用于科研和工業(yè)研發(fā)的近紅外光致發(fā)光模塊

對于半導體和光電行業(yè)來說，光致發(fā)光PL是在研發(fā)過程中極 為重要的一個實驗工具。在紅外光譜范圍，傅立葉紅外光譜 儀比傳統(tǒng)色散型譜儀的靈敏度要高得多。與VERTEX 傅立葉紅 外譜儀聯(lián)用的PLII 模塊提供了業(yè)內靈活和強大的PL分 析方案。

· 可實現(xiàn)對塊狀樣品、量子阱和量子點樣品的PL分析，在 4000 cm-1 (< 2.5 μm)以上的光譜范圍具有超高靈敏度。

· 可添加第二個內置激發(fā)激光，也可結合外置特殊激發(fā)激光 使用。

· 可選專用附件：掃描成像樣品臺，可攝像物鏡，恒溫器適配 器等。

用于科研和工業(yè)研發(fā)的中紅外光致發(fā)光模塊

在低于4000 cm-1 (>2.5μm)的光譜范圍，PL信號將受到大氣吸收以 及熱輻射背景的嚴重干擾。利用VERTEX 80v 真空型紅外光譜儀，并 結合專用的PL 真空模塊，可以徹底消除上述兩種因素的干擾，實現(xiàn) 4000 cm-1 至1000 cm-1 甚至更低光譜范圍的中紅外PL測量。

· 真空型傅立葉紅外光譜儀可以在中紅外譜區(qū)內 實現(xiàn)對塊狀樣品、 量子阱和量子點樣品的PL分析，消除大氣的干擾，并可擴展至近紅 外PL。

· 先進的步進掃描功能結合調制技術可消除熱輻射背景的干擾。

· 可添加自動切換的光路，用于光調制反射和光調制透射實驗。

· 可選的恒溫器適配器和激發(fā)激光，可與外置特殊激光結合使用。