在金相檢測及材料分析領域,在樣品的制備過程中,經(jīng)常會遇到一些特別容易發(fā)生變形/流變的金屬,例如:純鋁(部分低硬度鋁合金)、純銅(部分低硬度銅合金)、貴重金屬(金、銀等)、低熔點金屬(錫、鉛)、難熔金屬(鈦、鉻、鉬等)、高溫合金等,這類金屬樣品的制備需要花費大量的時間,制備完成后是否能滿足測試、分析要求也一直是金相工程師或技術人員Z棘手的問題。
我們常常在上述金屬在磨拋制樣時出現(xiàn)以下一些困擾:1)終拋細小劃痕始終難以去除;2)終拋后劃痕被變形層掩蓋,造成拋光WM的假象,腐蝕后劃痕顯露;3)樣品表面發(fā)生延展/流變;4)樣品表面出現(xiàn)SiC、金剛石、氧化鋁顆粒等嵌入。
研磨:磨削去除切割損傷,而非摩擦。
軟金屬的研磨很輕松,普通的SiC砂紙即可(軟金屬不推薦使用金剛石磨盤),但要關注砂紙的使用壽命,鋒利的新砂紙能帶來良好的磨削效果,即使劃痕較深,所以砂紙粗細之間更換不宜跳太快;而變鈍的舊砂紙研磨,看似劃痕淺、光亮的表面實際上已經(jīng)形成了較深的變形層。

對于易發(fā)生嵌入現(xiàn)象的材料,研磨過程嵌入:在研磨時,研磨表面(砂紙)涂上石蠟,石蠟在潤滑的同時,也能固定脫落的研磨顆粒。拋光過程嵌入:降低加載力值;盡量縮短拋光過程,使用研磨代替(例如:P1200砂紙研磨取代9μm金剛石拋光)。
拋光:去除研磨后的劃痕,而非掩蓋。
行業(yè)俗話說:硬材料,難磨易拋;軟材料,易磨難拋。軟金屬樣品的拋光過程決定了樣品制備成功與否,經(jīng)常在終拋完成后樣品表面:1)依然存在較多細微劃痕,難以去除,2)劃痕消失,腐蝕后劃痕出現(xiàn),3)金屬流變、延展明顯等現(xiàn)象。那么如何來通過參數(shù)、耗材的選擇:加載力值、拋光布、拋光液等來優(yōu)化制備效果呢, 如何制備一個表面無劃痕、無假象、無流變的樣品呢,下表中推薦了針對軟金屬相應拋光過程(可選)。
步驟 | 拋光布 | 拋光液 | *加載力值/單個樣品 | 適合材料特征 | ||
型號 | 特征 | |||||
粗拋 | UltraPad /UltraPod | 平面無彈編織布-粗線束 |
| 9μm 金剛石 | 中等力值 10N-20N | 粗線束去除效率高,能有效的去除研磨留下的劃痕。通用于大多數(shù)材料,同時也可以用細砂紙研磨取代。 |
6μm 金剛石 | ||||||
中拋 | VerduTex | 平面無彈編織/緞面布-細線束 |
| 3μm 金剛石 | 低力值 5N-10N | 細線束去除效率相對低,加載力值降低以防止摩擦產(chǎn)生變形或掩蓋,TriDent相對 VerduTex劃痕更細,適合更軟的金屬。劃痕須逐步細化。 |
TriDent | 3μm 金剛石 | |||||
1μm 金剛石 | ||||||
中拋/終拋 | MicroCloth MicroFloc MasterTex | 柔軟絨毛布 |
| 1μm 金剛石 | 低力值 5N-10N | 相對較硬金屬劃痕的細化過程。不適合軟金屬劃痕去除,極易形成劃痕掩蓋。 |
0.05μm~1μm氧化鋁 | 低力值 5N-10N | 相對較硬金屬的終拋。軟金屬拋光后殘余細微劃痕。 | ||||
終拋 | ChemoMet | 化學合成 橡膠 |
| 0.05μm~1μm氧化鋁 | 低力值 5N-10N | 摩擦力較大,去除效率高,同時也極易發(fā)生表面流變和浮凸。適合相對較硬的金屬。 |
0.02μm/0.06μm氧化硅 | 低力值 5N-10N | 摩擦力小,去除效率相對低,但不易發(fā)生表面變形,自身堿性,也可添加相應化學試劑來提高化學作用效果(如Ti、Mo拋光)。 | ||||
*力值降低,相對應拋光時間須延長。
案例:低硬度紫銅樣品
常規(guī)步驟:


推薦步驟:


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