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PLGA工作站datasheet-microparticle-production-station
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PLGA工作站datasheet-microparticle-production-station
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2022-07-05 12:43
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- 電化學(xué)工作站/化學(xué)工作站/工作站型號:WHS-CS350WHS-CS350電化學(xué)工作站(電化學(xué)測試系統(tǒng))是集電化學(xué)分析方法和電化學(xué)測試方法于一體的電化學(xué)通用儀器,能完成循環(huán)伏安、階梯伏安、脈沖伏安、溶出伏安等電化學(xué)分析方法;還可以完成恒電流(位)極化、動電位(流)掃描、任意恒電流(位)方波,多恒電流(位)階躍、電化學(xué)噪聲(電偶電流)、電化學(xué)阻抗(EIS)等電化學(xué)測試等功能,還可以進(jìn)行線性掃描循環(huán)伏安(CV)、階梯波循環(huán)伏安(SCV)、方波循環(huán)伏安(SWV)、差分脈沖伏安(DPV)和常規(guī)脈沖伏安(NPV)以及差分常規(guī)脈沖伏安(DNPV)等電分析方法。測試系統(tǒng)控制與數(shù)據(jù)處理軟件是基于Windows98/2000/XP操作系統(tǒng)的,用戶界面遵守Windows軟件的設(shè)計(jì)規(guī)則,容易安裝和使用。系統(tǒng)軟件為方便使用者提供了強(qiáng)大的功能,包括文件管理、全面的實(shí)驗(yàn)控制、靈活的圖形顯示、方便的圖形放大和還原、多種數(shù)據(jù)處理功能、數(shù)據(jù)的存貯與打印等。系統(tǒng)軟件具有良好的用戶界面,命令行參數(shù)所用的電化學(xué)理論和方法都盡可能采用Z為通用的電化學(xué)方面的術(shù)語,全中文菜單和界面,更方便地為教學(xué)和科研服務(wù)。WHS-CS350可用于較大電流和較高槽壓的電化學(xué)測量和應(yīng)用,例如電池、電分析、腐蝕、電解、電鍍等。儀器由數(shù)字信號發(fā)生器(DDS)和直接數(shù)據(jù)存儲器(DMA)和恒電位儀/恒電流儀組成,電流/電位同步數(shù)據(jù)采集。儀器的電流輸出范圍為±2A,槽壓為±21V。電壓控制范圍:±10V;電流控制范圍:±2.0A;電流測量下限低于10pA。WHS-CS350電化學(xué)工作站采用恒電流階躍直接測量高阻體系介質(zhì)電阻(如混凝土或涂層等介質(zhì)電阻),可對溶液電阻進(jìn)行實(shí)時(shí)或軟件補(bǔ)償;可對測試曲線進(jìn)行數(shù)字平滑,能對極化曲線進(jìn)行電化學(xué)參數(shù)解析,可計(jì)算極化電阻Rp值,Tafel斜率ba,bc值,交換電流密度icorr,腐蝕速率,還可計(jì)算統(tǒng)計(jì)噪聲電阻Rn,并可將圖形以矢量方式拷貝到MicrosoftWord97/2000文檔中。CorrTestTM電化學(xué)工作站采用USB或RS232串行口與計(jì)算機(jī)通訊,設(shè)備安裝簡單,即插即用。外形尺寸:36.5cm(寬)30.5cm(深)16cm(高)儀器重量:6.5KgWHS-CS350電化學(xué)工作站技術(shù)指標(biāo)1、硬件參數(shù)指標(biāo)恒電位儀電位控制范圍:±10V電流控制范圍:±2.0A電位控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV電流控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)電位分辨率:10uV(>100Hz),2uV(<10Hz)電流分辨率:10pA電位上升時(shí)間:<1uS(<10mA),<10uS(<2A)輔助數(shù)據(jù)采集24位@10KHz參比電極輸入阻抗:1012歐姆||10F電流量程:2A~200nA,共8檔槽壓:21VCV和LSV掃描速度:0.01~20000mV/sCA和CC脈沖寬度:0.0001~1000s電位掃描時(shí)電位增量:0.1mV@1V/mSSWV頻率:1~100KHzDPV和NPV脈沖寬度:0.0001~1000sAD數(shù)據(jù)采集:16位@1MHz,24bit@100HzCV的Z小電位增量:0.01mV電位和電流測量低通濾波器電流與電位量程:自動和手動設(shè)置2、電化學(xué)阻抗測量指標(biāo)信號發(fā)生器頻率響應(yīng):10uHz~100kHz信號幅值:0mV~10V直流偏差:-10~+10V輸出阻抗:50歐姆波形:正弦波,三角波,方波正弦波失真:<1%掃描方式:對數(shù)/線性,增加/下降Zda負(fù)載電容:1nF;Zda負(fù)載電感:10uH信號分析器積分時(shí)間:Z小值:10mS或者一個循環(huán)的Z長時(shí)間Zda值:106個循環(huán)或者105S測量時(shí)間延遲:0~105秒直流偏置補(bǔ)償電位自動補(bǔ)償范圍:-10V~+10V電流補(bǔ)償范圍:-1A~+1A帶寬調(diào)整(Bandwidth):自動或手動設(shè)置,共8級可調(diào)WHS-CS350測量與控制軟件主要功能開路電位-時(shí)間曲線(OCPT)恒電位法(計(jì)時(shí)電流法,CA)恒電流法(計(jì)時(shí)電位法,CP)多電位階躍(VSTEP)多電流階躍(ISTEP)動電位掃描(極化曲線)線性極化(LPR)鈍化回掃曲線(按擊穿電流回掃)動電流掃描任意恒電位方波任意恒電流方波恒電流儀循環(huán)伏安法(CV)階梯伏安法(SCV)差分脈沖伏安法(DPV)常規(guī)脈沖伏安法(NPV)方波伏安法(SWV)交流伏安法(ACV)溶出伏安法常規(guī)差分脈沖伏安法(DNPV)電化學(xué)阻抗電化學(xué)噪聲測量電偶腐蝕測量氫滲透監(jiān)測腐蝕速率計(jì)算應(yīng)用領(lǐng)域1)研究電化學(xué)機(jī)理;物質(zhì)的定性定量分析;2)常規(guī)電化學(xué)測試,包括電合成、電鍍和電池性能評價(jià)。3)功能材料和能源材料的機(jī)理和制備研究;4)緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率快速評價(jià)以及氫滲測試等;5)金屬材料在導(dǎo)電性介質(zhì)(包括水/混凝土等環(huán)境)中的腐蝕電化學(xué)測試。系統(tǒng)配置每套工作站包括:1)儀器主機(jī)一臺;2)白金電極、參比電極、工作電極及專用電解池各一支(套);3)模擬電解池一個;4)USB數(shù)據(jù)線一條;5)噪聲測量專用電纜線一條;6)WHS-CS350測試與分析軟件CD一張。網(wǎng)址;www.51658042.com北京恒奧德儀器儀表有限公司聯(lián)系方式:010-51658042/51760331/51717696手機(jī):15010245973/15313176001/15313175998聯(lián)系人:李經(jīng)理地址:北京市海淀區(qū)阜城路42號院中裕商務(wù)花園6C-211傳真:010-51717696郵箱:hadgs2009@163.com網(wǎng)址:http://www.51658042.com。http://www.had200911.cn:http://had200911.b2b.hc360.com。54pc.com/netshow/20100104193745/QQ:1968156761116912188023626135142661074941[詳細(xì)]
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2018-09-24 10:02
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2014-09-16 00:00
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2024-09-29 07:59
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- BioX 1284 人工授精工作站 (IVF工作站)產(chǎn)品樣冊[詳細(xì)]
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2024-09-21 20:13
報(bào)價(jià)單
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微流控PLGA制備系統(tǒng) 資料一
- 此微流控PLGA制備系統(tǒng),采用乙酸乙酯作為溶劑,可制備出直徑在15-50μm之間的PLGA微粒,微粒直徑可控,且所制備微粒具有出色的單分散性(CV < 2%),此外,此系統(tǒng)基于液滴微流控技術(shù),可保證PLGA微粒的連續(xù)制備,且不受長期實(shí)驗(yàn)的影響。系統(tǒng)組成包含:2個壓力泵FLOW EZ,3個儲液池,2個3/2閥,2個流量傳感器,1個Raydrop液滴生成器,1個微滴數(shù)字高速顯微鏡。
PLGA(poly(lactic-co-glycolic acid)),中文名為聚乳酸-羥基乙酸共聚物,是一種由乳酸和羥基乙酸隨機(jī)聚合而成的高分子有機(jī)化合物,無毒,具有良好的生物相容性、成囊和成膜等性能,被廣泛應(yīng)用于制藥、醫(yī)用工程材料和現(xiàn)代化工業(yè)領(lǐng)域。此外,PLGA作為YY輔料被收錄進(jìn)美國藥典。
在用于藥物釋放及輸送的PLGA微粒制備中,微粒大小直接關(guān)系到微粒的降解速率以及藥物釋放速率,制備不同PLGA微粒大小顯得十分重要。目前常見的PLGA微粒生產(chǎn)方法,如溶劑萃取,溶劑蒸發(fā)或溶劑交換,存在微粒離散系數(shù)高、重復(fù)性差、制備條件苛刻等缺點(diǎn),而基于液滴微流控的PLGA制備方法,提供一個連續(xù)液滴制備過程,可以實(shí)現(xiàn)微尺度[詳細(xì)]
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2020-04-30 11:17
標(biāo)準(zhǔn)
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微流控PLGA制備系統(tǒng) 資料二
- 此微流控PLGA制備系統(tǒng),采用乙酸乙酯作為溶劑,可制備出直徑在15-50μm之間的PLGA微粒,微粒直徑可控,且所制備微粒具有出色的單分散性(CV < 2%),此外,此系統(tǒng)基于液滴微流控技術(shù),可保證PLGA微粒的連續(xù)制備,且不受長期實(shí)驗(yàn)的影響。系統(tǒng)組成包含:2個壓力泵FLOW EZ,3個儲液池,2個3/2閥,2個流量傳感器,1個Raydrop液滴生成器,1個微滴數(shù)字高速顯微鏡。
PLGA(poly(lactic-co-glycolic acid)),中文名為聚乳酸-羥基乙酸共聚物,是一種由乳酸和羥基乙酸隨機(jī)聚合而成的高分子有機(jī)化合物,無毒,具有良好的生物相容性、成囊和成膜等性能,被廣泛應(yīng)用于制藥、醫(yī)用工程材料和現(xiàn)代化工業(yè)領(lǐng)域。此外,PLGA作為YY輔料被收錄進(jìn)美國藥典。
在用于藥物釋放及輸送的PLGA微粒制備中,微粒大小直接關(guān)系到微粒的降解速率以及藥物釋放速率,制備不同PLGA微粒大小顯得十分重要。目前常見的PLGA微粒生產(chǎn)方法,如溶劑萃取,溶劑蒸發(fā)或溶劑交換,存在微粒離散系數(shù)高、重復(fù)性差、制備條件苛刻等缺點(diǎn),而基于液滴微流控的PLGA制備方法,提供一個連續(xù)液滴制備過程,可以實(shí)現(xiàn)微尺度[詳細(xì)]
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2020-04-30 11:18
標(biāo)準(zhǔn)
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微流控PLGA制備系統(tǒng) 資料三
- 此微流控PLGA制備系統(tǒng),采用乙酸乙酯作為溶劑,可制備出直徑在15-50μm之間的PLGA微粒,微粒直徑可控,且所制備微粒具有出色的單分散性(CV < 2%),此外,此系統(tǒng)基于液滴微流控技術(shù),可保證PLGA微粒的連續(xù)制備,且不受長期實(shí)驗(yàn)的影響。系統(tǒng)組成包含:2個壓力泵FLOW EZ,3個儲液池,2個3/2閥,2個流量傳感器,1個Raydrop液滴生成器,1個微滴數(shù)字高速顯微鏡。
PLGA(poly(lactic-co-glycolic acid)),中文名為聚乳酸-羥基乙酸共聚物,是一種由乳酸和羥基乙酸隨機(jī)聚合而成的高分子有機(jī)化合物,無毒,具有良好的生物相容性、成囊和成膜等性能,被廣泛應(yīng)用于制藥、醫(yī)用工程材料和現(xiàn)代化工業(yè)領(lǐng)域。此外,PLGA作為YY輔料被收錄進(jìn)美國藥典。
在用于藥物釋放及輸送的PLGA微粒制備中,微粒大小直接關(guān)系到微粒的降解速率以及藥物釋放速率,制備不同PLGA微粒大小顯得十分重要。目前常見的PLGA微粒生產(chǎn)方法,如溶劑萃取,溶劑蒸發(fā)或溶劑交換,存在微粒離散系數(shù)高、重復(fù)性差、制備條件苛刻等缺點(diǎn),而基于液滴微流控的PLGA制備方法,提供一個連續(xù)液滴制備過程,可以實(shí)現(xiàn)微尺度[詳細(xì)]
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2020-04-30 11:19
標(biāo)準(zhǔn)
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微流控PLGA制備系統(tǒng) 資料四
- 此微流控PLGA制備系統(tǒng),采用乙酸乙酯作為溶劑,可制備出直徑在15-50μm之間的PLGA微粒,微粒直徑可控,且所制備微粒具有出色的單分散性(CV < 2%),此外,此系統(tǒng)基于液滴微流控技術(shù),可保證PLGA微粒的連續(xù)制備,且不受長期實(shí)驗(yàn)的影響。系統(tǒng)組成包含:2個壓力泵FLOW EZ,3個儲液池,2個3/2閥,2個流量傳感器,1個Raydrop液滴生成器,1個微滴數(shù)字高速顯微鏡。
PLGA(poly(lactic-co-glycolic acid)),中文名為聚乳酸-羥基乙酸共聚物,是一種由乳酸和羥基乙酸隨機(jī)聚合而成的高分子有機(jī)化合物,無毒,具有良好的生物相容性、成囊和成膜等性能,被廣泛應(yīng)用于制藥、醫(yī)用工程材料和現(xiàn)代化工業(yè)領(lǐng)域。此外,PLGA作為YY輔料被收錄進(jìn)美國藥典。
在用于藥物釋放及輸送的PLGA微粒制備中,微粒大小直接關(guān)系到微粒的降解速率以及藥物釋放速率,制備不同PLGA微粒大小顯得十分重要。目前常見的PLGA微粒生產(chǎn)方法,如溶劑萃取,溶劑蒸發(fā)或溶劑交換,存在微粒離散系數(shù)高、重復(fù)性差、制備條件苛刻等缺點(diǎn),而基于液滴微流控的PLGA制備方法,提供一個連續(xù)液滴制備過程,可以實(shí)現(xiàn)微尺度[詳細(xì)]
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2020-04-30 11:20
標(biāo)準(zhǔn)
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2002-12-30 00:00
實(shí)驗(yàn)操作
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2008-08-28 00:00
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陣列制作工作站
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2011-12-31 00:00
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2011-12-31 00:00
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2014-05-21 00:00
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2015-08-25 00:00
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