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氧化硅是一種常用的礦物材料,從研磨劑到填料以至作為提高物性用的添加 劑,它有一個(gè)廣泛的使用范圍 高純度要求的打磨劑如 CMP 需要次微米級(jí)顆粒,通常使用沉淀法或發(fā)煙法加 工Z常用的或大顆粒的氧化硅,是把天然原料如砂石或石英進(jìn)行分類,研磨后再加工的 HORIBA 激光散射粒度分布分析儀 Horiba 激光散射粒度分布分析儀(LA-950V2)

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