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tousimis臨界點(diǎn)干燥儀
tousimis臨界點(diǎn)干燥儀
Quorum臨界點(diǎn)干燥儀
Quorum制造了一系列臨界點(diǎn)干燥機(jī),以滿足電子顯微鏡(EM)和其他應(yīng)用的需求。 Quorum臨界點(diǎn)干燥儀(有時(shí)稱為超臨界干燥)是一種在掃描電子顯微鏡(SEM)中進(jìn)行檢查之前對(duì)生物組織進(jìn)行脫水的既定方法。這項(xiàng)技術(shù)是由Polaron(Quorum的先驅(qū)者)于1971年S次引入的,用于制備SEM標(biāo)本,而Quorum E3100 臨界點(diǎn)干燥機(jī)仍然體現(xiàn)了包括水平腔室在內(nèi)的原始設(shè)計(jì)理念 。
美國(guó)臨界點(diǎn)干燥儀
Tousimis成立于1962年,擁有50余年的美國(guó)臨界點(diǎn)干燥儀(Critical Point Dryers, CPD)設(shè)備制造經(jīng)驗(yàn)。Tousimis自成立之初就一直致力于技術(shù)革新,引領(lǐng)著臨界點(diǎn)干燥設(shè)備行業(yè)的發(fā)展。Tousimis可提供直徑從1.25英寸到8英寸的晶片臨界點(diǎn)干燥儀,其因技術(shù)先進(jìn)、操作簡(jiǎn)便、可靠性高而世界,已在材料、化工、生物、制藥、MEMS器件、MOF、生物傳感器等領(lǐng)域
美國(guó)臨界點(diǎn)干燥儀
Tousimis成立于1962年,擁有50余年的美國(guó)臨界點(diǎn)干燥儀(Critical Point Dryers, CPD)設(shè)備制造經(jīng)驗(yàn)。Tousimis自成立之初就一直致力于技術(shù)革新,引領(lǐng)著臨界點(diǎn)干燥設(shè)備行業(yè)的發(fā)展。Tousimis可提供直徑從1.25英寸到8英寸的晶片臨界點(diǎn)干燥儀,其因技術(shù)先進(jìn)、操作簡(jiǎn)便、可靠性高而世界,已在材料、化工、生物、制藥、MEMS器件、MOF、生物傳感器等領(lǐng)域
SPI-DRY?臨界點(diǎn)干燥儀
SPI-DRY?臨界點(diǎn)干燥儀
美國(guó)Tousimis SAMDRI-795半自動(dòng)臨界點(diǎn)干燥儀