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2025-01-10 17:04:05納米粒度及
“納米粒度及”通常指的是納米顆粒的粒度分析,即測(cè)量納米級(jí)顆粒的大小分布。粒度是納米材料的重要物理參數(shù),直接影響其光學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)等性能。納米粒度分析技術(shù)包括動(dòng)態(tài)光散射、激光衍射、電子顯微鏡等多種方法,可精確測(cè)定顆粒的粒徑范圍、分布形態(tài)等。這些技術(shù)廣泛應(yīng)用于新材料研發(fā)、藥物遞送、環(huán)境保護(hù)等領(lǐng)域,為科研和工業(yè)生產(chǎn)提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支持。

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納米粒度及相關(guān)內(nèi)容

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BeNano 90 Zeta納米粒度及Zeta電位分析儀
國(guó)內(nèi) 遼寧
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安東帕納米粒度及Zeta 電位分析儀
國(guó)外 歐洲
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安東帕(上海)商貿(mào)有限公司

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高濃度納米粒度及zeta電位分析儀
國(guó)外 美洲
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蘇州胤煌精密儀器科技有限公司

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Zeta-APS 高濃度納米粒度及Zeta電位分析儀
國(guó)外 美洲
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NS-90Z 納米粒度及電位分析儀
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珠海歐美克儀器有限公司

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2023-04-20 09:37:22BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta
BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀——背向 + 90°散射粒度 + Zeta 電位三合一型儀 器 簡(jiǎn) 介BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及Zeta電位分析儀是BeNano 90+BeNano 180+BeNano Zeta 三合一的頂 級(jí)光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)。該系統(tǒng)中集成了背向 +90°動(dòng)態(tài)光散射 DLS、電泳光散射 ELS和靜態(tài)光散射技術(shù) SLS,可以準(zhǔn)確的檢測(cè)顆粒的粒徑及粒徑分布,Zeta 電位,高分子和蛋白體系的分子量信息等參數(shù),可廣泛的應(yīng)用于化學(xué)、化工、生物、制藥、食品、材料等領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究和質(zhì)量分析與控制。指標(biāo)與性能Index&performance粒徑測(cè)試原理:動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)粒徑范圍:0.3 nm – 15 μm樣品量:3 μL - 1 mL檢測(cè)角度:173°+90°+12°分析算法:Cumulants、通用模式、CONTIN、NNLSZeta電位測(cè)試原理:相位分析光散射技術(shù)檢測(cè)角度:12°Zeta范圍:無(wú)實(shí)際限制電泳遷移率范圍:> ±20 μ.cm/V.s電導(dǎo)率范圍:0 - 260 mS/cmZeta測(cè)試粒徑范圍:2 nm – 110 μm分子量測(cè)試分子量范圍:342 Da – 2 x 107 Da微流變測(cè)試頻率范圍:0.2 – 1.3 x 107 rad/s測(cè)試能力:均方位移、復(fù)數(shù)模量、彈性模量、粘性模量、蠕變?nèi)崃空扯群驼酃饴蕼y(cè)試粘度范圍:0.01 cp – 100 cp折光率范圍:1.3-1.6趨勢(shì)測(cè)試模式:時(shí)間和溫度系統(tǒng)參數(shù)溫控范圍:-15° C - 110° C+/- 0.1°C冷凝控制:干燥空氣或者氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)激光光源:50 mW 高性能固體激光器, 671 nm相關(guān)器:最快25 ns采樣,最多 4000 通道,1011 動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍檢測(cè)器:APD (高性能雪崩光電二極管)光強(qiáng)控制:0.0001% - 100%,手動(dòng)或自動(dòng)軟件中文和英文符合21CFR Part 11原理圖儀器檢測(cè)檢測(cè)參數(shù)顆粒體系的光強(qiáng)、體積、面積和數(shù)量分布顆粒體系的 Zeta 電位及其分布分子量分布系數(shù) PD.I擴(kuò)散系數(shù) D流體力學(xué)直徑 D H顆粒間相互作用力因子 k D溶液粘度檢測(cè)技術(shù)動(dòng)態(tài)光散射電泳光散射靜態(tài)光散射
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2022-11-22 20:15:28BeNano 90 Zeta 納米粒度及 Zeta 電位儀
BeNano 90 Zeta 納米粒度及 Zeta 電位儀——90°散射粒度 + Zeta 電位二合一型  儀 器 簡(jiǎn) 介  BeNano 90 Zeta 納 米 粒 度 及 Zeta 電 位 儀 是 BeNano 90 +BeNano Zeta 二合一的光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)。該系統(tǒng)中集成了動(dòng)態(tài)光散 DLS、電泳光散射 ELS 和靜態(tài)光散射技術(shù) SLS,可以準(zhǔn)確的檢測(cè)顆粒的粒徑及粒徑分布,Zeta 電位,高分子和蛋白體系的分子量信息等參數(shù),可廣泛的應(yīng)用于化學(xué)、化工、生物、制藥、食品、材料等領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究和質(zhì)量分析與控制。指標(biāo)與性能粒徑測(cè)試粒徑范圍:0.3 nm – 15 μm*樣品量:3 μL – 1 mL*檢測(cè)角度:90 ° & 12°分析算法:Cumulants、通用模式、CONTIN Zeta 電位測(cè)試技術(shù):相位分析光散射檢測(cè)角度:12°Zeta 范圍:無(wú)實(shí)際限制電泳遷移率范圍:> ±20 μm.cm/v.s電導(dǎo)率范圍:0 – 260 mS/cm最小樣品量:0.75 mL – 1.0 mLZeta 測(cè)試粒徑范圍:2 nm – 110 μm  分子量測(cè)試分子量范圍:342 Da – 2 x 10 7 Da*  趨勢(shì)測(cè)量模式:時(shí)間和溫度  粘度測(cè)試粘度范圍:0.01 cp – 100 cp*  系統(tǒng)參數(shù)溫控范圍:-10° C - 110° C,精度 ±0.1° C激光光源:50 mW 高性能固體激光器, 671 nm相關(guān)器:最多 4000 通道,1011 動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍檢測(cè)器:APD ,高性能雪崩光電二極管光強(qiáng)控制:0.0001% - 100%,手動(dòng)或自動(dòng)*取決于樣品和選件原理圖儀器檢測(cè)檢測(cè)參數(shù)顆粒體系的光強(qiáng)、體積、面積和數(shù)量分布顆粒體系的 Zeta 電位及其分布分子量分布系數(shù) PD.I擴(kuò)散系數(shù) D流體力學(xué)直徑 D H顆粒間相互作用力因子 k D溶液粘度  檢測(cè)技術(shù)動(dòng)態(tài)光散射電泳光散射相位分析光散射靜態(tài)光散射
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2022-03-10 13:56:13NS-90Z丨納米粒度及電位分析儀
NS-90Z 納米粒度及電位分析儀產(chǎn)品介紹NS-90Z 納米粒度及電位分析儀是珠海歐美克儀器有限公司在成功引進(jìn)和吸收馬爾文帕納科公司(Malvern Panalytical)納米顆粒表征技術(shù)后,在NS-90納米粒度分析儀基礎(chǔ)上進(jìn)一步增加zeta電位測(cè)試功能而推出的新一款產(chǎn)品。NS-90Z具有優(yōu)越的粒度和電位分析功能,能滿(mǎn)足廣大納米材料、制劑開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)用戶(hù)的顆粒粒度和表面電位的測(cè)試需求。該儀器使用電泳光散射技術(shù)測(cè)定zeta電位,動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)測(cè)量粒子和分子粒度,以及靜態(tài)光散射技術(shù)測(cè)定蛋白質(zhì)與聚合物的分子量。NS-90Z融合馬爾文帕納科M3-PALS相位分析檢測(cè)技術(shù),并廣泛采用全 球化供應(yīng)鏈的優(yōu)質(zhì)光電部件,例如進(jìn)口雪崩式光電二極管(APD)檢測(cè)器和He-Ne氣體激光器等,加上精確的內(nèi)部溫控技術(shù)、密閉光纖光路以及先進(jìn)軟件算法,保障了數(shù)據(jù)的高重復(fù)性、準(zhǔn)確性和靈敏度,使該型號(hào)儀器可以分析寬廣的粒徑、濃度及電位范圍的樣品。NS-90Z同時(shí)支持SOP標(biāo)準(zhǔn)操作,以及測(cè)量數(shù)據(jù)智能評(píng)估,方便用戶(hù)使用。技術(shù)指標(biāo)【粒徑】測(cè)量范圍:0.3nm – 5000nm(以樣品為準(zhǔn))測(cè)量原理:動(dòng)態(tài)光散射法重復(fù)性誤差:<1%(NIST可追溯膠乳標(biāo)樣)最小樣品容積:20μL最小樣品濃度:0.1mg/mL (以樣品為準(zhǔn))【分子量】分子量測(cè)量范圍:342 Da – 2×107 Da , 由流體動(dòng)力學(xué)直徑估算(動(dòng)態(tài)光散射)分子量測(cè)量范圍:9800 Da – 2×107 Da , 由德拜圖計(jì)算 (靜態(tài)光散射)測(cè)量原理:動(dòng)態(tài)光散射,靜態(tài)光散射最小樣品容積:20μL(需要3-5種樣品濃度)【Zeta電位】測(cè)量原理:電泳光散射靈敏度:10mg/mL 66kDa 蛋白質(zhì)Zeta 電位范圍:>+500mV / <-500mV電泳速度范圍:>+20μ.cm/V.s / <-20μ.cm/V.s最 高樣品濃度:40% w/v (以樣品為準(zhǔn))最小樣品容積:20μL最 高電導(dǎo)率:200mS/cm檢測(cè)技術(shù):M3-PALS【系統(tǒng)參數(shù)】檢測(cè)角度:90。+13。激光光源:高穩(wěn)定He-Ne 激光器,波長(zhǎng)633nm,功率 4mW。激光安全:1類(lèi),符合CDRH 和 CE 標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)器:雪崩式光電二極管(APD)檢測(cè)器,QE>50%相關(guān)器:采樣時(shí)間25ns – 8000s,4000通道,1011動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍冷凝控制方法:干燥空氣吹掃(需外接氣源)溫度控制范圍:0° – 90°C溫度控制精度:± 0.1°C電源:AC 90 – 240V, 50 – 60Hz功率:50W典型應(yīng)用? 膠體和乳液表征? 藥物分散體和乳液? 脂質(zhì)體和囊泡? 粒子和表面的 Zeta 電位? 墨水、碳粉和顏料性能改進(jìn)? 優(yōu)化水處理中絮凝劑的用量以降低水處理成本? 縮短穩(wěn)定分散體和蛋白質(zhì)溶液的開(kāi)發(fā)時(shí)間? 了解產(chǎn)品穩(wěn)定或不穩(wěn)定的原因,提高產(chǎn)品保質(zhì)期? 防止形成蛋白質(zhì)聚集體? 增加蛋白質(zhì)濃度時(shí)保持穩(wěn)定性
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2022-04-18 14:01:37納米粒度及zeta電位分析儀可以應(yīng)用在哪些行業(yè)
一.納米粒度及zeta電位分析儀的介紹梓夢(mèng)科技的ZS-920系列納米粒度及zeta電位分析儀是三合一的光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng),該系統(tǒng)集成了動(dòng)態(tài)光散射 DLS電泳光散射ELS和靜態(tài)光散射技術(shù) SLS,可以準(zhǔn)確的檢測(cè)顆粒的粒徑及粒徑分布,Zeta電位,高分子和蛋白體系的分子量信息等參數(shù)。其中動(dòng)態(tài)光散射法是用于測(cè)量粒度及分子大?。辉摷夹g(shù)可測(cè)量布郎運(yùn)動(dòng)下移動(dòng)顆粒的擴(kuò)散情況,使用光子探測(cè)器在固定的角度采集散射光,通過(guò)相關(guān)器進(jìn)行自相關(guān)運(yùn)算得到相關(guān)函數(shù),再經(jīng)過(guò)數(shù)學(xué)反演獲得顆粒粒徑信息;Zeta電位測(cè)量是分子和顆粒在施加的電場(chǎng)作用下做電泳運(yùn)動(dòng),其運(yùn)動(dòng)速度和zeta電位直接相關(guān),Zeta電位與電泳遷移率關(guān)系遵循h(huán)erry方程,通過(guò)測(cè)量顆粒在電場(chǎng)中的電泳遷移率就能得出顆粒的zeta電位;靜態(tài)光散射法用于確定蛋白質(zhì)與聚合物的分子量。在此檢測(cè)方法中,檢測(cè)不同濃度下樣品的散射光強(qiáng),并且繪制曲線(xiàn),由此可計(jì)算出平均分子量及第二維里系數(shù),從而得到分子溶解程度。二.納米粒度及zeta電位分析儀的應(yīng)用行業(yè)納米粒度及zeta電位分析儀廣泛應(yīng)用于納米材料,生物醫(yī)藥,精細(xì)化工,油漆涂料,食品藥品,航空航天,國(guó)防科技等行業(yè)。在納米材料方面主要是用于研究納米金屬氧化物,納米金屬粉,納米陶瓷材料的粒度對(duì)材料性能的影響;生物醫(yī)藥方面主要是分析從蛋白質(zhì),DNA,RNA,病毒,道各種抗原抗體的粒度;精細(xì)化工方面主要是用于尋找納米催化劑的最佳粒度分布,以降低化學(xué)反應(yīng)溫度,提高反應(yīng)速度;油漆涂料方面主要是用于測(cè)量油漆,涂料,硅膠,聚合物膠乳,顏料,油墨,水/油乳液,調(diào)色劑,化妝品等樣品中納米顆粒物的粒徑;食品藥品方面主要用于藥物表面包覆蓋納米微粒可使其高效緩釋?zhuān)⒖梢灾瞥砂械乃幬?,可用?lái)控制藥物粒度的大小,以便更好的發(fā)揮藥物的療效;航空航天方面主要用于納米金屬粉添加到火箭固體推進(jìn)劑中,可以顯著改進(jìn)推進(jìn)劑燃燒性能,可用于研究金屬粉的最佳粒度分布;國(guó)防科技方面主要用于納米材料增加電磁能轉(zhuǎn)化為熱能的效率,從而提高對(duì)電磁波的吸收性能,可以制成電磁波吸波材料,不同粒徑納米材料具有不同的光學(xué)特性,可用于研究吸波材料的性能。     納米粒度及zeta電位分析儀之所以能受廣大客戶(hù)的喜愛(ài),除了它應(yīng)用的行業(yè)廣泛之外,納米粒度及zeta電位分析儀的控制軟件具有納米顆粒粒度和zeta電位測(cè)量功能,一鍵式測(cè)量,自動(dòng)調(diào)整散射光強(qiáng), 無(wú)需用戶(hù)干涉,自動(dòng)優(yōu)化光子相關(guān)器參數(shù),以適應(yīng)不同樣品,讓測(cè)量變得如此輕松??刂栖浖哂袠?biāo)準(zhǔn)化操作(SOP)功能,讓不同實(shí)驗(yàn)室、不同實(shí)驗(yàn)員間的測(cè)量按照同一標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行,測(cè)量結(jié)果更具有可比性。測(cè)量完成自動(dòng)生成報(bào)表,以可視化的方式展示測(cè)量結(jié)果,讓測(cè)量結(jié)果一目了然。     
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2023-04-25 09:25:28Nicomp? 在線(xiàn)粒度儀用于納米藥物粒度監(jiān)測(cè)
在過(guò)去的幾十年中,納米醫(yī)學(xué)研究發(fā)展迅速,大部分重 點(diǎn)放在藥物輸送上。納米顆粒具有降低毒性和副作用等優(yōu)點(diǎn),控制這些納米粒子的大小至關(guān)重要。Nicomp系列的大部分粒度測(cè)量是在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行的,但現(xiàn)在已經(jīng)有在生產(chǎn)線(xiàn)中進(jìn)行粒度測(cè)量的產(chǎn)品——Nicomp? 在線(xiàn)粒度儀。本應(yīng)用說(shuō)明介紹了 Bind Therapeutics(輝瑞于 2016 年收購(gòu)的資產(chǎn))開(kāi)展的開(kāi)創(chuàng)性工作,將Nicomp? 在線(xiàn)動(dòng)態(tài)光散射測(cè)量納入其 Accurins? 納米粒子候選藥物的制造過(guò)程。引言BIND Therapeutics, Inc. 是一家生物制藥公司,開(kāi)發(fā)稱(chēng)為 Accurins(見(jiàn)圖 1)的靶向納米粒子技術(shù),用于治 療癌癥和其他具有大量未滿(mǎn)足醫(yī)療需求的嚴(yán)重疾病。通過(guò)結(jié)合控釋聚合物系統(tǒng)、靶向和遞送大量治 療藥物的能力,Bind 正在為一類(lèi)新型靶向治 療開(kāi)發(fā)一個(gè)納米技術(shù)支持的平臺(tái)。圖 1. BIND Accurins 技術(shù)Accurins 通常是 80-120 nm 的顆粒,由具有活性藥物成分 (API) 核心的聚丙交酯聚乙二醇 (PLA-PEG) 共聚物組成。共聚物的 PLA 部分為包封疏水性 API 提供了一個(gè)可生物降解的、相對(duì)疏水的核心。聚合物的親水性聚乙二醇酯部分期望覆蓋在顆粒的表面,使它們能夠逃避網(wǎng)狀內(nèi)皮系統(tǒng)(RES)吞噬細(xì)胞的調(diào)理和從血液循環(huán)中移除。80-120 nm 的大小非常適合通過(guò)滲漏的脈管系統(tǒng)(增強(qiáng)的通透性和滯留性,或 EPR 效應(yīng))積聚在腫瘤部位,同時(shí)避免被脾 臟過(guò)濾。80-120 nm也是適合所需理化特性的尺寸,可保持高載藥量、控制釋放和加工能力,包括最 終無(wú)菌過(guò)濾和凍干的能力。Accurins 是通過(guò)納米乳液工藝制造的,該工藝使用高壓均化來(lái)剪切分散在不混溶水相中的有機(jī)液滴。控制液滴尺寸對(duì)于確定藥品的最 終尺寸分布十分重要。許多因素會(huì)影響液滴大小,包括原材料屬性、顆粒配方、均質(zhì)機(jī)機(jī)械性能、水相組成和工藝參數(shù)。該批次開(kāi)始生產(chǎn)后,均質(zhì)器壓力是最容易控制來(lái)調(diào)節(jié)尺寸的過(guò)程。BIND 014 是一種 Accurin,開(kāi)發(fā)用于將多西紫杉醇遞送至實(shí)體瘤和癌細(xì)胞,表達(dá)前列腺特異性膜抗原 (PSMA)。這里描述的所有實(shí)驗(yàn)都是針對(duì) BIND-014 Accurins。在線(xiàn)動(dòng)態(tài)光散射動(dòng)態(tài)光散射 (DLS) 可用于測(cè)量亞微米顆粒尺寸,DLS 的工作原理是小顆粒通過(guò)布朗運(yùn)動(dòng)在流體中隨機(jī)移動(dòng)。系統(tǒng)檢測(cè)到布朗運(yùn)動(dòng)引起的平移擴(kuò)散,然后用于求解 Stokes-Einstein 方程以確定粒子大?。ǚ匠?1)。其中: D = 擴(kuò)散系數(shù) kB = 波爾茲曼常數(shù) η = 粘度 R = 粒子半徑Nicomp DLS 已在實(shí)驗(yàn)室中成功使用數(shù)十年,Nicomp?在線(xiàn)粒度儀也已有了實(shí)際應(yīng)用。Entegris (Nicomp粒度儀生產(chǎn)商)現(xiàn)在已在客戶(hù)制造業(yè)務(wù)中安裝了多個(gè)系統(tǒng),用于在生產(chǎn)運(yùn)行期間跟蹤顆粒大小。在線(xiàn)系統(tǒng)從過(guò)程中取出樣品,稀釋樣品以避免多重散射效應(yīng),測(cè)量樣品,然后重復(fù)該過(guò)程(見(jiàn)圖 2)。完整的測(cè)量周期約為 2 分鐘,為監(jiān)控制造操作的工藝工程師提供連續(xù)的粒度信息。圖 2. DLS 系統(tǒng)簡(jiǎn)圖,帶自動(dòng)稀釋實(shí)驗(yàn)細(xì)節(jié)Entegris Nicomp?在線(xiàn) DLS 系統(tǒng)安裝在高壓均質(zhì)器的下游,其設(shè)置使其能夠每約 2 分鐘從工藝流中獲取乳液樣品。設(shè)置 DLS 的射流系統(tǒng),使乳液樣品以與下游 Accurin 過(guò)程類(lèi)似的方式在水中稀釋?zhuān)⒃诹魍ǔ刂凶詣?dòng)稀釋至產(chǎn)生理想光散射強(qiáng)度(~300 kCt/秒)的濃度。此處描述了三個(gè)批次: 一個(gè)批次由 11 個(gè)過(guò)程樣品和可變壓力制成,在整個(gè)均質(zhì)化過(guò)程中,以建立壓力大小相關(guān)性。在工藝條件略有不同的情況下生產(chǎn)的批次導(dǎo)致前兩個(gè)工藝樣品的尺寸略小于目標(biāo)尺寸。調(diào)整壓力后,尺寸恢復(fù)到最 后四個(gè)樣品的目標(biāo)值。臨床規(guī)模開(kāi)發(fā)批次在以約 5 分鐘的間隔采集的八個(gè)樣本期間展示穩(wěn)定的尺寸讀數(shù),確認(rèn)壓力設(shè)定點(diǎn)是合適的。結(jié)果第 一個(gè)實(shí)驗(yàn)(圖 3 和圖 4)的結(jié)果顯示了我們預(yù)期的壓力與尺寸的關(guān)系。從趨勢(shì)線(xiàn)曲線(xiàn)擬合可以看出,尺寸對(duì)壓力的響應(yīng)為每 1,000 psig 約 9 nm。圖 3. 均質(zhì)機(jī)壓力與粒徑圖 4. 壓力與平均尺寸的相關(guān)性第二個(gè)實(shí)驗(yàn)的初始尺寸讀數(shù)低于目標(biāo)尺寸約 5–7 nm,因此進(jìn)行了壓力調(diào)整(降低 1,000 psig)。在稍后的時(shí)間點(diǎn),平均粒徑按預(yù)期增加了 ~5–10 nm。圖 5. 均質(zhì)器壓力與粒徑最后一組數(shù)據(jù)來(lái)自使用在線(xiàn)分級(jí)器的第 一個(gè)臨床規(guī)模實(shí)驗(yàn)。盡管 BIND 有程序在尺寸超出我們的目標(biāo)范圍時(shí)根據(jù)需要調(diào)整壓力,但沒(méi)有必要這樣做。所有八次測(cè)量都非常接近 100 nm 目標(biāo)。圖 6. 批處理運(yùn)行期間的平均大小結(jié)論Nicomp? 在線(xiàn) DLS 系統(tǒng)被集成到 Accurin 制造過(guò)程中,用于確定最佳條件并確保在整個(gè)批次中粒徑在所需規(guī)格范圍內(nèi)。進(jìn)行在線(xiàn)測(cè)量可減少進(jìn)行工藝更改與獲取評(píng)估更改是否產(chǎn)生預(yù)期效果所需的粒度數(shù)據(jù)之間的滯后時(shí)間。此外,與將樣品帶到實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行離線(xiàn)批量分析相比,在線(xiàn)分析可以更好地監(jiān)控產(chǎn)品質(zhì)量。在線(xiàn) DLS 是一種有價(jià)值的過(guò)程分析技術(shù)。
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