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2025-01-10 17:03:33可控核聚變
可控核聚變是一種利用磁約束或慣性約束等手段,將輕核加熱至極高溫度形成等離子體,并在嚴格控制的條件下實現(xiàn)核聚變反應(yīng),從而釋放出巨大能量的過程。這一過程不產(chǎn)生溫室氣體排放,原料幾乎取之不盡,被視為未來理想的清潔能源解決方案。然而,可控核聚變技術(shù)難度極高,需要實現(xiàn)高溫、高密度等離子體的長時間穩(wěn)定約束,以及有效控制聚變反應(yīng)產(chǎn)生的能量輸出。目前,全球多個國家和科研機構(gòu)正致力于可控核聚變的研究,以期實現(xiàn)這一清潔能源技術(shù)的突破。

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2021-07-07 17:27:27液相法可控制備OVC相的GXCIGS太陽能電池
Cu(In,Ga)Se2(CIGS)是I-III-VI組化合物半導(dǎo)體材料,具備黃銅礦晶體結(jié)構(gòu),以它為吸收層的太陽能電池為CIGS薄膜太陽能電池,具備光電轉(zhuǎn)換效率高、電池穩(wěn)定性好、抗輻照能力強、弱光性好等優(yōu)勢。液相法制備CIGS電池實現(xiàn)了17.3%轉(zhuǎn)換效率,雖然與真空法的23.35%相比仍有一定的差距,但由于液相法制備薄膜具有成本低、原料利用率高、可以實現(xiàn)卷對卷制備等優(yōu)點,仍具有巨大的潛在發(fā)展優(yōu)勢。研究表明,在GXCIGS電池的吸收層表面通常存在一層貧銅組分的有序缺陷化合物(2VCu+InCu,OVC),OVC相可以極大提高CIGS/CdS異質(zhì)結(jié)質(zhì)量,從而提升CIGS器件效率。在液相法制備薄膜中,由于無法實現(xiàn)元素在制備過程中的實時調(diào)控,很難實現(xiàn)CIGS表面OVC的可控形成。近期,河南大學(xué)武四新教授課題組通過分析OVC相的形成機理,設(shè)計了一種在吸收層表面沉積貧銅CIGS化合物的方式,利用在硒化成膜過程中Cu元素的擴散,實現(xiàn)CIGS表面OVC的制備。通過控制硒化溫度以及頂層和體相前驅(qū)體薄膜的Cu/(In+Ga)化學(xué)計量,可以實現(xiàn)Cu(In,Ga)Se2表面OVC相的可控制備(圖1)。    圖1. OVC相制備過程示意圖圖2. CIGS器件的能帶結(jié)構(gòu)示意圖通過測試分析,武四新教授課題組發(fā)現(xiàn)表面OVC相提升CIGS電池效率的原因主要來源于以下幾點:(1)OVC相使CIGS表面的價帶能級位置向下移動,形成空穴往緩沖層傳輸?shù)膭輭?,YZ載流子在CIGS/CdS的復(fù)合。(2)OVC相的形成可以有效降低界面的缺陷濃度。(3)OVC相可以促進載流子的分離和收集。通過優(yōu)化OVC相含量,制備出了16.39%效率的CIGS太陽能電池,本研究工作對進一步提升液相法CIGS太陽能電池的效率提供了新的研究思路和技術(shù)手段。圖3  7種OVC結(jié)構(gòu)的拉曼光譜、J-V曲線和FF數(shù)圖4 有/無OVC結(jié)構(gòu)CIGS器件的Cu元素TOF-SIMS剖面、EQE曲線、USP光譜圖5 有/無OVC結(jié)構(gòu)CIGS器件在不同溫度下暗態(tài)J-V曲線文章信息這一成果以“Controllable Formation of Ordered Vacancy Compound for High Efficiency Solution Processed Cu(In,Ga)Se2 Solar Cells”為題發(fā)表在Advanced functional materials上。河南大學(xué)趙云海為論文DY作者,武四新教授和袁勝杰博士為論文通訊作者文章鏈接https://dx.doi.org/10.1021/acs.analchem.0c04399本研究采用的是北京卓立漢光儀器有限公司SolarIV系列 太陽能電池伏安特性測量系統(tǒng),如需了解該產(chǎn)品,歡迎咨詢我司。河南大學(xué)武四新教授課題組簡介河南大學(xué)武四新教授課題組名稱:光電功能材料以及太陽能薄膜電池。課題組主要從事光電功能的設(shè)計、制備及光伏性能的研究,希望能改善薄膜太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。課題組期望通過對銅基薄膜太陽能電池各部分組件先進工藝和關(guān)鍵技術(shù)的探索和突破(薄膜微結(jié)構(gòu)設(shè)計、缺陷態(tài)調(diào)控、表/界面鈍化、能帶結(jié)構(gòu)優(yōu)化以及微觀動力學(xué)研究等方面),ZZ開發(fā)出具有高結(jié)晶質(zhì)量吸收層體相材料和優(yōu)良電學(xué)性能接觸界面的GXCZTSSe以及CIGS光伏器件并豐富其應(yīng)用領(lǐng)域。截止目前,本課題組已承擔(dān)了各類項目10余項,其中,包括,國家自然科學(xué)基金、教育部新世紀優(yōu)秀人才支持計劃、教育部科學(xué)技術(shù)ZD項目、人事部歸國留學(xué)人員 擇優(yōu)支持計劃項目、河南省科技廳基礎(chǔ)與前沿ZD項目、河南省高校知識創(chuàng)新工程支持計劃等,在國內(nèi)外著名學(xué)術(shù)期刊Energy Environ. Sci.,Adv. Funct. Mater.,Chem. Mater.以及J. Mater. Chem. A等發(fā)表學(xué)術(shù)論文50余篇。免責(zé)說明北京卓立漢光儀器有限公司公眾號所發(fā)布內(nèi)容(含圖片)來源于原作者提供或原文授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章版權(quán)、數(shù)據(jù)及所述觀點歸原作者原出處所有,北京卓立漢光儀器有限公司發(fā)布及轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息及用于網(wǎng)絡(luò)分享。如果您認為本文存在侵權(quán)之處,請與我們聯(lián)系,會及時處理。我們力求數(shù)據(jù)嚴謹準(zhǔn)確,如有任何疑問,敬請讀者不吝賜教。我們也熱忱歡迎您投稿并發(fā)表您的觀點和見解。 
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2020-07-15 10:49:24NTT——費米能級可控勢壘(FMB)二極管
費米能級可控勢壘(FMB)二極管是一種基于InP/InGaAs異質(zhì)結(jié)構(gòu)的超低噪聲THz探測器。FMB二極管用InGaAs/ InP異質(zhì)界面(InP勢壘~ 100mev)代替肖特基勢壘二極管(SBD)中的金屬/半導(dǎo)體界面。這種低的勢壘高度可提供低的二極管差分電阻(Rd),并在二極管和寬帶蝴蝶結(jié)型天線之間提供良好的阻抗匹配。      產(chǎn)品特點? 超低噪聲等效功率(NEP)?  高電壓和電流靈敏度?  零偏置電壓操作?  常溫操作?  自互補蝴蝶結(jié)型天線?  集成準(zhǔn)光學(xué)探測器       具體參數(shù)外形尺寸FMB二極管核心概念H.Ito et. al., Jpn. J. Appl. Phys., 56(1), pp. 014101-1-014101-7, 2017異質(zhì)勢壘結(jié)構(gòu)由n-InGaAs,未摻雜的InP和n-InP層組成。根據(jù)載流子密度,高摻雜n-InGaAs中的費米能級可以位于導(dǎo)帶邊緣以上(稱為“帶填充效應(yīng)”)?;谠撎卣鳜F(xiàn)象,可以將InP / InGaAs異質(zhì)界面處的勢壘高度(?Bn)降低至100meV以下。由于通過如此小的勢壘高度實現(xiàn)了低差分電阻,因此集成了寬帶扇形90°蝴蝶結(jié)型天線的FMB二極管可產(chǎn)生約5.0 pW / sqrt(Hz)的良好噪聲等效功率。平方律檢波H.Ito et.al.,Jpn.J.Appl.Phys.,56(1),pp.014101-1-014101-7,2017IOD-FMB-18001模塊非常適合應(yīng)用于超低噪聲的平方律檢波。所獲得的電壓靈敏度在300 GHz時高達2MV/W,在1THz時高達0.2MV/W。上圖顯示了IOD-FMB-18001的輸入功率和輸出電壓之間的關(guān)系。300GHz的動態(tài)范圍超過100dB(105)。噪聲等效功率(NEP)估計在300GHz時低至3.0pW/sqrt(Hz),在1THz時低至33pW/sqrt(Hz)。光外差探測H.Ito et. al., Electron. Lett., 54(18), pp.1080-1082, 2018外差檢測方案是實現(xiàn)低噪聲測量最有用的技術(shù)。IOD-FMB-19001專為外差檢測而設(shè)計,是帶有寬帶跨阻放大器(TIA)的準(zhǔn)光學(xué)FMB二極管模塊。該模塊在平方律檢波模式下在300GHz時表現(xiàn)出約21kV/W的差分電壓靈敏度,在外差檢測模式下顯示出約11GHz的IF帶寬。上圖顯示了300GHz附近NEP與LO功率之間的關(guān)系。此處獲得的ZDNEP約為1.1×10-18W/Hz,LO功率僅為6μW。
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2018-11-30 17:51:18可控式單向閥
有沒有可調(diào)式電磁閥的?就是我需要控制閥前壓力大于某一個壓力時閥門開啟,降壓到這個壓力時,閥門關(guān)閉,并且可以用電控制閥門工作。
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2018-12-11 14:50:51磁約束核聚變的約束形態(tài)
 
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2019-08-19 17:22:51如何使用Elveflow的MUX閥執(zhí)行可控的藥物切換?
本應(yīng)用介紹了如何使用Elveflow MUX流量開關(guān)閥在化學(xué)或生物環(huán)境(藥物篩選或細胞培養(yǎng))上輕松執(zhí)行可控的藥物切換,如下圖所示。對于灌注室中的藥物切換或一個入口的微流體芯片,請參閱我們的 微流控灌注套裝(http://m.sdczts.cn/zt10926/article_2462.html)。(1)Elveflow MUX流量開關(guān)閥(2)Elveflow壓力和流量控制器OB1(3)樣品池(小型、中型和大型微流體樣品池),每個培養(yǎng)基樣品使用一個樣品池。(4)用于實驗裝置連接的微流體導(dǎo)管(5)微流體配件和連接器(6)微流體器件(三叉口型微流控芯片)本實驗中使用的軟件版本是Elveflow智能界面軟件ESI V2版。下圖是本應(yīng)用實驗的微流體裝置圖盡可能避免使用軟性導(dǎo)管如Tygon管,因為軟性導(dǎo)管會增加系統(tǒng)的響應(yīng)時間。使用Elveflow智能界面軟件ESI執(zhí)行可控的藥物切換。在開始實驗之前進行泄露測試并去除任何氣泡,以確保良好的流量調(diào)節(jié)。了解哪種配件Z適合您的需求是邁向成功的diyi步。Step1-把MUX和OB1壓力控制器連接到電腦上,然后在電腦上打開Elveflow智能界面軟件ESI。Step2-選擇OB1(示例案例中的“OB1 MixO1”)并為每種藥物和可控介質(zhì)(control medium)設(shè)置以mbar為單位的初始所需壓力值。在我們設(shè)置的示例案例中:Channel 2(control medium):100 mbar(通道的)通過單擊“保存配置”菜單選項,可以保存此配置以供后續(xù)使用。可以通過直接編輯窗口左側(cè)的通道名稱顯示來更改通道的名稱。Step 4-單擊“See Instruments”按鈕并選擇MUX(示例中的“MUX-P-00”),單擊“advanced”按鈕并雙擊一個group以便打開其配置面板。Step 5-在“Selected valves”上,選擇將參與實驗的三個閥門。Step 7-在MUX序列的diyi步,選擇控制藥物注射的閥門(示例中的閥門A1和A3)。在MUX序列的第二步,選擇控制可控介質(zhì)注入的閥門(示例中為閥門A2)。Z后,設(shè)置每個步驟的持續(xù)時間(在示例情況下為5秒)。Step 9-在project window中,單擊“Add step to project”按鈕并選擇“Wait”按鈕以便設(shè)置執(zhí)行上面列出的儀器配置的時間長度(示例情況下為10秒)。Step 10-返回OB1主窗口,為每種藥物和可控培養(yǎng)基設(shè)置下一個所需要的壓力值,單位為mbar。在我們設(shè)置的示例案例中:Channel 2(control medium):100 mbar(通道的)Step 11-為了將這些參數(shù)添加到scheduler中,單擊“Add step to scheduler”按鈕。Step 13-一旦完成序列的配置,我們將配置一個循環(huán),以便從1到無線重復(fù)所需的次數(shù)。在project window中,單擊“add step to project”按鈕,然后選擇“Go to”操作。Step 14-選擇環(huán)路開始的步驟(示例中的Step 1)和循環(huán)重復(fù)的次數(shù)(在示例情況下為5次)。Step 15-Z后,按“Start”按鈕執(zhí)行預(yù)設(shè)的序列及其重復(fù)步驟。恭喜您!您已使用Elveflow的OB1壓力控制器和MUX流量開關(guān)閥實現(xiàn)了受控藥物的切換操作。
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