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InGaN/GaN量子阱光致發(fā)光和電致發(fā)光特性的測試!
光譜測量設(shè)備采用的是卓立漢光公司自行組建的OmniPL組合式光致發(fā)光和電致發(fā)光測量系統(tǒng)。

測試原理
當(dāng)用大于半導(dǎo)體材料禁帶能量的激發(fā)光源照射到該半導(dǎo)體材料表面時(shí),就使半導(dǎo)體中電子從價(jià)帶躍遷至導(dǎo)帶,在其表面會(huì)產(chǎn)生過剩的非平衡載流子即電子-空穴對(duì)。它們通過不同的復(fù)合機(jī)構(gòu)進(jìn)行復(fù)合,產(chǎn)生光發(fā)射。溢出表面的發(fā)射光經(jīng)會(huì)聚進(jìn)入單色儀分光,然后經(jīng)探測器接受并放大,得到發(fā)光強(qiáng)度按光子能量分布的曲線,即光致發(fā)光譜。
實(shí)驗(yàn)設(shè)備
OmniPL組合式光致發(fā)光和電致發(fā)光測量系統(tǒng),包含30mWHeCd激光器325nm,Omni-λ500i影像校正光譜儀和PMT,探針樣品臺(tái)等部件,基于客戶的要求,本次系統(tǒng)采?用的空間光路搭建方案。

實(shí)驗(yàn)結(jié)果
1. 光致發(fā)光(PL)光譜測量分別針對(duì)材料的正極(紅色)和負(fù)極(綠色)測試得到光致發(fā)光光譜曲線如下,GaN的本征發(fā)光峰365nm附近以及黃帶,InGaN的發(fā)光峰475nm附近。

2. 電致發(fā)光(EL)光譜測量
將材料的接到直流電源的正負(fù)極,電壓加到2.5V時(shí)可以有明顯的藍(lán)光發(fā)射,測量其電致發(fā)光光譜曲線如下(紅色),峰值在475nm附近。(綠色曲線為另一個(gè)樣品ZnO的PL譜)!

結(jié)論:
OmniPL組合式光譜測量系統(tǒng)可以非常方便快捷的進(jìn)行PL/EL的測試,是一款性價(jià)比非常高的系統(tǒng);根據(jù)實(shí)際測試的需求,用戶不僅可以選擇空間光路,還可以選擇顯微光路,選裝低溫測量系統(tǒng),選裝PLmapping測試附件等,擴(kuò)展測量功能,在InGaN/GaN材料研究測試中發(fā)揮重要的作用。
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