電子元器件-繼電器在生產(chǎn)過程中由于手印、焊劑、交叉污染、自然氧化等, 其表面會形成各種玷污, 影響電子元器件在生產(chǎn)過程中的相關(guān)工藝質(zhì)量, 例如繼電器的接觸電阻, 從而降低了電子元器件的可靠性和成品合格率.
某制造商為了提高電子元器件-繼電器的可靠性和成品合格率, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 對繼電器進(jìn)行離子束清洗.
伯東 KRI考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):
型號 | RFICP 140 |
Discharge | RFICP 射頻 |
離子束流 | >600 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 14 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 5-30 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長度 | 24.6 cm |
直徑 | 24.6 cm |
中和器 | LFN 2000 |

該制造商通入氬氣, 利用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 電離氬氣產(chǎn)生氬離子, 形成氬離子束對樣品進(jìn)行轟擊, 以濺射刻蝕, 從而達(dá)到清洗的效果.
氬離子優(yōu)點(diǎn)是不會產(chǎn)生氧化副產(chǎn)物, 可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性.
運(yùn)行結(jié)果:

通過清洗前后接觸電阻測試記錄可以看出, 清洗后不合格產(chǎn)品數(shù)大幅降低, 因此采用KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140清洗可以有效地降低繼電器的接觸電阻, 從而提高產(chǎn)品的合格率.
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上海伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 140
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