HORIBA ICP OES Ultima Expert 

一款面向高難樣品分析的高性能電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，以高分辨率、寬波長覆蓋、強基體耐受性為核心優(yōu)勢，適配復雜基體與痕量 / 常量多元素同步分析

核心性能與設計亮點

1. 光學系統(tǒng)

• 1 米焦距 + 高密度全息光柵，120–320 nm 波段分辨率＜5 pm，可見區(qū)＜10 pm；可選雙光柵系統(tǒng)，120–450 nm 達＜6 pm，有效抑制譜線干擾。

• 波長覆蓋 160–800 nm，可選遠紫外套件拓展至 120 nm，適配鹵素等特殊元素分析。

• 獨有 Total Plasma View 全等離子觀測 + 徑向觀測，搭配 HiStab 穩(wěn)定裝置，兼顧低檢出限與長期穩(wěn)定性。

  
  

2. 基體耐受性與檢測能力

• 專利護套氣技術，可直接分析總溶解固體（TDS）含量達 30% 的高鹽 / 高固樣品，減少基體效應。

• 專利 HDD? 檢測系統(tǒng)，單次分析覆蓋亞 ppb 至百分比級濃度，動態(tài)范圍達 10 個數(shù)量級，痕量與常量元素同測。

  
  

3. 軟件與易用性

• 搭載 Analyst 軟件，提供方法開發(fā)向導、自動譜線選擇、干擾校正等功能，簡化復雜樣品分析流程。

• 支持自動進樣與遠程監(jiān)控，降低操作強度，提升實驗室效率。

  
  

適用場景

• 地質礦產(chǎn)、稀土材料、貴金屬等高譜線基體樣品

• 海水、鹵水、廢水等高鹽 / 高 TDS 樣品

• 半導體、高純材料中痕量雜質分析

• 環(huán)境、食品、醫(yī)藥中多元素常規(guī)與應急檢測

• 科研與第三方檢測實驗室的復雜樣品全分析需求

  
  

關鍵參數(shù)速覽

注意事項

1. 高鹽樣品分析前需確認護套氣與炬管維護周期，避免積鹽影響穩(wěn)定性。

2. 遠紫外分析需配套真空 / 惰性氣體吹掃模塊，保障鹵素等元素靈敏度。

3. 建議結合樣品類型選擇單 / 雙光柵配置，稀土等復雜基體優(yōu)先雙光柵方案。