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2025-01-22 15:12:20鈮酸鋰電光調(diào)制器: 鈮酸鋰電光調(diào)制器是一種利用鈮酸鋰晶體的電光效應(yīng)實(shí)現(xiàn)光信號(hào)調(diào)制的器件。它通過(guò)將電信號(hào)轉(zhuǎn)換為光信號(hào)的相位、幅度或偏振狀態(tài)的變化，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)光信號(hào)的調(diào)制。鈮酸鋰電光調(diào)制器具有調(diào)制速度快、損耗低、穩(wěn)定性好等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于光纖通信、光學(xué)傳感、激光雷達(dá)等領(lǐng)域，是現(xiàn)代光電子技術(shù)中的重要器件。

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鈮酸鋰電光調(diào)制器資訊

ixblue 2um鈮酸鋰電光調(diào)制器 - 筱曉光子精品速遞③

從物理意義上說(shuō)，電光調(diào)制器并沒(méi)有利用任何的放大現(xiàn)象或非穩(wěn)態(tài)現(xiàn)象，可以理解為無(wú)源元件，因而加上某些附屬電路和電源組成的電光調(diào)制驅(qū)動(dòng)器對(duì)電光調(diào)制器的使用起決定性作用。

筱曉（上海）光子技術(shù)有限公司 502
2022-10-22
ixblue 2um鈮酸鋰電光調(diào)制器激光調(diào)制技術(shù)

鈮酸鋰電光調(diào)制器文章

等離子體電光調(diào)制器研究與應(yīng)用文獻(xiàn)

昊量光電新推出基于表面等離子體激元（SPP）和硅光子集成技術(shù)的高速等離子體電光調(diào)制器，高帶寬可達(dá)145GHz，可被廣泛用于通信，量子，測(cè)試測(cè)量等領(lǐng)域。

上海昊量光電設(shè)備有限公司 238
2024-11-18
等離子體電光調(diào)制器鈮酸鋰電光調(diào)制器高速電光調(diào)制器

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鈮酸鋰電光調(diào)制器問(wèn)答

2023-05-31 11:35:26鋰電清潔度分析：從光鏡到電鏡（上）: 01金屬異物對(duì)鋰電池安全性的影響鋰離子電池正極材料中金屬異物（包括鐵、鎳、銅、鋅、鉻等）的含量對(duì)鋰電池的性能有較大影響。金屬異物在電池化成階段會(huì)先在正極氧化再到負(fù)極還原，當(dāng)負(fù)極處的金屬單質(zhì)累積到一定程度會(huì)形成枝晶，導(dǎo)致隔膜穿孔，造成電池內(nèi)部短路，提高電池的自放電率，嚴(yán)重時(shí)甚至?xí)姵仄鸹?、爆炸，影響電池的安全性能。目前?duì)金屬異物的管控水平已經(jīng)成為衡量鋰離子電池正極材料生產(chǎn)線最核心的指標(biāo)之一。由于動(dòng)力鋰電池的最終客戶為汽車公司（如大眾，寶馬，戴姆勒等），對(duì)于金屬異物的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)也基本沿用燃油汽車清潔度標(biāo)準(zhǔn)（德國(guó)的汽車工業(yè)聯(lián)合會(huì)推出的 VDA19）的相關(guān)概念。VDA19 中對(duì)于異物的評(píng)估方法主要包括：稱重法，光鏡法、電鏡法、拉曼法等，其中光鏡法和電鏡法作為可視化的方法，得到了廣泛應(yīng)用。02光學(xué)顯微鏡檢測(cè)的原理及結(jié)果金屬表面的物理特性決定了光線不能進(jìn)入金屬物質(zhì)，它會(huì)像鏡子般把所有入射光全部反射出去。入射光在經(jīng)由金屬表面反射后，其反射光與入射光具有相同的振動(dòng)方向。如果反射光通過(guò)兩片平行的偏振片，金屬顆粒呈現(xiàn)亮色；如果反射光通過(guò)兩片垂直的偏振片，金屬顆粒呈現(xiàn)純黑色。入射光在經(jīng)過(guò)非金屬物質(zhì)后，其振動(dòng)方向會(huì)發(fā)生改變（主要原因是光可以射入非金屬物質(zhì)內(nèi)部），經(jīng)過(guò)非金屬物質(zhì)內(nèi)部后再出來(lái)的反射光不再具有偏振性，其方向也會(huì)發(fā)生改變。反射光通過(guò)平行和垂直的偏振片時(shí)，其亮度變化不大。通過(guò)記錄、對(duì)比顆粒在不同偏振光下的圖片，而后鑒別出金屬和非金屬顆粒。具體測(cè)試結(jié)果如下：03光鏡檢測(cè)的局限性3.1 無(wú)法區(qū)分金屬顆粒的詳細(xì)分類并非所有金屬顆粒都具有相同的危害性，例如，在對(duì)大量失效電池進(jìn)行拆解分析后發(fā)現(xiàn)，相對(duì)于不銹鋼，銅的危害性更高。主要是因?yàn)殂~離子更容易在負(fù)極析出，析出后的生長(zhǎng)方式呈現(xiàn)枝晶狀，很容易刺穿隔膜。并且，銅的電導(dǎo)率比鐵高了一個(gè)數(shù)量級(jí)，一旦銅枝晶刺穿隔膜，極易導(dǎo)致電池內(nèi)部短路，進(jìn)一步導(dǎo)致電池過(guò)熱甚至起火。為了有效評(píng)估金屬顆粒的危害性，需要知道顆粒的詳細(xì)成分，而光學(xué)顯微鏡只能區(qū)分金屬和非金屬，但具體是哪類金屬則無(wú)從得知。3.2 會(huì)造成金屬與非金屬的誤識(shí)別根據(jù)光反射原理的分析，要求濾膜上的金屬顆粒要反光發(fā)亮。由于污染物顆粒在零件加工過(guò)程中暴露于液體、高溫和摩擦環(huán)境中，因此它們的表面會(huì)因?yàn)楦g等原因而不反光，呈現(xiàn)暗色。這些金屬顆粒在光學(xué)顯微鏡下，會(huì)被錯(cuò)誤地分類為非金屬顆粒。在如下示例中，顯示了三個(gè)顆粒(鋅，鋼和鋁)，這些顆粒通過(guò)光學(xué)顯微鏡確認(rèn)為非金屬。然而，SEM+EDX 分析顯示了這些顆粒的金屬性質(zhì)。3.3 對(duì)小尺寸顆粒的統(tǒng)計(jì)準(zhǔn)確性較低光學(xué)顯微鏡的分辨率較低（相比電子顯微鏡要低 2-3 個(gè)數(shù)量級(jí)），其對(duì)小尺寸顆粒的測(cè)試準(zhǔn)確性也較低。以下與 SEM+EDX 統(tǒng)計(jì)結(jié)果的比較，顯示了光學(xué)顯微鏡的錯(cuò)誤分類有多嚴(yán)重。由汽車供應(yīng)商提供的同一片濾膜，分別進(jìn)行了光學(xué)顯微鏡的顆粒分析以及 SEM+EDX 的測(cè)試分析，并進(jìn)行了比較。結(jié)果顯示，通過(guò)光學(xué)顯微鏡檢測(cè)的金屬顆粒數(shù)，不到實(shí)際金屬顆粒的 1/60。3.4 無(wú)法分析顆粒的可能來(lái)源鋰電池清潔度分析的意義，一方面是對(duì)清潔度的水平進(jìn)行評(píng)估，另一方面，希望通過(guò)對(duì)金屬顆粒的分析，確定其產(chǎn)生原因，并回溯至對(duì)應(yīng)的生產(chǎn)工序，進(jìn)行針對(duì)性的管控，從而提升產(chǎn)線的清潔度水平。由以上分析可知，光學(xué)顯微鏡提供的關(guān)于金屬顆粒形態(tài)和成分的信息有限，無(wú)法分析顆粒的可能來(lái)源，對(duì)清潔度水平的提升幫助有限。因此，全自動(dòng)鋰電清潔度分析方案應(yīng)運(yùn)而生。Phenom ParticleX 以臺(tái)式掃描電鏡和能譜儀為硬件基礎(chǔ)，可以全自動(dòng)對(duì)顆粒或雜質(zhì)進(jìn)行快速識(shí)別、分析和分類統(tǒng)計(jì)，為客戶的研發(fā)以及生產(chǎn)提供快速、準(zhǔn)確和可靠的定量數(shù)據(jù)支持。小編將在下一篇為大家詳細(xì)講述。

2025-10-21 16:33:55石墨趕酸儀的優(yōu)勢(shì)是什么？: 石墨趕酸儀HD-GS04具有快速、高效、便捷等優(yōu)點(diǎn)，適用于食品、藥品、質(zhì)檢、環(huán)保、疾控、化工、高校等行業(yè)樣品的處理?？捎糜谖⒉ㄏ獾念A(yù)處理和趕酸處理，是原子吸收、原子熒光、ICP-AES等分析儀器的理想配套產(chǎn)品，更適合與微波消解儀配套使用。產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)使用5寸彩色觸摸屏進(jìn)行儀器操作，配備安卓操作系統(tǒng)，方便快捷。采用PID 控溫技術(shù)，控溫精度高，升溫速度快, 從室溫到260℃僅需25分鐘。分段控溫設(shè)置，即可單段升溫，也可多段升溫，設(shè)置靈活，儀器將自動(dòng)按順序完成。更適于易產(chǎn)生泡沫的樣品。采用優(yōu)質(zhì)石墨爐內(nèi)芯，平均溫差較小，樣品效果一致性好，熱傳導(dǎo)效率更高。石墨塊具有特氟龍涂層，耐腐蝕，延長(zhǎng)使用壽命。

2025-10-21 16:34:09石墨趕酸儀的優(yōu)勢(shì)是什么？: 石墨趕酸儀HD-GS04具有快速、高效、便捷等優(yōu)點(diǎn)，適用于食品、藥品、質(zhì)檢、環(huán)保、疾控、化工、高校等行業(yè)樣品的處理。可用于微波消解的預(yù)處理和趕酸處理，是原子吸收、原子熒光、ICP-AES等分析儀器的理想配套產(chǎn)品，更適合與微波消解儀配套使用。產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)使用5寸彩色觸摸屏進(jìn)行儀器操作，配備安卓操作系統(tǒng)，方便快捷。采用PID 控溫技術(shù)，控溫精度高，升溫速度快, 從室溫到260℃僅需25分鐘。分段控溫設(shè)置，即可單段升溫，也可多段升溫，設(shè)置靈活，儀器將自動(dòng)按順序完成。更適于易產(chǎn)生泡沫的樣品。采用優(yōu)質(zhì)石墨爐內(nèi)芯，平均溫差較小，樣品效果一致性好，熱傳導(dǎo)效率更高。石墨塊具有特氟龍涂層，耐腐蝕，延長(zhǎng)使用壽命。

2022-09-04 20:07:28低場(chǎng)核磁技術(shù)研究鋰電顆粒團(tuán)聚: 低場(chǎng)核磁技術(shù)研究鋰電顆粒團(tuán)聚顆粒團(tuán)聚可分為三種狀態(tài)：凝聚體：指以面相接的原級(jí)粒子，其表面積比其單個(gè)粒子組成之和小得多，這種狀態(tài)再分散十分困難。附聚體：指以點(diǎn)、角相接的原級(jí)粒子團(tuán)族或小顆粒在大顆粒上的附著，其總表面積比凝聚體大，但小于單個(gè)粒子組成之和，再分散比較容易。凝聚體和附聚體也稱二次粒子。絮凝：指由于體系表面積的增加、表面能增大，為了降低表面能而生成的更加松散的結(jié)構(gòu)。一般是由于大分子表面活性劑或水溶性高分子的架橋作用，把顆粒串聯(lián)成結(jié)構(gòu)松散似棉絮的團(tuán)狀物。在這種結(jié)構(gòu)中，離子間的距離比凝聚體或附聚體大得多。顆粒在液體中的團(tuán)聚與分散顆粒表面濕潤(rùn)性對(duì)粉體的分散具有重要意義，是粉體分散、固液分離、表面改性和造粒等工藝的理論基礎(chǔ)。固體顆粒被液體潤(rùn)濕的過(guò)程主要基于顆粒表面的潤(rùn)濕性。固體表面的濕潤(rùn)性由其化學(xué)組成和微觀結(jié)構(gòu)決定。固體表面自由能越大，越容易被液體濕潤(rùn)；反之亦然。因而，尋求和制備高表面自由能的固體表面成為制備超親水表面和超疏水表面的前提條件。低場(chǎng)核磁技術(shù)研究鋰電顆粒團(tuán)聚的基本原理：對(duì)于潤(rùn)濕的顆粒體系，顆粒表面會(huì)附著一層液相分子，這些液相分子因無(wú)機(jī)相表面的吸附作用而運(yùn)動(dòng)受限。但未與顆粒相接觸的液相分子運(yùn)動(dòng)是自由的，液相分子的馳豫時(shí)間（relaxation time）與它所處的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)密切相關(guān)，自由狀態(tài)的液相分子的核磁馳豫時(shí)間要比束縛狀態(tài)的液相分子的馳豫時(shí)間長(zhǎng)得多，顆粒分散性更好的體系吸附溶劑量相對(duì)更多，弛豫時(shí)間也就更短。因此，可以利用低場(chǎng)核磁共振技術(shù)來(lái)測(cè)量懸浮液體系的馳豫時(shí)間，并計(jì)算顆粒的濕潤(rùn)比表面積（可利用的吸附表面積），進(jìn)而用來(lái)研究顆粒的團(tuán)聚狀態(tài)、分散性穩(wěn)定性、親和性以及潤(rùn)濕性等問(wèn)題。

2021-07-21 14:05:00ViALUX 四百萬(wàn)像素超高速DMD空間光調(diào)制器: ViALUX 四百萬(wàn)像素超高速DMD空間光調(diào)制器摘要上海昊量光電zui新推出的ViALUX4.0Mpix超高速DMD空間光調(diào)制器V-9001VIS采用TI 2015年10月7日推出的DLP9000X芯片組。DLP9000X芯片組由DLP9000X DMD數(shù)字微鏡和DLPC910組成，與上一代芯片組DLP9000相比，其數(shù)據(jù)帶寬增加了5倍達(dá)到60 Gbps正文ViALUX 四百萬(wàn)像素超高速DMD空間光調(diào)制器上海昊量光電ZX推出的ViALUX4.0Mpix超高速DMD空間光調(diào)制器V-9001VIS采用TI 2015年10月7日推出的DLP9000X芯片組。DLP9000X芯片組由DLP9000X DMD數(shù)字微鏡和DLPC910組成，與上一代芯片組DLP9000相比，ViALUX V-9001VIS其數(shù)據(jù)帶寬增加了5倍達(dá)到60 Gbps。ViALUX 4.0Mpix超高速DMD空間光調(diào)制器V-90001VIS在充分利用DLP9000X芯片組的高帶寬基礎(chǔ)上，還在硬件驅(qū)動(dòng)電路中集成了高達(dá)64GBit的片上內(nèi)存和高速USB3.0數(shù)據(jù)接口。DLP9000X芯片組使用類似于DLP Discovery D4100 kit 的開(kāi)發(fā)架構(gòu)，上海昊量光電一直是國(guó)內(nèi)基于DLP Discovery D4100 kit DMD空間光調(diào)制器的領(lǐng)先供應(yīng)商，我們推出的上一代基于DLP Discovery D4100 kit的超高速DMD空間光調(diào)制器V-7001 (1024 x 768)、V-9501 (1920 x 1080) 及V-9601 (1920 x 1200)分別可實(shí)現(xiàn)22,727Hz、17,857Hz 和16,393Hz的圖形刷新速率；這次我們憑借以往積累的開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)，率先推出了圖形刷新速率為12,987Hz的4.0Mpix DMD空間光調(diào)制器V-9001VIS。ViALUX V-9001VIS DMD空間光調(diào)制器的應(yīng)用領(lǐng)域主要包括：3D 打印、光刻、3D掃描、激光打標(biāo)和高光譜成像。在3D打印應(yīng)用中，與基于DLP9500芯片組的V-9501想比，配備4.0Mpix的V-9001VIS節(jié)省了約50%的打印光頭數(shù)量，且支持小于1微米的3D打印精度。12,987Hz的圖形刷新速率、4.Mpix的微鏡數(shù)量及7.6微米的微鏡尺寸為光刻、激光打標(biāo)和3D打印應(yīng)用提供了zui先進(jìn)的光調(diào)制方案。隨著DLP技術(shù)的不斷進(jìn)步，ViALUX DMD空間光調(diào)制器被用在越來(lái)越多的新興應(yīng)用中，如：?jiǎn)蜗袼叵鄼C(jī)、關(guān)聯(lián)成像、超分辨顯微、3D數(shù)字全息、波前傳感及三維全息光鑷等。