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2025-01-10 10:49:44低溫等離子蝕刻機(jī): 低溫等離子蝕刻機(jī)是一種高精度的微納加工設(shè)備，利用低溫等離子體對材料表面進(jìn)行物理濺射和化學(xué)蝕刻。它能夠在不損傷材料基底的前提下，實現(xiàn)微納米級的精確加工。該設(shè)備適用于多種材料，如半導(dǎo)體、玻璃、陶瓷等，廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。低溫等離子蝕刻機(jī)具有高刻蝕速率、高分辨率及良好的加工均勻性，為科研實驗和工業(yè)生產(chǎn)提供了關(guān)鍵的技術(shù)支持。

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: 德國Sentech 低溫等離子蝕刻機(jī) SI 500 C; 國外歐洲; ￥5000000; 深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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: Diener 等離子蝕刻機(jī) FEMTO RIE; 國外歐洲; 面議; 上海爾迪儀器科技有限公司
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: Diener Tetra100 等離子表面清洗/蝕刻機(jī); 國外歐洲; ￥800000; 上海爾迪儀器科技有限公司
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: 德國Sentech ICP-RIE等離子蝕刻機(jī) SI 500; 國外歐洲; ￥5000000; 深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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低溫等離子蝕刻機(jī)問答

2023-03-14 12:04:54等離子去膠機(jī)（Plasma Cleaner）: 等離子去膠機(jī)（Plasma Cleaner）為何要去除光刻膠？在現(xiàn)代半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中，會大量使用光刻膠來將電路板圖圖形通過掩模版和光刻膠的感光與顯影，轉(zhuǎn)移到晶圓光刻膠上，從而在晶圓表面形成特定的光刻膠圖形，然后在光刻膠的保護(hù)下，對下層薄膜或晶圓基底完成進(jìn)行圖形刻蝕或離子注入，最后再將原有的光刻膠徹底去除。去膠是光刻工藝中的最后一步。在刻蝕/離子注入等圖形化工藝完成后，晶圓表面剩余光刻膠已完成圖形轉(zhuǎn)移和保護(hù)層的功能，通過去膠工藝進(jìn)行完全清除。光刻膠去除是微加工工藝過程中非常重要的環(huán)節(jié)，光刻膠是否徹底去除干凈、對樣片是否有造成損傷，都會直接影響后續(xù)集成電路芯片制造工藝效果。半導(dǎo)體光刻膠去除工藝有哪些？半導(dǎo)體光刻膠去除工藝，一般分成兩種，濕式去光刻膠和干式去光刻膠。濕式去膠又根據(jù)去膠介質(zhì)的差異，分為氧化去膠和溶劑去膠兩種類別。干式去膠適合大部分去膠工藝，去膠徹底且速度快，是現(xiàn)有去膠工藝中zui好的方式。一、等離子去膠機(jī)簡述：氧等離子去膠是利用氧氣在微波發(fā)生器的作用下產(chǎn)生氧等離子體，具有活性的氧等離子體與有機(jī)聚合物發(fā)生氧化反應(yīng)，使有機(jī)聚合物被氧化成水蒸汽和二氧化碳等排除腔室，從而達(dá)到去除光刻膠的目的，這個過程我們有時候也稱之為灰化或者剝離。氧等離子去膠相比于濕法去膠工藝更為簡單、適應(yīng)性更好，去膠過程純干法工藝，無液體或者有機(jī)溶劑參與。當(dāng)然我們需要注意的是，這里并不是說氧等離子去膠工藝100%好于濕法去膠，同時也不是所有的光刻膠都適用于氧等離子去膠，以下幾種情形我們需要注意：① 部分穩(wěn)定性極高的光刻膠如SU-8、PI（聚酰亞胺），往往膠厚也比較大，純氧等離子體去膠速率也比較有限，為了保證快速去膠，往往還會在工藝氣體中增加氟基氣體增加去膠速率，因此不只是氧氣是反應(yīng)氣體，有時候我們也需要其他氣體參與；② 涂膠后形成類非晶態(tài)二氧化硅的HSQ光刻膠。由于其構(gòu)成并不是單純的碳?xì)溲?，所以是無法使用氧等離子去膠機(jī)來實現(xiàn)去膠；③ 當(dāng)我們的樣品中有其他需要保留的結(jié)構(gòu)層本身就是有機(jī)聚合物構(gòu)成的，在等離子去膠的過程中，這些需要保留的層也可能會在氧等離子下發(fā)生損傷；④ 樣品是由容易氧化的材料或者有易氧化的結(jié)構(gòu)層，氧等離子去膠過程，這些材料也會被氧化，如金屬AG、C、CR、Fe以及Al，非金屬的石墨烯等二維材料；市面上常見氧等離子去膠機(jī)按照頻率可分為微波等離子去膠機(jī)和射頻等離子去膠機(jī)兩種，微波等離子去膠機(jī)的工作頻率為2.45GHz，射頻等離子去膠機(jī)的工作頻率為13.5MHz，更高的頻率決定了等離子體擁有更高的離子濃度、更小的自偏壓，更高的離子濃度決定了去膠速度更快，效率更高；更低的自偏壓決定了其對襯底的刻蝕效應(yīng)更小，也意味著去膠過程中對襯底無損傷，而射頻等離子去膠機(jī)其工作原理與刻蝕機(jī)相似，結(jié)構(gòu)上更加簡單。因此，在光電器件的加工中，去膠機(jī)的選擇更推薦使用損傷更小的微波等離子去膠機(jī)。二、等離子清洗去膠機(jī)的工作原理：氧氣是干式等離子體脫膠技術(shù)中的首要腐蝕氣體。它在真空等離子體脫膠機(jī)反應(yīng)室內(nèi)高頻和微波能的作用下，電離產(chǎn)生氧離子、自由氧原子O*、氧分子和電子混合的等離子體，其間氧化能力強(qiáng)的自由氧原子（約10-20%）在高頻電壓作用下與光刻膠膜發(fā)生反應(yīng)：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反應(yīng)后產(chǎn)生的CO2和H2O然后被抽走。三、等離子去膠機(jī)的優(yōu)勢：1、等離子清洗機(jī)的加工過程易于控制、可重復(fù)且易于自動化；使用等離子掃膠機(jī)可以使得清洗效率獲得更大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn)2、等離子掃膠機(jī)清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序，可以提高整個工藝流水線的處理效率；3、等離子掃膠機(jī)使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；4、避免使用ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法；5、等離子去膠機(jī)采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同，等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀；6、等離子去膠機(jī)在完成清洗去污的同時，還可以改良材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能、改良膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。四、等離子去膠的主要影響因素：頻率選擇：頻率越高，氧越易電離形成等離子體。頻率太高，以至電子振幅比其平均自由程還短，則電子與氣體分子碰撞幾率反而減少，使電離率降低。一般常用頻率為 13.56MHz及2.45GHZ 。功率影響：對于一定量的氣體，功率大，等離子體中的的活性粒子密度也大，去膠速度也快；但當(dāng)功率增大到一定值，反應(yīng)所能消耗的活性離子達(dá)到飽和，功率再大，去膠速度則無明顯增加。由于功率大，基片溫度高，所以應(yīng)根據(jù)工藝需要調(diào)節(jié)功率。真空度的選擇：適當(dāng)提高真空度，可使電子運(yùn)動的平均自由程變大，因而從電場獲得的能量就大，有利電離。另外當(dāng)氧氣流量一定時，真空度越高，則氧的相對比例就大，產(chǎn)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過高，活性粒子濃度反而會減小。氧氣流量的影響：氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加快；但流量太大，則離子的復(fù)合幾率增大，電子運(yùn)動的平均自由程縮短，電離強(qiáng)度反而下降。若反應(yīng)室壓力不變，流量增大，則被抽出的氣體量也增加，其中尚沒參加反應(yīng)的活性粒子抽出量也隨之增加，因此流量增加對去膠速率的影響也就不甚明顯。五、等離子去膠機(jī)的應(yīng)用：1、光刻膠的去除、剝離或灰化2、SU-8的去除/ 犧牲層的去除3、有機(jī)高分子聚合物的去除4、等離子去除殘膠/去浮渣/打底膜5、失效分析中的扁平化處理6、表面沾污清除和內(nèi)腐蝕（深腐蝕）應(yīng)用7、清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架8、剝離金屬化工藝前去除浮渣9、提高黏附性，消除鍵合問題10、塑料的表面改型：O2處理以改進(jìn)涂覆性能11、產(chǎn)生親水或疏水表面

2022-08-25 11:12:04揭秘遠(yuǎn)程微波等離子去膠機(jī): NPC-3500型微波等離子去膠機(jī)微波等離子去膠機(jī)工作原理：為了產(chǎn)生等離子，系統(tǒng)使用遠(yuǎn)程微波源。氧在真空環(huán)境下受高頻及微波能量作用，電離產(chǎn)生具有強(qiáng)氧化能力的游離態(tài)氧原子，它在高頻電壓作用下與光刻膠薄膜反應(yīng)，反應(yīng)后生成的 CO2 和 H2O 通過真空系統(tǒng)被抽走。CF4 氣體可以達(dá)到更快速的去膠速率，尤其對于難以去除的光刻膠也具備出色的去除能力。在微波等離子體氛圍中，活性氣體被等離子化，將跟光刻膠產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，反應(yīng)生產(chǎn)的化合物通過真空泵被快速抽走，可以達(dá)到高效的去膠效果。該去膠機(jī)微波源為遠(yuǎn)程微波源，轟擊性的離子將被過濾掉之后微波等離子進(jìn)入到工藝腔室參與反應(yīng)，因此可以實現(xiàn)無損的去膠。微波等離子去膠機(jī)主要用途：MEMS壓力傳感器加工工藝中光刻膠批量處理；去除有機(jī)或無機(jī)物，而無殘留；去膠渣、深刻蝕應(yīng)用；半導(dǎo)體晶圓制造中光刻膠及SU8工藝；平板顯示生產(chǎn)中等離子體預(yù)處理；太陽能電池生產(chǎn)中邊緣絕緣和制絨；先進(jìn)晶片(芯片)封裝中的襯底清潔和預(yù)處理；NANO-MASTER微波等離子去膠機(jī)系統(tǒng)優(yōu)勢：1）Downstream結(jié)構(gòu)，等離子分布均勻；2）遠(yuǎn)程微波，無損傷；3）遠(yuǎn)程微波，支持金屬材質(zhì)；4）批處理，一次可支持1-25片；5）微波等離子，可以深入1um以內(nèi)的孔隙進(jìn)行清洗；6）光刻膠去除的方式為化學(xué)方式，而非物理轟擊，可實現(xiàn)等離子360度全方位的分布；7）旋轉(zhuǎn)樣品臺，進(jìn)一步提高去膠的均勻性。8) 腔體內(nèi)無電極，更高潔凈度；9）微波波段無紫外排放，操作更安全；10）高電子密度，去膠效率高。

2021-11-30 09:41:21什么是低溫等離子設(shè)備？: 冰升溫至0℃會變成水，如繼續(xù)使溫度升至100℃，那么水就會沸騰成為水蒸氣。隨著溫度的上升，物質(zhì)的存在狀態(tài)一般會呈現(xiàn)出固態(tài)→液態(tài)→氣態(tài)三種物態(tài)的轉(zhuǎn)化過程，我們把這三種基本形態(tài)稱為物質(zhì)的三態(tài)。那么對于氣態(tài)物質(zhì)，溫度升至幾千度時，將會有什么新變化呢? 由于物質(zhì)分子熱運(yùn)動加劇，相互間的碰撞就會使氣體分子產(chǎn)生電離，這樣物質(zhì)就變成由自由運(yùn)動并相互作用的正離子和電子組成的混合物（蠟燭的火焰就處于這種狀態(tài)）。我們把物質(zhì)的這種存在狀態(tài)稱為物質(zhì)的第四態(tài)，即等離子體(plasma)。因為電離過程中正離子和電子總是成對出現(xiàn)，所以等離子體中正離子和電子的總數(shù)大致相等，總體來看為準(zhǔn)電中性。反過來，我們可以把等離子體定義為：正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。從剛才提到的微弱的蠟燭火焰，我們可以看到等離子體的存在，而夜空中的滿天星斗又都是高溫的完全電離等離子體。據(jù)印度天體物理學(xué)家沙哈(M．Saha，1893-1956)的計算，宇宙中的99.9%的物質(zhì)處于等離子體狀態(tài)。而我們居住的地球倒是例外的溫度較低的星球。此外，對于自然界中的等離子體，我們還可以列舉太陽、電離層、極光、雷電等。在人工生成等離子體的方法中，氣體放電法比加熱的辦法更加簡便高效，諸如熒光燈、霓虹燈、電弧焊、電暈放電等等。在自然和人工生成的各種主要類型的等離子體的密度和溫度的數(shù)值，其密度為106（單位：個／m3）的稀薄星際等離子體到密度為1025的電弧放電等離子體，跨越近20個數(shù)量級。其溫度分布范圍則從100K的低溫到超高溫核聚變等離子體108-109K（1-10億度）。溫度軸的單位eV(electron volt)是等離子體領(lǐng)域中常用的溫度單位，1eV=11600K。通常，等離子體中存在電子、正離子和中性粒子(包括不帶電荷的粒子如原子或分子以及原子團(tuán))等三種粒子。設(shè)它們的密度分別為ne,ni,nn，由于準(zhǔn)電中性，所以電離前氣體分子密度為ne≈nn。于是，我們定義電離度β=ne/(ne+nn)，以此來衡量等離子體的電離程度。日冕、核聚變中的高溫等離子體的電離度都是100%，像這樣β=1的等離子體稱為完全電離等離子體。電離度大于1%(β≥10-2)的稱為強(qiáng)電離等離子體，像火焰中的等離子體大部分是中性粒子(β>Ti , Te>>Tn。我們把這樣的等離子體稱為低溫等離子體(cold plasma)。當(dāng)然，即使是在高氣壓下，低溫等離子體還可以通過不產(chǎn)生熱效應(yīng)的短脈沖放電模式即電暈放電（corona discharge）或電弧滑動噴射式放電來生成。大氣壓下的輝光放電技術(shù)目前也已成為世界各國的研究熱點(diǎn)?？僧a(chǎn)生大氣壓非平衡態(tài)等離子體的機(jī)理尚不清楚，在高氣壓下等離子體的輸運(yùn)特性的研究也剛剛起步，現(xiàn)已形成新的研究熱點(diǎn)。 http://www.verdegroup.cn/ 更多詳細(xì)資料，可聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司，撥打電話021-62211270！021-62211270！上海爾迪儀器科技有限公司是一家從事儀器設(shè)備銷售、技術(shù)服務(wù)與工藝開發(fā)的創(chuàng)新公司，為您提供一站式采購服務(wù)。

2021-11-16 17:32:33等離子設(shè)備：什么是低溫等離子體？: 冰升溫至0℃會變成水，如繼續(xù)使溫度升至100℃，那么水就會沸騰成為水蒸氣。隨著溫度的上升，物質(zhì)的存在狀態(tài)一般會呈現(xiàn)出固態(tài)→液態(tài)→氣態(tài)三種物態(tài)的轉(zhuǎn)化過程，我們把這三種基本形態(tài)稱為物質(zhì)的三態(tài)。那么對于氣態(tài)物質(zhì)，溫度升至幾千度時，將會有什么新變化呢? 由于物質(zhì)分子熱運(yùn)動加劇，相互間的碰撞就會使氣體分子產(chǎn)生電離，這樣物質(zhì)就變成由自由運(yùn)動并相互作用的正離子和電子組成的混合物（蠟燭的火焰就處于這種狀態(tài)）。我們把物質(zhì)的這種存在狀態(tài)稱為物質(zhì)的第四態(tài)，即等離子體(plasma)。因為電離過程中正離子和電子總是成對出現(xiàn)，所以等離子體中正離子和電子的總數(shù)大致相等，總體來看為準(zhǔn)電中性。反過來，我們可以把等離子體定義為：正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。從剛才提到的微弱的蠟燭火焰，我們可以看到等離子體的存在，而夜空中的滿天星斗又都是高溫的完全電離等離子體。據(jù)印度天體物理學(xué)家沙哈(M．Saha，1893-1956)的計算，宇宙中的99.9%的物質(zhì)處于等離子體狀態(tài)。而我們居住的地球倒是例外的溫度較低的星球。此外，對于自然界中的等離子體，我們還可以列舉太陽、電離層、極光、雷電等。在人工生成等離子體的方法中，氣體放電法比加熱的辦法更加簡便GX，諸如熒光燈、霓虹燈、電弧焊、電暈放電等等。在自然和人工生成的各種主要類型的等離子體的密度和溫度的數(shù)值，其密度為106（單位：個／m3）的稀薄星際等離子體到密度為1025的電弧放電等離子體，跨越近20個數(shù)量級。其溫度分布范圍則從100K的低溫到超高溫核聚變等離子體的108-109K（1-10億度）。溫度軸的單位eV(electron volt)是等離子體領(lǐng)域中常用的溫度單位，1eV=11600K。通常，等離子體中存在電子、正離子和中性粒子(包括不帶電荷的粒子如原子或分子以及原子團(tuán))等三種粒子。設(shè)它們的密度分別為ne,ni,nn，由于準(zhǔn)電中性，所以電離前氣體分子密度為ne≈nn。于是，我們定義電離度β=ne/(ne+nn)，以此來衡量等離子體的電離程度。日冕、核聚變中的高溫等離子體的電離度都是1**%，像這樣β=1的等離子體稱為完全電離等離子體。電離度大于1%(β≥10-2)的稱為強(qiáng)電離等離子體，像火焰中的等離子體大部分是中性粒子(β>Ti , Te>>Tn。我們把這樣的等離子體稱為低溫等離子體(cold plasma)。當(dāng)然，即使是在高氣壓下，低溫等離子體還可以通過不產(chǎn)生熱效應(yīng)的短脈沖放電模式即電暈放電（corona discharge）或電弧滑動噴射式放電來生成。大氣壓下的輝光放電技術(shù)目前也已成為世界各國的研究熱點(diǎn)?？僧a(chǎn)生大氣壓非平衡態(tài)等離子體的機(jī)理尚不清楚，在高氣壓下等離子體的輸運(yùn)特性的研究也剛剛起步，現(xiàn)已形成新的研究熱點(diǎn)。本文轉(zhuǎn)載自上海爾迪儀器科技有限公司

2025-04-02 18:30:14X光機(jī)異物檢測機(jī)原理是什么？: X光機(jī)異物檢測機(jī)是一種利用X射線技術(shù)檢測物體內(nèi)部異物的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于食品、藥品、玩具、紡織品等多個行業(yè)。其核心工作原理基于X光的穿透性以及物質(zhì)對X光的吸收能力，結(jié)合現(xiàn)代光電技術(shù)、計算機(jī)技術(shù)和數(shù)字信號處理技術(shù)，實現(xiàn)對產(chǎn)品內(nèi)部異物的精準(zhǔn)檢測。以下是X光機(jī)異物檢測機(jī)的主要工作原理和應(yīng)用領(lǐng)域。一、X光的穿透原理 X光是一種高能電磁波，具有很強(qiáng)的穿透能力。當(dāng)X光照射到物質(zhì)上時，會根據(jù)物質(zhì)的密度、厚度和成分的不同而發(fā)生不同程度的衰減。密度越大、厚度越厚的物質(zhì)，對X光的吸收能力越強(qiáng)，X光穿透后的強(qiáng)度就越弱；反之，密度越小、厚度越薄的物質(zhì)，對X光的吸收能力越弱，X光穿透后的強(qiáng)度就越強(qiáng)。二、光電轉(zhuǎn)換與信號處理在X光機(jī)異物檢測機(jī)中，X光發(fā)射器會發(fā)出高強(qiáng)度的X光，這些X光穿透被檢測產(chǎn)品后，會被接收器捕捉。接收器內(nèi)部通常包含光電轉(zhuǎn)換元件，如光電二極管或光電倍增管等，它們能夠?qū)⒔邮盏降腦光信號轉(zhuǎn)換為電信號。隨后，這些電信號會經(jīng)過放大、濾波和數(shù)字化處理等步驟，轉(zhuǎn)換為計算機(jī)可以識別的數(shù)字信號。在數(shù)字信號處理階段，計算機(jī)會利用復(fù)雜的算法對信號進(jìn)行進(jìn)一步的分析和處理，以提取出有用的信息。三、圖像識別與異物檢測經(jīng)過數(shù)字信號處理后，計算機(jī)會生成被檢測產(chǎn)品的X光圖像。這些圖像通常包含產(chǎn)品的內(nèi)部結(jié)構(gòu)、形狀和異物等信息。X光機(jī)異物檢測機(jī)會利用圖像識別技術(shù)，對生成的圖像進(jìn)行自動分析和識別。在識別過程中，計算機(jī)會根據(jù)預(yù)設(shè)的閾值和算法，對圖像中的異物進(jìn)行判別。如果圖像中的某個區(qū)域與預(yù)設(shè)的異物特征相匹配，或者其X光強(qiáng)度與周圍區(qū)域存在顯著差異，那么計算機(jī)就會認(rèn)為該區(qū)域存在異物，并觸發(fā)報警或標(biāo)記功能。四、應(yīng)用領(lǐng)域與優(yōu)勢 X光機(jī)異物檢測機(jī)憑借其高精度、高效率和高可靠性的檢測能力，在多個行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用。在食品行業(yè)中，它可以用于檢測肉類、水產(chǎn)、果蔬等食品中的金屬、玻璃、陶瓷、石塊、骨頭、塑料等異物；在藥品行業(yè)中，它可以用于檢測藥品包裝中的異物和缺陷；在玩具和紡織品行業(yè)中，它也可以用于檢測產(chǎn)品中的異物和安全隱患。此外，X光機(jī)異物檢測機(jī)還可以進(jìn)行產(chǎn)品缺失檢測、破損包裝檢測以及重量檢測等。五、技術(shù)特點(diǎn)與發(fā)展趨勢 X光機(jī)異物檢測機(jī)的技術(shù)特點(diǎn)包括高靈敏度、高穩(wěn)定性以及多視角檢測能力。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步，X光機(jī)異物檢測機(jī)從原來的單視角檢測技術(shù)發(fā)展到新型的多視角檢測技術(shù)，能夠更全面地覆蓋檢測區(qū)域，提高異物檢出的可能性。此外，設(shè)備還具備軟件自學(xué)習(xí)功能，能夠通過自動分析被測物的特性，調(diào)節(jié)X光參數(shù)以保證最佳檢測精度。綜上所述，X光機(jī)異物檢測機(jī)通過X光的穿透性、光電轉(zhuǎn)換、數(shù)字信號處理和圖像識別等技術(shù)手段，實現(xiàn)對產(chǎn)品內(nèi)部異物的精準(zhǔn)檢測。其在食品、藥品、玩具等多個行業(yè)的廣泛應(yīng)用，為產(chǎn)品質(zhì)量和安全提供了有力保障。