• 3D顯微鏡

  MV-1000/MV-7000系列3D顯微鏡結(jié)合高精度掃描和高精度算法，可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)到毫米級(jí)尺度的表面形貌分析，包含粗糙度、臺(tái)階、面形輪廓、曲率等多種參數(shù)。[詳細(xì)]

  2026-03-03 17:21

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 超高精度微納3D打印設(shè)備

  織雀?PL-3D 是托托科技自主研發(fā)的桌面式超高精度微納3D打印設(shè)備，光學(xué)精度達(dá)5μm。在復(fù)雜三維微納結(jié)構(gòu)、高深寬比微納結(jié)構(gòu)以及復(fù)合材料三維微納結(jié)構(gòu)制造方面具有突出的潛能和優(yōu)勢(shì)。[詳細(xì)]

  2025-01-22 15:14

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 無掩膜光刻機(jī)

  光刻機(jī)又名掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設(shè)備。其主要用途是生產(chǎn)集成電路，將設(shè)計(jì)好的集成電路模板復(fù)刻到硅晶圓上，從而生產(chǎn)出微小、精確、高效率的集成電路。 根據(jù)光刻機(jī)的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)和直寫式光刻機(jī)，其中直寫式光刻機(jī)又可以依據(jù)其是否需要使用掩膜版細(xì)分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機(jī)是一種不需要使用傳統(tǒng)掩膜版的光刻機(jī)，它通過直接對(duì)晶圓進(jìn)行曝光，實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，能夠更快速地制造特定產(chǎn)品、降低成本，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外，還能實(shí)現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩膜光刻機(jī)不需要掩膜版、高度靈活的優(yōu)點(diǎn)，使其被廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等領(lǐng)域。[詳細(xì)]

  2024-09-15 17:53

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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