- 2025-01-10 10:53:20pvd磁控濺射
- PVD磁控濺射是一種物理氣相沉積技術(shù)，利用磁場(chǎng)控制高能粒子（如氬離子）轟擊靶材，使靶材原子或分子濺射出來并沉積在基片表面形成薄膜。該技術(shù)具備沉積速率高、薄膜質(zhì)量好、可鍍材料廣泛等特點(diǎn)。通過精確控制濺射參數(shù)，如濺射電壓、電流、氣體壓力及靶材與基片的距離，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜成分、結(jié)構(gòu)和性能的精確調(diào)控。PVD磁控濺射廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、航空航天等領(lǐng)域，用于制備各種功能薄膜和涂層。
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