HWCL-3集熱式恒溫磁力攪拌浴
集熱式恒溫磁力攪拌浴的用途特點(diǎn)：
l 可以用作水浴或油浴，使用溫度范圍為室溫+5℃～200℃；
l 采用316L不銹鋼材質(zhì)的加熱器；
l 浴槽內(nèi)二級攪拌裝置驅(qū)動浴液旋轉(zhuǎn)，受熱均勻；
l 品牌直流無刷電機(jī)，可長期連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)，使用壽命長；
l 耐高溫磁鐵，在200℃條件下磁性穩(wěn)定；
l 溫度控制采用PID方式，控溫精度高；
l 具有過電流保護(hù)、接地故障保護(hù)及過溫保護(hù)；
l 按鍵輸入和數(shù)字顯示，操作簡單；
l 內(nèi)置雙溫度傳感器，浴槽內(nèi)溫度和反應(yīng)容器內(nèi)溫度可轉(zhuǎn)換顯示。
集熱式恒溫磁力攪拌浴的技術(shù)參數(shù)：
型號 | HWCL-3 | |
使用溫度范圍（℃） | 水浴 | 室溫+5～95 |
油浴 | 室溫+5～200 | |
溫度穩(wěn)定性 (℃) | ±1 | |
溫度設(shè)定及顯示方式 | 按鍵輸入，LED顯示 | |
轉(zhuǎn)速設(shè)定方式 | 旋鈕設(shè)定 | |
轉(zhuǎn)速范圍(rpm) | 0～2000 | |
加熱器額定功率(W) | 500 | |
保護(hù)功能 | 過電流、接地故障及過溫保護(hù) | |
電源（V/Hz） | 110V~，60Hz或220V—240V~，50/60Hz | |
浴槽尺寸（mm） | φ220×110 | |
浴槽容積（L） | 4 | |
可放置的燒瓶(ml) | ≤3000 | |
外形尺寸(mm) | 260W×300D×440H | |
凈重(Kg) | 5 | |
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密閉高低溫循環(huán)裝置 動態(tài)流體溫度控制系統(tǒng)是利用熱力學(xué)及ARM-RTOS控制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)快速冷卻及加熱的全密閉型動態(tài)流體溫度控制系統(tǒng)；密閉循環(huán)系統(tǒng)有效隔絕傳熱流體與環(huán)境接觸；搭載智能型HMl控制系統(tǒng),操控便捷。具有多種安全保護(hù)功能、工作模式及溫度控制模式。
-80度低溫恒溫槽向外部提供恒溫冷源或者作為恒溫槽使用，適用于化學(xué)、生物、物理檢測等行業(yè)實(shí)驗(yàn)室以及大學(xué)、科研院所實(shí)驗(yàn)室，用于冷卻、加熱燒瓶、試管等反應(yīng)容器，也可以向其他設(shè)備提供冷熱源。
ZT密閉制冷加熱循環(huán)裝置用途特點(diǎn)：向外部提供熱源或冷源，適用于制藥、化工、生物、新材料等行業(yè)，應(yīng)用于反應(yīng)釜的溫度控制、材料測試中的溫度控制、工藝過程中溫度變化模擬控制、半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制、新能源電池包等熱測試平臺的溫度控制、真空室的溫度控制等。
50L雙層玻璃反應(yīng)釜主要用于物料合成、蒸餾、濃縮等實(shí)驗(yàn)。釜體結(jié)構(gòu)分為單層、雙層及三層三種類型。根據(jù)需要可將釜內(nèi)抽至負(fù)壓狀態(tài)，滿足實(shí)驗(yàn)條件。
低溫循環(huán)真空泵是在冷卻液循環(huán)泵和循環(huán)水式真空泵的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)上開發(fā)的產(chǎn)品。兼有冷卻液循環(huán)泵和真空泵的功能，可與旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀配套使用，提高蒸餾效率及溶劑回收率。
恒溫循環(huán)器可作為恒溫反應(yīng)的容器單獨(dú)使用，也可與電泳儀、電子探針等配套使用，提供溫度均勻的冷熱源。應(yīng)用于石油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化等研究部門、高等院校、工廠實(shí)驗(yàn)室及計(jì)量質(zhì)檢部門。
抽濾裝置中試規(guī)模的固液分離過程 ，不銹鋼框架，耐腐蝕 ，可選配不同規(guī)格濾芯。攪拌速度可調(diào)，加快液體間接觸，使物料充分混合，PTFE材質(zhì)旋塞式放料閥，放料速度可控。
超低溫恒溫?cái)嚢璺磻?yīng)浴向外部提供恒溫冷源或者作為恒溫槽使用，適用于化學(xué)、生物、物理檢測等行業(yè)實(shí)驗(yàn)室以及大學(xué)、科研院所實(shí)驗(yàn)室，用于冷卻、加熱燒瓶、試管等反應(yīng)容器，也可以向其他設(shè)備提供冷熱源。
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