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2025-01-10 10:49:50分子篩原理及應(yīng)用實(shí)驗(yàn): 分子篩原理及應(yīng)用實(shí)驗(yàn)主要探究分子篩的篩分效應(yīng)和吸附性能。分子篩通過其內(nèi)部的孔道結(jié)構(gòu)，根據(jù)分子大小和形狀進(jìn)行篩分，同時表現(xiàn)出優(yōu)異的吸附能力。實(shí)驗(yàn)方法通常包括分子篩的合成、表征以及在不同條件下的吸附性能測試。分子篩廣泛應(yīng)用于氣體分離、催化、干燥和凈化等領(lǐng)域。您是否有關(guān)于科學(xué)儀器的具體需求或問題，特別是在分子篩材料、實(shí)驗(yàn)設(shè)備或相關(guān)研究領(lǐng)域？

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【培訓(xùn)班】6月8日-9日分子篩原理及應(yīng)用實(shí)驗(yàn)

【培訓(xùn)班】6月8日-9日分子篩原理及應(yīng)用實(shí)驗(yàn)

蘇州賽譜儀器有限公司 394
2023-06-03
分子篩原理及應(yīng)用實(shí)驗(yàn)

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分子篩原理及應(yīng)用實(shí)驗(yàn)問答

2022-11-02 23:50:36兆聲清洗技術(shù)原理、優(yōu)勢及應(yīng)用: 1 兆聲清洗技術(shù)背景Schwartzman等人，1993在SC1、SC2清洗時使用了兆頻超聲技術(shù)，獲得前所未有的清洗效果，使得該方法在清洗工藝中被廣泛采用，也引發(fā)了對超聲波增強(qiáng)清洗效果的規(guī)律與機(jī)理的研究。1995年Busnaina的研究表明，兆頻超聲波去除粒子的能力與溶液的組成、粒子的大小、超聲波的功率及處理時間有關(guān)。1997年Olim發(fā)現(xiàn)兆頻超聲去除粒子的效率與粒子直徑的立方成正比，并由此推斷兆頻超聲無法去除0.1μm以下的粒子。但是，兆聲波清洗拋光片可去掉晶片表面上＜0.2μm的粒子，起到超聲波起不到的作用。這種方法能同時起到機(jī)械擦片和化學(xué)清洗兩種方法的作用。兆聲波清洗方法已成為拋光片清洗的一種有效方法。但是，隨著頻率升高，聲傳播的效率會降低，所以兆聲波清洗技術(shù)效果并不是頻率越高越好。目前，一般用的頻率范圍是（700～1000）kHz。2 兆聲波清洗原理簡介聲能在液體內(nèi)傳播時，液體會沿聲傳播的方向運(yùn)動，形成聲學(xué)流（Acousticstreaming），聲學(xué)流是由聲波生產(chǎn)的力和液體的聲學(xué)阻力以及其他的氣泡阻力形成的液體的流動的效果，兆聲波清洗就是利用聲能產(chǎn)生的液體流動來去除硅片表面的污染物，其原理見圖1。兆聲波清洗是由高頻（700～1000kHz）的波長短（1.5μm左右）的高能聲波推動溶液做加速運(yùn)動，使溶液以加速的流體形式連續(xù)沖擊硅片表面，使硅片表面的顆粒等污染物離開硅片進(jìn)入溶液中，達(dá)到去除污染物的目的。隨著聲能的增高，表面張力會下降，這可改善浸潤效果及小顆粒的浸潤。而且，能量越高，聲學(xué)流的速度越快，硅片表面被帶走的顆粒也隨之增多反應(yīng)速率也會升高，這可降低反應(yīng)時間，同時，也可以降低化學(xué)液的濃度。隨著頻率升高，空洞現(xiàn)象的閥值會升高，所以兆聲不會像超聲一樣會產(chǎn)生氣泡而損傷硅片表面。而根據(jù)超聲頻率的高低對應(yīng)的去除污染物顆粒大小的能力，選用的頻率見表1。3 兆聲波清洗技術(shù)的特點(diǎn)（1）美國VEＲTEQ公司的M.Olesen.Y.Fan等人研究發(fā)現(xiàn)，兆聲技術(shù)有如下特點(diǎn)。能大大降低邊界層的厚度，使其具有清除深亞微米顆粒的能力，可滿足現(xiàn)行工藝以及0.1μm（線寬）技術(shù)對清洗工藝的需求。有兆聲時邊界厚度的對比（見圖2）。（2）可以極大的提高清洗效率，從圖3有無兆聲時的清洗效率對比圖中可以看到，當(dāng)兆聲關(guān)閉時，用30s的時間清洗效率只能達(dá)到20%，有兆聲時，只需10s的時間清洗效率就可達(dá)到99.99%。（3）由于兆聲波清洗可以使用稀釋倍數(shù)大的化學(xué)液，從而大大減少了化學(xué)藥品的用量和消耗，降低了清洗工序的工藝成本，有效減少了化學(xué)液的污染，保護(hù)環(huán)境。圖3是在極低濃度的化學(xué)液中有無兆聲的清洗效果對比圖。由于兆聲波清洗具備以上諸多優(yōu)點(diǎn)，因此使得兆聲波清洗很快成為硅片清洗行業(yè)中廣泛應(yīng)用于去除微細(xì)顆粒的重要手段。4 兆聲波清洗技術(shù)在清洗設(shè)備中的應(yīng)用結(jié)合常規(guī)的濕法清洗工藝開發(fā)出適合相關(guān)工藝階段的兆聲清洗設(shè)備，按照這些設(shè)備的不同結(jié)構(gòu)，大體可分為兩類，一類是融匯在濕法清洗機(jī)兆聲清洗槽或兆聲漂洗槽，它們作為設(shè)備的一部分，只完成單個的清洗或漂洗過程。另一類則是以獨(dú)立的設(shè)備形式出現(xiàn)。這就是兆聲清洗機(jī)，該種設(shè)備通常配備兩個槽體，一個清洗槽和一個沖洗槽，清洗槽是在兆聲環(huán)境下用化學(xué)液來去除硅片表面的微細(xì)顆粒及化學(xué)污染物等，沖洗槽則是對清洗完的硅片用去離子水進(jìn)行沖洗，從而達(dá)到生產(chǎn)需要的潔凈度。但是由于兆聲傳播是一種介質(zhì)傳播，聲音傳播中的能量會轉(zhuǎn)化成介質(zhì)的動能，因此在使用兆聲清洗的同時會產(chǎn)生兆聲能量的衰減。導(dǎo)致能量衰減的因素，首先是兆波的反射，如圖4所示。兆聲能量的衰減可通過以下公式計(jì)算：衰減系數(shù)γ可表示為：γ=γ吸收+γ分散；γ分散在液體中，不在計(jì)算內(nèi)。在水液體中，γ吸收系數(shù)（dB/m）=0.2F2（MHz）。由此計(jì)算可得，在頻率為950kHz時，衰減度約為0.002dB/m；在頻率為40kHz時，衰減度約為0.000003dB/m，在水液體中，兆聲波衰減約為低頻超聲波衰減的1000倍，如圖5所示。因此，在兆聲清洗中，液位不能超過500mm。而在低頻超聲波中，超聲波能量可傳至（1.5～2）m高。安裝時，石英缸底部有一定傾斜角度更利于高頻兆聲波的傳播，由圖7中角度與聲壓的關(guān)系可知，當(dāng)θ=2°時，最有利于兆聲波的傳播。由于聲波傳播時一種介質(zhì)傳播，因此在不同的頻率下石英缸作為傳遞介質(zhì)，它的厚度也對兆聲的傳播有一定影響。通過下面公式可以計(jì)算出不同介質(zhì)中聲波的傳播率D：從圖8可見，當(dāng)厚度t=3mm時，兆聲波在石英中具備更好的傳播率。兆聲發(fā)生器在石英循環(huán)溢流槽中的安裝原理見圖9。5 兆聲清洗技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域由于兆聲波能去除硅片表面的微小顆粒，并且不會對硅片表面造成損傷，近幾年兆聲波清洗被大量的應(yīng)用在清洗工藝中。兆聲波用在SC－1中，可提高去除顆粒尤其是小顆粒的效果；用在DHF，臭氧水、純水中都能起到增強(qiáng)清洗效果的作用。目前兆聲清洗技術(shù)被廣泛應(yīng)用于液晶、手機(jī)鏡片、光學(xué)器件照相機(jī)鏡頭制造業(yè)，汽車、摩托車制造業(yè)，電子、微電子、電子電器元器件制造業(yè)，五金業(yè)、機(jī)械的零件業(yè)，航天、航空清洗精密零部件業(yè)，鐘表、眼境、珠寶制造業(yè)，家電產(chǎn)品制造業(yè)，電鍍業(yè)，鐵路機(jī)車造業(yè)等各個行業(yè)。（轉(zhuǎn)）具體應(yīng)用涉及：帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗CMP處理后的晶圓片清洗晶圓框架上的切粒芯片清洗等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗帶保護(hù)膜的分劃版清洗掩模版空白部位或接觸部位清洗X射線及極紫外掩模版清洗光學(xué)鏡頭清洗ITO涂覆的顯示面板清洗兆聲輔助的剝離工藝

2024-12-19 16:00:53極譜儀內(nèi)標(biāo)法應(yīng)用的是什么原理？如何操作？: 極譜儀是一種用于電化學(xué)分析的儀器，廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測、食品檢測、藥物分析等領(lǐng)域。為了提高分析的準(zhǔn)確性和可靠性，極譜儀常常采用內(nèi)標(biāo)方法，這一技術(shù)可以有效地減少實(shí)驗(yàn)中的系統(tǒng)誤差。本文將介紹極譜儀內(nèi)標(biāo)方法的基本原理、應(yīng)用以及其在實(shí)際分析中的優(yōu)勢，幫助讀者更好地理解如何通過內(nèi)標(biāo)方法提升極譜分析的精度。內(nèi)標(biāo)法的基本概念內(nèi)標(biāo)法是指在樣品中加入已知濃度且在測量過程中與目標(biāo)物質(zhì)具有相似電化學(xué)行為的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。通過測量目標(biāo)物質(zhì)和內(nèi)標(biāo)物質(zhì)的信號強(qiáng)度比值，可以消除由于樣品量、儀器波動等因素造成的誤差。這種方法特別適用于樣品中分析成分含量低、干擾較大的情況，能夠有效提高數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確度。在極譜儀中，內(nèi)標(biāo)物質(zhì)的選擇通?；谄渑c目標(biāo)物質(zhì)相似的氧還原特性，即它們在相似的電位范圍內(nèi)發(fā)生還原或氧化反應(yīng)。內(nèi)標(biāo)物質(zhì)的濃度需要適當(dāng)，不宜過高或過低，以保證測量結(jié)果的可靠性。極譜儀內(nèi)標(biāo)法的應(yīng)用消除儀器波動的影響在極譜分析過程中，儀器的波動和不穩(wěn)定性會對測量結(jié)果產(chǎn)生影響。內(nèi)標(biāo)法能夠有效抵消這些波動帶來的誤差。通過對比內(nèi)標(biāo)物質(zhì)與目標(biāo)物質(zhì)的響應(yīng)信號，可以校正因儀器波動而產(chǎn)生的偏差，進(jìn)而提高測量的準(zhǔn)確度。補(bǔ)償樣品基質(zhì)效應(yīng) 樣品基質(zhì)效應(yīng)是指樣品中其他成分對目標(biāo)分析物的影響，可能會導(dǎo)致信號衰減或增強(qiáng)，影響結(jié)果的準(zhǔn)確性。通過在樣品中添加內(nèi)標(biāo)物質(zhì)，并進(jìn)行信號比值的計(jì)算，提高低濃度成分的檢測靈敏度在分析中，目標(biāo)物質(zhì)的濃度通常較低，尤其是在環(huán)境監(jiān)測和食品安全檢測中。此時，極譜儀的靈敏度可能受到限制，難以獲得準(zhǔn)確的結(jié)果。內(nèi)標(biāo)法的操作步驟實(shí)施極譜儀內(nèi)標(biāo)法時，一般需要遵循以下步驟：選擇適合的內(nèi)標(biāo)物質(zhì) 內(nèi)標(biāo)物質(zhì)的選擇應(yīng)與目標(biāo)物質(zhì)具有相似的電化學(xué)特性，如氧還原電位接近，且不與樣品中其他成分發(fā)生干擾反應(yīng)。準(zhǔn)確添加內(nèi)標(biāo)物質(zhì) 內(nèi)標(biāo)物質(zhì)的濃度應(yīng)與樣品中的目標(biāo)物質(zhì)濃度相當(dāng)，過高或過低都會影響結(jié)果的精度。一般情況下，內(nèi)標(biāo)物質(zhì)的濃度應(yīng)為目標(biāo)物質(zhì)的1%至10%。信號采集與比值計(jì)算在極譜分析過程中，分別記錄目標(biāo)物質(zhì)和內(nèi)標(biāo)物質(zhì)的極譜信號。通過比值計(jì)算，消除由于樣品量、儀器條件波動等因素造成的影響。結(jié)果分析與校正通過分析目標(biāo)物質(zhì)與內(nèi)標(biāo)物質(zhì)的信號比值，可以進(jìn)一步校正數(shù)據(jù)，確保的分析結(jié)果更加準(zhǔn)確可靠。內(nèi)標(biāo)法的優(yōu)勢與局限內(nèi)標(biāo)法在極譜分析中具有許多顯著優(yōu)勢，首先是能夠有效消除因儀器波動和樣品基質(zhì)效應(yīng)帶來的誤差，確保分析結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。

2022-12-21 15:53:44多樣品組織研磨儀原理和操作使用步驟及實(shí)驗(yàn)效果案例: 　　實(shí)驗(yàn)室組織類樣品在進(jìn)行研磨前處理時，往往要將樣品分成少量多批次，這樣可以盡可能地滿足實(shí)驗(yàn)檢測要求，提高實(shí)驗(yàn)效率。為達(dá)到這樣的效果，我們需要用到組織研磨機(jī)?！　〗M織研磨機(jī)是高通量組織研磨儀搭配研磨適配器組成的，原本搭載的兩個球磨罐，替換成了可裝載多個離心管的研磨適配器，以實(shí)現(xiàn)少量多批次研磨的目標(biāo)。下面上海凈信就來詳細(xì)介紹下組織研磨機(jī)的工作原理及操作使用步驟?！　　　〗M織研磨機(jī)工作原理　　　　組織研磨機(jī)本質(zhì)上是二維振動球磨機(jī)，其工作區(qū)域有兩個搖臂，運(yùn)行時會做高頻次的“∞”形橫向水平擺動，高速運(yùn)動的搖臂會帶動研磨罐及罐內(nèi)研磨球，賦予其動能，研磨球?qū)悠愤M(jìn)行撞擊、擠壓和摩擦，實(shí)現(xiàn)樣品的精細(xì)研磨。　　　　相比于常規(guī)型號的設(shè)備，組織研磨機(jī)用研磨適配器替換了研磨罐，從而可以裝填更多樣品。研磨適配器是類似于離心管架的容器，內(nèi)部可以放置多個離心管，離心管內(nèi)部可以放置樣品及研磨球。設(shè)備運(yùn)行時，離心管內(nèi)的研磨球?qū)悠愤M(jìn)行撞擊、摩擦和擠壓，完成樣品的精細(xì)研磨?！　　　〗M織研磨機(jī)操作使用步驟　　　　1、將簡單處理的組織樣品和適量研磨球放入離心管中，然后將裝好樣品的離心管放入研磨適配器中?！　　　?、如果樣品需要低溫研磨，可先將裝有樣品的適配器放入液氮罐中冷凍降溫，幾分鐘后取出?！　　　?、將冷凍后的研磨適配器放在夾具中間，調(diào)整位置后利用自動中心定位的緊固裝置和安全鎖緊裝置進(jìn)行固定?！　　　?、蓋上設(shè)備倉蓋，通過液晶觸摸屏設(shè)置振動頻率、振動時間?！　　　?、啟動設(shè)備，開始對樣品進(jìn)行破碎研磨，可從觀察窗觀察研磨平臺運(yùn)行情況?！　　　?、等待研磨完成，打開倉蓋，取出樣品，關(guān)閉設(shè)備?！　　　〗M織研磨機(jī)實(shí)驗(yàn)效果案例：　　組織研磨對肺組織研磨效果圖　　組織研磨對柑橘研磨效果圖　　組織研磨對PCT材料研磨效果圖　　組織研磨對多孔材料研磨效果圖　　組織研磨對水凝膠研磨效果圖　　組織研磨對老鼠肝組織研磨效果圖　　　　以上就是對組織研磨機(jī)的工作原理和操作使用步驟的介紹，多樣品組織研磨機(jī)對于動物、植物組織樣品研磨、生物細(xì)胞破壁、DNA/RNA提取都有良好的處理效果，應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋農(nóng)業(yè)、食品、生物、環(huán)境等多個行業(yè)。

2022-03-21 11:09:11薄膜蒸發(fā)器的應(yīng)用及原理分析: 薄膜蒸發(fā)器是通過旋轉(zhuǎn)刮膜器強(qiáng)制成膜，并高速流動，熱傳遞效率高，停留時間短，可在真空條件下進(jìn)行降膜蒸發(fā)的一種新型蒸發(fā)器。是一種蒸發(fā)器的類型，特點(diǎn)是物料液體沿加熱管壁呈膜狀流動而進(jìn)行傳熱和蒸發(fā)，優(yōu)點(diǎn)是傳熱效率高，蒸發(fā)速度快，物料停留時間短，因此特別適合熱敏性物質(zhì)的蒸發(fā)。機(jī)組由蒸發(fā)器、汽液分離器、預(yù)熱器三個部件和一只簡易分離器組成，蒸發(fā)器為升膜式列管換熱器。該蒸發(fā)器具有生產(chǎn)能力大、效率高、物料受熱時間短等特點(diǎn)。適用于制藥、食品、化工等行業(yè)的稀溶液濃縮，本設(shè)備與物料接觸部分均采用不銹鋼制造，具有良好的耐腐蝕性能，經(jīng)久耐用，符合藥品衛(wèi)生要求。在熱交換工程中，刮板式薄膜蒸發(fā)器得到廣乏的應(yīng)用。尤其對熱敏性物料（時間短暫）的熱交換，刮膜器有利于熱交換的進(jìn)行，并通過不同的刮膜器設(shè)計(jì)，能進(jìn)行復(fù)雜產(chǎn)品的蒸餾。

2023-07-12 09:45:23手持合金分析儀產(chǎn)品特點(diǎn)及具體應(yīng)用: 　　手持合金分析儀也稱為手持合金光譜儀，主要用于現(xiàn)場、無損、快速、準(zhǔn)確分析檢測合金元素。手持XRF分析儀可以快速對元素進(jìn)行分析，短時間內(nèi)完成合金的牌號識別和分揀，加速完成廢料分揀和金屬制造過程中的檢測環(huán)節(jié)?！　∮捎谠谑ㄔO(shè)，金屬冶煉，壓力容器，電力電站，石油化工，精細(xì)化工，制藥，航空航天等行業(yè)中，混料或使用不合格的材料會產(chǎn)生嚴(yán)重的安全事故。所以在來料檢驗(yàn)時，需要進(jìn)行材料檢驗(yàn)和材料的管理，所以需要合金材料鑒別(PMI)。　　對于廢棄金屬材料回收鑒別時，需要利用便攜式的XRF合金分析儀來對多種繁雜的合金種類材質(zhì)進(jìn)行辨別，對此做出迅速、可靠的判定進(jìn)行分析?！　≡趯τ诮饘僦圃煨袠I(yè)中，材料的質(zhì)量保證是十分重要的，對于混料或使用不合格的材料會帶來損失。OLYMPUS 便攜式XRF 合金分析儀被廣泛用于從小型金屬材料加工廠到大型的飛機(jī)制造商的各種制造業(yè)。已成為質(zhì)量體系中材料確認(rèn)、半成品檢驗(yàn)、成品復(fù)檢的重要儀器?！　τ趶U棄金屬材料回收鑒別時，需要利用便攜式的XRF合金分析儀來對多種繁雜的合金種類材質(zhì)進(jìn)行辨別，對此做出迅速、可靠的判定進(jìn)行分析?！　∈殖趾辖鸱治鰞x的具體應(yīng)用　　應(yīng)用于軌道交通、航天航空、機(jī)械設(shè)備、能源化工、電子電氣、航海船舶、汽車制造、醫(yī)療器械、石油管道、兵器工業(yè)、核工業(yè)、鋼廠制造業(yè)、冶金制造、金屬材料、飛機(jī)制造、再生資源金屬等?！　≮A洲科技作為奧林巴斯一級品牌代理商，擁有完整的售前售后服務(wù)體系，如有儀器購買或維修需求，可聯(lián)系贏洲科技為您提供原裝零部件替換、維修。