美國 Gel-Pak Vertec? 芯片包裝盒
Gel-Pak 芯片包裝膠盒,芯片包裝盒
Gel-Pak 芯片包裝膠盒,Gel-Tray? 凝膠托盤
Gel Pak包裝盒
LABMAX 瓶口分液器外包裝盒,2-10mL
價格貨期電議
Gel-Box? 芯片包裝盒 AD 系列
上海伯東美國 Gel-Pak Gel-Box? 芯片包裝盒 AD 系列由一個塑料鉸鏈盒組成, 底部直接使用 Gel-Pak 凝膠 Gel 或無硅彈性體材料. 芯片包裝盒方便在運輸, 處理和加工的過程中固定器件. AD 系列芯片包裝盒適用于手動操作的情況下, 芯片或器件用真空吸筆, 鑷子或手指放到盒子中, 拾取方式同樣也是用吸筆, 鑷子或者手指.

Gel-Box? 芯片包裝盒應(yīng)用
1. 應(yīng)避免器件直接接觸頂部表面或邊緣
2. 使用鑷子或者真空吸筆拾取, 不適用在自動真空拾取設(shè)備中應(yīng)用
3. 不同尺寸器件可放在一個膠盒
4. 處理小型組件或大型組裝模塊
Gel-Box? 芯片包裝盒配置
1. 標(biāo)準(zhǔn)膠盒尺寸從 1" x 1"至 7" x 5"
2. 采用 Gel 膠或無硅彈性體材料
3. 可提供多種鉸鏈盒頂部 / 底部材料配置, 例如透明盒, 黑色導(dǎo)電盒, 透明防靜電盒
4. 可根據(jù)客戶要求定制
5. 多種可選的印刷網(wǎng)格模式
Gel Pak 膠膜的粘度
Gel Pak 膠膜的粘度根據(jù)需要分成超低, 低, 中, 高四擋, 用戶可以根據(jù)自己的產(chǎn)品情況選擇合適的粘度等級.
所有 Gel Pak 產(chǎn)品都符合 Rohs 和 Reach 的相關(guān)要求
* ER, EH, EH07 和 FE70 粘性水平是靜態(tài)耗散
美國 Gel-Pak 公司自 1980年成立以來一直致力于創(chuàng)新包裝產(chǎn)品的生產(chǎn), Gel-Pak 產(chǎn)品使用高交聯(lián)合聚合材料 Gel, 材料通過本身表面的張力來固定器件, 固定力等級取決于 Gel 產(chǎn)品的自身特性. 美國 Gel-Pak 晶圓包裝盒廣泛應(yīng)用于儲存和運輸半導(dǎo)體精密器件, 光電器件和其他精密器件等, 上海伯東是美國 Gel-Pak 芯片包裝膠盒中國總代理.
若您需要進一步的了解 Gel-Pak , 請聯(lián)絡(luò)上海伯東羅女士
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VIM-2 優(yōu)勢: 10 mbar(暖容器)~ 5×10?? mbar(低溫容器) 鋰電池供電(>3 小時續(xù)航),藍(lán)牙/Win 端遠(yuǎn)程操作 無電子穿透真空,抗腐蝕(1.4404/1.4034 不銹鋼) <1% 年漂移率,無需校準(zhǔn) 1s 響應(yīng)(快模式),內(nèi)置 1023 組數(shù)據(jù)記錄 1 個讀數(shù)頭可匹配多個傳感器,降低部署成本
超高精度:0.1 mbar至1×10?? mbar范圍內(nèi)達(dá)讀數(shù)±1% 100%線性壓力讀數(shù)(與氣體種類無關(guān)) 長期穩(wěn)定性:年漂移率<1.5% 不銹鋼傳感器抗腐蝕與沉積 安全潔凈測量:無污染/無熱輻射/無電離效應(yīng)
潤滑油
伯東公司日本原裝設(shè)計制造離子蝕刻機 IBE. 提供微米級刻蝕, 均勻性: ≤±5%, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料
伯東公司日本原裝進口小型離子蝕刻機, 適用于科研院所, 實驗室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.
伯東公司日本原裝進口小型離子蝕刻機, 適用于科研院所, 實驗室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.
上海伯東日本原裝進口適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實驗室研究的離子蝕刻機, 一般通氬氣 Ar, 內(nèi)部使用美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測當(dāng)前氣體成分, 判斷刻蝕情況.
Aston? 特性 實時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝 半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺, 提供實時, 可操作的數(shù)據(jù) 采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用 可與大批量生產(chǎn)工具完全集成 Aston? 作為一個強大的平臺, 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.