紫外光表面清洗技術(shù)在國際上是隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而提出來的。紫外光清洗技術(shù)是利用有機化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到"原子清潔度"。紫外臭氧清洗機是一款小型紫外臭氧清洗設(shè)備,可用于清洗各種單晶基片,以保證更好的成膜質(zhì)量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段,特別適合清除一些有機化合物。

對比

盡管有多種表面清洗和制程方法被提供進(jìn)行選擇，然而，相比于其它方法而言，紫外臭氧清洗有著明顯的優(yōu)勢。傳統(tǒng)的清洗方法包括干法清洗和濕法清洗兩種方式。

相較于濕法清洗，不會有有害的廢水產(chǎn)生。濕式清洗需要對化學(xué)廢水進(jìn)行處理。紫外臭氧處理相比于濕式清洗為一個完全干燥的過程。并且臭氧清除裝置會被配備于紫外臭氧清洗機內(nèi)，廢氣臭氧會在系統(tǒng)內(nèi)進(jìn)行分解，不會導(dǎo)致清潔室內(nèi)會有過高的臭氧含量從而使得危害產(chǎn)生。紫外臭氧清洗機也能夠被配置成連續(xù)加載的清洗線，并且能夠耦合DI水沖洗系統(tǒng)，將表面的顆粒徹底清除掉。

相較于干法清洗，基板充電有著較小的損傷。在等離子體處理中，一個嚴(yán)重的挑戰(zhàn)為離子轟擊引起的充電損傷。其會造成器件的電氣特性退化。表面處理為紫外臭氧處理所提供，氧自由基被使用，沒有等離子體放電，其對于等離子體蝕刻的替代十分經(jīng)濟(jì)有效，由于任何特殊的真空室、氣體或特殊設(shè)備其均不需要，因此其對于等離子體蝕刻的替代十分經(jīng)濟(jì)有效。