- 2025-03-07 19:32:00魔技納米
- 魔技納米科技有限公司是一家在三維微納制造領(lǐng)域集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)于一體的高新技術(shù)企業(yè)。公司的核心研發(fā)團隊擁有超過十年的設(shè)備研發(fā)經(jīng)驗,專注于生物醫(yī)療、光電通信、新材料、微納器件等多個產(chǎn)業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域,致力于開發(fā)具有自主知識產(chǎn)權(quán)的商用納米級三維激光光刻直寫制造系統(tǒng)。
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- 展位號:4B012
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魔技納米文章
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- 魔技納米芯片互聯(lián)三維激光直寫設(shè)備PROME-Photonic特點
- 通過多光束耦合、三維定位與高穩(wěn)定光路,系統(tǒng)支持對芯片互聯(lián)通道、光學耦合結(jié)構(gòu)以及微納米通道的直接寫入與定制化互聯(lián)設(shè)計,提升樣品從原型到樣態(tài)化生產(chǎn)的轉(zhuǎn)化效率。設(shè)備在軟硬件一體化方面進行了優(yōu)化,具備高重復(fù)性、低偏差與良好可維護性的綜合特性。
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- 魔技納米超快激光微納加工中心 MJ-Works特點
- 系統(tǒng)以高能量脈沖、極短脈寬和高穩(wěn)定性為驅(qū)動,輔以封閉腔體、精密運動平臺與智能工藝軟件,為微米級至亞微米級加工提供高重復(fù)性、低熱擴散的加工路徑。該中心適用于微孔鉆孔、表面紋理、材料改性、薄膜加工、光學微結(jié)構(gòu)等多領(lǐng)域應(yīng)用,強調(diào)工藝可重復(fù)、參數(shù)可追溯、接口可自動化。
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- 魔技納米芯片互聯(lián)三維激光直寫設(shè)備PROME-Photonic參數(shù)
- 本篇聚焦該系列的核心參數(shù)、可選型號及其在實驗室、科研與工業(yè)場景中的應(yīng)用要點,提供清晰的數(shù)據(jù)化信息,便于快速選型與方案落地。
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- 魔技納米超快激光微納加工中心 MJ-Works參數(shù)
- 本文以產(chǎn)品知識普及為主,整理出各型號的核心參數(shù)、功能特點及適用范圍,幫助實驗室和企業(yè)在選型、采購及工藝落地時快速對比。
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- 魔技納米芯片互聯(lián)三維激光直寫設(shè)備PROME-Photonic應(yīng)用領(lǐng)域
- 魔技(Magtech)作為領(lǐng)先的科技公司,推出了其創(chuàng)新型產(chǎn)品——納米芯片互聯(lián)三維激光直寫設(shè)備PROME-Photonic。該設(shè)備通過三維激光直寫技術(shù),能夠在納米級精度上進行芯片互聯(lián)和微結(jié)構(gòu)加工,滿足科研、實驗室、工業(yè)制造等多個領(lǐng)域的高端需求。本文將詳細介紹PROME-Photonic的技術(shù)特點、應(yīng)用領(lǐng)域以及設(shè)備參數(shù),幫助用戶更好地理解該產(chǎn)品的優(yōu)勢和使用場景。
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魔技納米問答
- 2022-04-24 16:42:23納米多孔氧化鋁
- 本品為化學法合成的白色球形粉末,無重金屬、 無放射性元素。物理指標①晶相 γ相②AI2O3含量 ≥99.9③ 介孔 0.38④ 原晶粒度 50-60納米化學指標①本品用于噴墨打印紙的涂層, 為紙張?zhí)岣吖鉂?。②増加涂料的耐磨性,具有助流?提高上粉率、防結(jié)塊等特點應(yīng)用范圍①導(dǎo)熱硅膠②電子灌封膠③粉末涂料公眾號搜索粉體圈,聯(lián)系報價。聯(lián)系方式:400-869-9320轉(zhuǎn)8990更多信息進入店鋪查看:https://www.360powder.com/shop.html?shop_id=1727
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- 2023-04-20 09:37:22BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta
- BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀——背向 + 90°散射粒度 + Zeta 電位三合一型儀 器 簡 介BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及Zeta電位分析儀是BeNano 90+BeNano 180+BeNano Zeta 三合一的頂 級光學檢測系統(tǒng)。該系統(tǒng)中集成了背向 +90°動態(tài)光散射 DLS、電泳光散射 ELS和靜態(tài)光散射技術(shù) SLS,可以準確的檢測顆粒的粒徑及粒徑分布,Zeta 電位,高分子和蛋白體系的分子量信息等參數(shù),可廣泛的應(yīng)用于化學、化工、生物、制藥、食品、材料等領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究和質(zhì)量分析與控制。指標與性能Index&performance粒徑測試原理:動態(tài)光散射技術(shù)粒徑范圍:0.3 nm – 15 μm樣品量:3 μL - 1 mL檢測角度:173°+90°+12°分析算法:Cumulants、通用模式、CONTIN、NNLSZeta電位測試原理:相位分析光散射技術(shù)檢測角度:12°Zeta范圍:無實際限制電泳遷移率范圍:> ±20 μ.cm/V.s電導(dǎo)率范圍:0 - 260 mS/cmZeta測試粒徑范圍:2 nm – 110 μm分子量測試分子量范圍:342 Da – 2 x 107 Da微流變測試頻率范圍:0.2 – 1.3 x 107 rad/s測試能力:均方位移、復(fù)數(shù)模量、彈性模量、粘性模量、蠕變?nèi)崃空扯群驼酃饴蕼y試粘度范圍:0.01 cp – 100 cp折光率范圍:1.3-1.6趨勢測試模式:時間和溫度系統(tǒng)參數(shù)溫控范圍:-15° C - 110° C+/- 0.1°C冷凝控制:干燥空氣或者氮氣標準激光光源:50 mW 高性能固體激光器, 671 nm相關(guān)器:最快25 ns采樣,最多 4000 通道,1011 動態(tài)線性范圍檢測器:APD (高性能雪崩光電二極管)光強控制:0.0001% - 100%,手動或自動軟件中文和英文符合21CFR Part 11原理圖儀器檢測檢測參數(shù)顆粒體系的光強、體積、面積和數(shù)量分布顆粒體系的 Zeta 電位及其分布分子量分布系數(shù) PD.I擴散系數(shù) D流體力學直徑 D H顆粒間相互作用力因子 k D溶液粘度檢測技術(shù)動態(tài)光散射電泳光散射靜態(tài)光散射
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- 2023-04-25 09:25:28Nicomp? 在線粒度儀用于納米藥物粒度監(jiān)測
- 在過去的幾十年中,納米醫(yī)學研究發(fā)展迅速,大部分重 點放在藥物輸送上。納米顆粒具有降低毒性和副作用等優(yōu)點,控制這些納米粒子的大小至關(guān)重要。Nicomp系列的大部分粒度測量是在實驗室進行的,但現(xiàn)在已經(jīng)有在生產(chǎn)線中進行粒度測量的產(chǎn)品——Nicomp? 在線粒度儀。本應(yīng)用說明介紹了 Bind Therapeutics(輝瑞于 2016 年收購的資產(chǎn))開展的開創(chuàng)性工作,將Nicomp? 在線動態(tài)光散射測量納入其 Accurins? 納米粒子候選藥物的制造過程。引言BIND Therapeutics, Inc. 是一家生物制藥公司,開發(fā)稱為 Accurins(見圖 1)的靶向納米粒子技術(shù),用于治 療癌癥和其他具有大量未滿足醫(yī)療需求的嚴重疾病。通過結(jié)合控釋聚合物系統(tǒng)、靶向和遞送大量治 療藥物的能力,Bind 正在為一類新型靶向治 療開發(fā)一個納米技術(shù)支持的平臺。圖 1. BIND Accurins 技術(shù)Accurins 通常是 80-120 nm 的顆粒,由具有活性藥物成分 (API) 核心的聚丙交酯聚乙二醇 (PLA-PEG) 共聚物組成。共聚物的 PLA 部分為包封疏水性 API 提供了一個可生物降解的、相對疏水的核心。聚合物的親水性聚乙二醇酯部分期望覆蓋在顆粒的表面,使它們能夠逃避網(wǎng)狀內(nèi)皮系統(tǒng)(RES)吞噬細胞的調(diào)理和從血液循環(huán)中移除。80-120 nm 的大小非常適合通過滲漏的脈管系統(tǒng)(增強的通透性和滯留性,或 EPR 效應(yīng))積聚在腫瘤部位,同時避免被脾 臟過濾。80-120 nm也是適合所需理化特性的尺寸,可保持高載藥量、控制釋放和加工能力,包括最 終無菌過濾和凍干的能力。Accurins 是通過納米乳液工藝制造的,該工藝使用高壓均化來剪切分散在不混溶水相中的有機液滴。控制液滴尺寸對于確定藥品的最 終尺寸分布十分重要。許多因素會影響液滴大小,包括原材料屬性、顆粒配方、均質(zhì)機機械性能、水相組成和工藝參數(shù)。該批次開始生產(chǎn)后,均質(zhì)器壓力是最容易控制來調(diào)節(jié)尺寸的過程。BIND 014 是一種 Accurin,開發(fā)用于將多西紫杉醇遞送至實體瘤和癌細胞,表達前列腺特異性膜抗原 (PSMA)。這里描述的所有實驗都是針對 BIND-014 Accurins。在線動態(tài)光散射動態(tài)光散射 (DLS) 可用于測量亞微米顆粒尺寸,DLS 的工作原理是小顆粒通過布朗運動在流體中隨機移動。系統(tǒng)檢測到布朗運動引起的平移擴散,然后用于求解 Stokes-Einstein 方程以確定粒子大?。ǚ匠?1)。其中: D = 擴散系數(shù) kB = 波爾茲曼常數(shù) η = 粘度 R = 粒子半徑Nicomp DLS 已在實驗室中成功使用數(shù)十年,Nicomp?在線粒度儀也已有了實際應(yīng)用。Entegris (Nicomp粒度儀生產(chǎn)商)現(xiàn)在已在客戶制造業(yè)務(wù)中安裝了多個系統(tǒng),用于在生產(chǎn)運行期間跟蹤顆粒大小。在線系統(tǒng)從過程中取出樣品,稀釋樣品以避免多重散射效應(yīng),測量樣品,然后重復(fù)該過程(見圖 2)。完整的測量周期約為 2 分鐘,為監(jiān)控制造操作的工藝工程師提供連續(xù)的粒度信息。圖 2. DLS 系統(tǒng)簡圖,帶自動稀釋實驗細節(jié)Entegris Nicomp?在線 DLS 系統(tǒng)安裝在高壓均質(zhì)器的下游,其設(shè)置使其能夠每約 2 分鐘從工藝流中獲取乳液樣品。設(shè)置 DLS 的射流系統(tǒng),使乳液樣品以與下游 Accurin 過程類似的方式在水中稀釋,并在流通池中自動稀釋至產(chǎn)生理想光散射強度(~300 kCt/秒)的濃度。此處描述了三個批次: 一個批次由 11 個過程樣品和可變壓力制成,在整個均質(zhì)化過程中,以建立壓力大小相關(guān)性。在工藝條件略有不同的情況下生產(chǎn)的批次導(dǎo)致前兩個工藝樣品的尺寸略小于目標尺寸。調(diào)整壓力后,尺寸恢復(fù)到最 后四個樣品的目標值。臨床規(guī)模開發(fā)批次在以約 5 分鐘的間隔采集的八個樣本期間展示穩(wěn)定的尺寸讀數(shù),確認壓力設(shè)定點是合適的。結(jié)果第 一個實驗(圖 3 和圖 4)的結(jié)果顯示了我們預(yù)期的壓力與尺寸的關(guān)系。從趨勢線曲線擬合可以看出,尺寸對壓力的響應(yīng)為每 1,000 psig 約 9 nm。圖 3. 均質(zhì)機壓力與粒徑圖 4. 壓力與平均尺寸的相關(guān)性第二個實驗的初始尺寸讀數(shù)低于目標尺寸約 5–7 nm,因此進行了壓力調(diào)整(降低 1,000 psig)。在稍后的時間點,平均粒徑按預(yù)期增加了 ~5–10 nm。圖 5. 均質(zhì)器壓力與粒徑最后一組數(shù)據(jù)來自使用在線分級器的第 一個臨床規(guī)模實驗。盡管 BIND 有程序在尺寸超出我們的目標范圍時根據(jù)需要調(diào)整壓力,但沒有必要這樣做。所有八次測量都非常接近 100 nm 目標。圖 6. 批處理運行期間的平均大小結(jié)論Nicomp? 在線 DLS 系統(tǒng)被集成到 Accurin 制造過程中,用于確定最佳條件并確保在整個批次中粒徑在所需規(guī)格范圍內(nèi)。進行在線測量可減少進行工藝更改與獲取評估更改是否產(chǎn)生預(yù)期效果所需的粒度數(shù)據(jù)之間的滯后時間。此外,與將樣品帶到實驗室進行離線批量分析相比,在線分析可以更好地監(jiān)控產(chǎn)品質(zhì)量。在線 DLS 是一種有價值的過程分析技術(shù)。
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- 2022-07-14 15:06:51淺談掃描俄歇納米探針
- 簡介 掃描俄歇納米探針,又稱俄歇電子能譜(Auger Electron Spectroscopy,簡稱AES)是一種表面科學和材料科學的分析技術(shù)。根據(jù)分析俄歇電子的基本特性得到材料表面元素成分(部分化學態(tài))定性或定量信息??梢詫{米級形貌進行觀察和成分表征。近年來,隨著超高真空和能譜檢測技術(shù)的發(fā)展,掃描俄歇納米探針作為一種極為有效的表面分析工具,為探索和研究表面現(xiàn)象的理論和工藝問題,做出了巨大貢獻,日益受到科研工作者的普遍重視。俄歇電子能譜常常應(yīng)用在包括半導(dǎo)體芯片成分表征等方向發(fā)展歷史 近年來,固體表面分析方法獲得了迅速的發(fā)展,它是目前分析化學領(lǐng)域中最活躍的分支之一。它的發(fā)展與催化研究、材料科學和微型電子器件研制等有關(guān)領(lǐng)域內(nèi)迫切需要了解各種固體表面現(xiàn)象密切相關(guān)。各種表面分析方法的建立又為這些領(lǐng)域的研究創(chuàng)造了很有利的條件。在表面組分分析方法中,除化學分析用光電子能譜以外,俄歇電子能譜是最重要的一種。目前它已廣泛地應(yīng)用于化學、物理、半導(dǎo)體、電子、冶金等有關(guān)研究領(lǐng)域中。 俄歇現(xiàn)象于1925年由P.Auger發(fā)現(xiàn)。28 年以后,J.J.Lander從二次電子能量分布曲線中第一次辨認出俄歇電子譜線, 但是由于俄歇電子譜線強度低,它常常被淹沒在非彈性散射電子的背景中,所以檢測它比較困難。 1968年,L.A.Harris 提出了一種“相敏檢測”方法,大大改善了信噪比,使俄歇信號的檢測成為可能。以后隨著能量分析器的完善,使俄歇譜儀達到了可以實用的階段。 1969年圓筒形電子能量分析器應(yīng)用于AES, 進一步提高了分析的速度和靈敏度。 1970年通過掃描細聚焦電子束,實現(xiàn)了表面組分的兩維分布的分析(所得圖像稱俄歇圖),出現(xiàn)了掃描俄歇微探針儀器。 1972年,R.W.Palmberg利用離子濺射,將表面逐層剝離,獲得了元素的深度分析,實現(xiàn)了三維分析。至此,俄歇譜儀的基本格局已經(jīng)確定, AES已迅速地發(fā)展成為強有力的固體表面化學分析方法,開始被廣泛使用?;驹?nbsp; 俄歇電子是由于原子中的電子被激發(fā)而產(chǎn)生的次級電子。當原子內(nèi)殼層的電子被激發(fā)形成一個空穴時,電子從外殼層躍遷到內(nèi)殼層的空穴并釋放出光子能量;這種光子能量被另一個電子吸收,導(dǎo)致其從原子激發(fā)出來。這個被激發(fā)的電子就是俄歇電子。這個過程被稱為俄歇效應(yīng)。Auger electron emission 入射電子束和物質(zhì)作用,可以激發(fā)出原子的內(nèi)層電子。外層電子向內(nèi)層躍遷過程中所釋放的能量,可能以X光的形式放出,即產(chǎn)生特征X射線,也可能又使核外另一電子激發(fā)成為自由電子,這種自由電子就是俄歇電子。對于一個原子來說,激發(fā)態(tài)原子在釋放能量時只能進行一種發(fā)射:特征X射線或俄歇電子。原子序數(shù)大的元素,特征X射線的發(fā)射幾率較大,原子序數(shù)小的元素,俄歇電子發(fā)射幾率較大,當原子序數(shù)為33時,兩種發(fā)射幾率大致相等。因此,俄歇電子能譜適用于輕元素的分析。 如果電子束將某原子K層電子激發(fā)為自由電子,L層電子躍遷到K層,釋放的能量又將L層的另一個電子激發(fā)為俄歇電子,這個俄歇電子就稱為KLL俄歇電子。同樣,LMM俄歇電子是L層電子被激發(fā),M層電子填充到L層,釋放的能量又使另一個M層電子激發(fā)所形成的俄歇電子。 只要測定出俄歇電子的能量,對照現(xiàn)有的俄歇電子能量圖表,即可確定樣品表面的成份。由于一次電子束能量遠高于原子內(nèi)層軌道的能量,可以激發(fā)出多個內(nèi)層電子,會產(chǎn)生多種俄歇躍遷,因此,在俄歇電子能譜圖上會有多組俄歇峰,雖然使定性分析變得復(fù)雜,但依靠多個俄歇峰,會使得定性分析準確度很高,可以進行除氫氦之外的多元素一次定性分析。同時,還可以利用俄歇電子的強度和樣品中原子濃度的線性關(guān)系,進行元素的半定量分析,俄歇電子能譜法是一種靈敏度很高的表面分析方法。其信息深度為5nm以內(nèi),檢出限可達到0.1%atom。是一種很有用的分析方法。系統(tǒng)組成 AES主要由超高真空系統(tǒng)、肖特基場發(fā)射電子槍、CMA同軸式筒鏡能量分析器、五軸樣品臺、離子槍等組成。以ULVAC-PHI的PHI 710舉例,其核心分析能力為25 kV肖特基熱場發(fā)射電子源,與筒鏡式電子能量分析器CMA同軸。伴隨著這一核心技術(shù)是閃爍二次電子探測器、 高性能低電壓浮式氬濺射離子槍、高精度自動的五軸樣品臺和PHI創(chuàng)新的儀器控制和數(shù)據(jù)處理軟件包:SmartSoft AES ? 和 MultiPak ?。并且,目前ULVAC-PHI的PHI 710可以擴展冷脆斷樣品臺、EDS、EBSD、BSE、FIB等技術(shù),深受廣大用戶認可。PHI710激發(fā)源,分析器和探測器結(jié)構(gòu)示意圖: 為滿足當今納米材料的應(yīng)用需求,PHI 710提供了最高穩(wěn)定性的 AES 成像平臺。隔聲罩、 低噪聲電子系統(tǒng)、 穩(wěn)定的樣品臺和可靠的成像匹配軟件可實現(xiàn) AES對納米級形貌特征的成像和采譜。 真正的超高真空(UHV)可保證分析過程中樣品不受污染,可進行明確、準確的表面表征。測試腔室的真空是由差分離子泵和鈦升華泵(TSP)抽氣實現(xiàn)的。肖特基場發(fā)射源有獨立的抽氣系統(tǒng)以確保發(fā)射源壽命。最新的磁懸浮渦輪分子泵技術(shù)用于系統(tǒng)粗抽,樣品引入室抽真空,和差分濺射離子槍抽氣。為了連接其他分析技術(shù),如EBSD、 FIB、 EDS 和BSE,標配是一個多技術(shù)測試腔體。 PHI 710 是由安裝在一個帶有 Microsoft Windows ? 操作系統(tǒng)的專用 PC 里的PHI SmartSoft-AES 儀器操作軟件來控制的。所有PHI電子光譜產(chǎn)品都包括執(zhí)行行業(yè)標準的 PHI MultiPak 數(shù)據(jù)處理軟件用于獲取數(shù)據(jù)的最大信息。710 可應(yīng)用互聯(lián)網(wǎng),使用標準的通信協(xié)議進行遠程操作。AES的應(yīng)用 掃描俄歇納米探針可分析原材料(粉末顆粒,片材等)表面組成,晶粒觀察,金相分布,晶間晶界偏析,又可以分析材料表面缺陷如納米尺度的顆粒物、磨痕、污染、腐蝕、摻雜、吸附等,還具備深度剖析功能表征鈍化層,包覆層,摻雜深度,納米級多層膜層結(jié)構(gòu)等。AES的分析深度4-50 ?,二次電子成像的空間分辨可達 3納米,成分分布像可達8納米,分析材料表面元素組成 (Li ~ U),是真正的納米級表面成分分析設(shè)備。可滿足合金、催化、半導(dǎo)體、能源電池材料、電子器件等材料和產(chǎn)品的分析需求。AES 應(yīng)用的幾種例子,從左到右為半導(dǎo)體FIB-cut,鋰電陰極向陶瓷斷面分析小結(jié)本文小編粗淺的介紹了俄歇電子能譜AES的一些基礎(chǔ)知識,后續(xù)我們還會提供更有價值的知識和信息,希望大家持續(xù)關(guān)注“表面分析家”!
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- 2022-03-02 12:59:25Palas? 重新定義納米測量
- 隨著人類活動對環(huán)境影響的加劇,顆粒物群體逐漸龐大,威脅著生態(tài)環(huán)境和人們的健康。不管是常見的灰蒙蒙的天空,還是不時出現(xiàn)的霧霾天氣,其本質(zhì)正是由無處不在的顆粒污染物造成的。無論是室內(nèi)還是室外,空氣質(zhì)量的評估、治理和改善工作需要可靠的儀器加持。由Palas? 研發(fā)的U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀,集納米測量、操作靈活便捷、監(jiān)測結(jié)果精 準 等諸多優(yōu)點于一身,適用于多種研究場景,可以有效測量和評估空氣污染程度。為監(jiān)測污染物排放和空氣質(zhì)量,研究人員選擇了U-SMPS在港口和機場進行超細顆粒物監(jiān)測。Palas?超細粉塵和納米顆粒監(jiān)測研究人員使用Palas? U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀在港口進行了輪船顆粒物的排放監(jiān)測。得益于U-SMPS直觀的界面和集成數(shù)據(jù)記錄器的獨立設(shè)備,可通過TeamViewer?,Windows等進行遠程控制。大大的方便了研究人員的監(jiān)測進程,從輪船開出的時間開始監(jiān)測,輔以數(shù)據(jù)展示了U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀在顆粒物總濃度納米顆粒物監(jiān)測方面的突出優(yōu)勢。研究人員還在機場進行了超細顆粒物監(jiān)測,監(jiān)測的位置在機場航站樓距離飛機起降跑道400m的位置,在一般監(jiān)控的范圍(可見空中交通)監(jiān)測了平均顆粒物粒徑和顆粒物總濃度。U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀監(jiān)測到的顆粒物活動范圍可追溯。精 準數(shù)據(jù),具備可比性在兩組應(yīng)用案例中,Palas? U-SMPS體現(xiàn)了高尺寸分辨率(120通道/十倍粒徑)的優(yōu)勢,通過使用系統(tǒng)軟件PDAnalyze,一鍵自動保存數(shù)據(jù)無需外部數(shù)據(jù)記錄系統(tǒng)和無需額外同步設(shè)備時間,使顆粒物水平的變化清晰可見。同時可以自動合并粒徑分布圖,得到直觀的數(shù)據(jù)結(jié)果。顆粒物監(jiān)測專家Palas?的納米設(shè)備擁有業(yè)內(nèi)先進的測量技術(shù),市面上單純的光學監(jiān)測只能測量到大于120nm以上的顆粒,而U-SMPS組合尺寸分布為4nm至40,000nm。Palas? U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀可靠的監(jiān)測結(jié)果可與校準中心(TROPOS,萊比錫)媲美。儀器結(jié)合了準確可靠的粒徑分析和計數(shù)功能,可提供靈活監(jiān)測設(shè)備。Palas?智能解決方案和緊密的客戶關(guān)系為傳統(tǒng)粒徑分析市場打開大門。Palas? U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀產(chǎn)品優(yōu)勢粒徑分布從4nm到1,200nm連續(xù)和快速掃描測量原理高分辨率,最多256通道(128通道/十倍粒徑)適用于高達108 顆粒/cm3的濃度可連接其他制造商的DMA和納米粒子計數(shù)器圖形顯示測量值直觀操作,使用7英寸觸摸屏和GUI集成數(shù)據(jù)記錄儀支持多種接口和遠程訪問低維護功能可靠減少您的運營費用應(yīng)用領(lǐng)域過濾測試氣溶膠研究環(huán)境與氣候研究吸入實驗室內(nèi)和工作場所測量
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