量產(chǎn)的可行性,是衡量制造商核心競爭力的關(guān)鍵指標。
MLCP制造精密清洗解決方案
在此背景下,潔盟憑借多年在精密工業(yè)清洗領(lǐng)域的技術(shù)積淀,推出定制化MLCP制程清洗解決方案,為MLCP量產(chǎn)保駕護航。
精準控能,零損傷清洗
自研換能器搭配自動掃頻追頻技術(shù),頻率穩(wěn)定性誤差≤0.1kHz,可根據(jù)MLCP材質(zhì)(銅/鋁)、通道尺寸匹配超聲/兆聲功率,避免流道壁損傷;復頻脈沖技術(shù)強化微通道內(nèi)湍流效應,提升清洗均勻性。
多工藝協(xié)同,全場景適配
融合超聲、兆聲、真空碳氫、高壓噴淋、純水漂洗、氮氣吹掃、真空干燥等多技術(shù),針對MLCP各制程污染物定制組合方案;采用高等級去離子水體系,多級漂洗去除離子與化學殘留,降低電化學腐蝕與長期可靠性風險。
環(huán)保合規(guī),降本增效
配備精度<5μm的閉環(huán)過濾系統(tǒng),實時過濾清洗液中的雜質(zhì),使化學液回收率達80%以上,降低耗材成本;同時集成廢水處理模塊,對廢液中的金屬離子與有機物進行深度處理,符合ISO 14001等環(huán)保標準,實現(xiàn)臨“零”排放生產(chǎn)。
智能量產(chǎn),全程可控
配備PLC+人機界面全流程自動控制系統(tǒng),支持對接客戶MES系統(tǒng),支持工藝參數(shù)存儲、追溯與調(diào)用;搭載在線電導率、pH值、濃度等傳感檢測系統(tǒng),實時監(jiān)控清洗介質(zhì)狀態(tài),實現(xiàn)“清洗-檢測”一體化管控。
依托在多工藝協(xié)同和智能控制上的深度協(xié)同創(chuàng)新,潔盟構(gòu)建起覆蓋預處理、超/兆聲清洗、漂洗干燥及潔凈度監(jiān)測的MLCP全流程清洗解決方案。該方案憑借獨特的無損超聲清洗技術(shù)以及對MLCP微米級通道污染物清除的深刻理解,在清洗潔凈度與生產(chǎn)效率上實現(xiàn)了質(zhì)的飛躍。
如需了解方案詳情或獲取定制化報價,可聯(lián)系潔盟官方客服,我們將為您提供一對一技術(shù)咨詢服務。
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